[發(fā)明專利]運(yùn)動(dòng)物體空間坐標(biāo)信息探測(cè)方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201510063280.5
• 申請(qǐng)日: 2015-02-06
• 公開（公告）號(hào): CN104713530B
• 公開（公告）日: 2016-11-23
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 于存貴;玄柳;李宗濤;黃超;李志剛;王志翔;趙純;陳帥;魏浩;汪國(guó)梁;邵培
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 南京理工大學(xué)
• 主分類號(hào): G01C15/00
• 分類號(hào): G01C15/00
• 代理公司: 南京理工大學(xué)專利中心 32203
• 代理人: 朱顯國(guó)

1.一種運(yùn)動(dòng)物體空間坐標(biāo)信息探測(cè)方法，其特征在于：包括以下步驟：

步驟一：被測(cè)物體(1)的表面為平面或弧面，要探測(cè)的特征點(diǎn)(2)位于被測(cè)物體(1)的表面，在被測(cè)物體(1)的表面設(shè)置兩個(gè)凸起標(biāo)志，其中一個(gè)凸起標(biāo)志呈豎直方向，為豎直凸起標(biāo)志(3)，另一個(gè)凸起標(biāo)志呈水平方向，為水平凸起標(biāo)志(4)，兩凸起標(biāo)志相互垂直，且豎直凸起標(biāo)志(3)的延長(zhǎng)線穿過特征點(diǎn)(2)；

步驟二：在兩凸起標(biāo)志相對(duì)應(yīng)的位置分別設(shè)置有2D激光位移傳感器(5)，兩2D激光位移傳感器(5)的位置固定，初始狀態(tài)下，兩2D激光位移傳感器(5)的激光扇面(6)垂直于相應(yīng)的凸起標(biāo)志，兩2D激光位移傳感器(5)的視場(chǎng)中心線(7)穿過相應(yīng)的凸起標(biāo)志，兩2D激光位移傳感器(5)與相應(yīng)的凸起標(biāo)志的安裝距離為d，且兩2D激光位移傳感器(5)的連線平行于豎直凸起標(biāo)志(3)；

步驟三：被測(cè)物體(1)能做沿三個(gè)方向的平動(dòng)，其運(yùn)動(dòng)范圍在2D激光位移傳感器(5)的探測(cè)范圍內(nèi)，并保證被測(cè)物體(1)在運(yùn)動(dòng)過程中，兩凸起標(biāo)志與相應(yīng)的2D激光位移傳感器(5)的激光扇面(6)存在交點(diǎn)；

步驟四：被測(cè)物體(1)在運(yùn)動(dòng)過程中，豎直凸起標(biāo)志(3)與相對(duì)應(yīng)的2D激光位移傳感器(5)的激光扇面(6)交點(diǎn)為A，A到視場(chǎng)中心線(7)的距離為x₁，A到2D激光位移傳感器(5)的距離為y₁；水平凸起標(biāo)志(4)與相對(duì)應(yīng)的2D激光位移傳感器(5)的激光扇面(6)交點(diǎn)為B，B到視場(chǎng)中心線(7)的距離為x₂，B到2D激光位移傳感器(5)的距離為y₂；

步驟五：設(shè)初始狀態(tài)下，被測(cè)物體(1)的特征點(diǎn)(2)的空間坐標(biāo)為(0，0，0)，則被測(cè)物體(1)在運(yùn)動(dòng)過程中，其特征點(diǎn)(2)的空間坐標(biāo)為(x₁，(y₁+y₂)/2-d，x₂)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的運(yùn)動(dòng)物體空間坐標(biāo)信息探測(cè)方法，其特征在于：所述的步驟四中采集數(shù)據(jù)時(shí)，設(shè)凸起標(biāo)志的高為h、寬為b，由于凸起標(biāo)志有寬度，則2D激光位移傳感器(5)所測(cè)得的凸起標(biāo)志的到2D激光位移傳感器(5)的距離y所對(duì)應(yīng)的凸起標(biāo)志在激光扇面上的點(diǎn)到視場(chǎng)中心線的距離x的集合，集合中最小值為x_min、最大值為x_max，則箭體凸起標(biāo)志到2D激光位移傳感器(5)的距離的實(shí)際y₀為y+h，凸起標(biāo)志在激光扇面上的點(diǎn)到視場(chǎng)中心線的實(shí)際距離x₀為(x_min+x_max)/2；將(x_max-x_min)與b進(jìn)行比較，若(x_max-x_min)與b相等，則說明所測(cè)數(shù)據(jù)為箭體凸起標(biāo)志坐標(biāo)；若(x_max-x_min)與b不相等，則說明所測(cè)數(shù)據(jù)為干擾點(diǎn)坐標(biāo)。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的運(yùn)動(dòng)物體空間坐標(biāo)信息探測(cè)方法，其特征在于：所述的豎直凸起標(biāo)志(3)和水平凸起標(biāo)志(4)分布于被測(cè)物體(1)的特征點(diǎn)(2)的上下兩側(cè)。