[發明專利]等離子體處理容器和等離子體處理裝置有效
| 申請號: | 201510062189.1 | 申請日: | 2009-04-09 |
| 公開(公告)號: | CN104681388B | 公開(公告)日: | 2018-03-27 |
| 發明(設計)人: | 出口新悟 | 申請(專利權)人: | 東京毅力科創株式會社 |
| 主分類號: | H01J37/32 | 分類號: | H01J37/32 |
| 代理公司: | 北京尚誠知識產權代理有限公司11322 | 代理人: | 龍淳 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 等離子體 處理 容器 裝置 | ||
1.一種等離子體處理容器,其形成收納被處理體而進行等離子體處理的處理室,其特征在于,具有:
接合多個容器構成部件而形成的容器主體;
配設在所述容器構成部件間的接合部分的第一密封部件;
安裝在所述容器主體的內面而保護所述容器主體的能夠拆裝的保護部件,
在所述容器構成部件間的接合部分設有通過將所述保護部件從所述處理室內部插入直至到達所述第一密封部件的位置、由此遮斷等離子體或腐蝕性氣體或者其兩者、并使所述第一密封部件和所述保護部件在整個圓周抵接而進行密封的第一密封部,
以包圍所述第一密封部件和所述保護部件的周緣部的方式在該第一密封部件和所述保護部件的周緣部的外側設有在所述容器構成部件間直接介入第二密封部件的第二密封部,所述保護部件的周緣部位于所述第一密封部件與所述第二密封部件之間,
通過所述第一密封部遮斷等離子體以及/或者腐蝕性氣體,通過所述第二密封部維持所述容器主體的氣密性。
2.如權利要求1所述的等離子體處理容器,其特征在于,
所述保護部件嵌入在形成于所接合的兩個部件中的一個部件的凹部中,使所述部件間的接合面和所述保護部件的表面形成為同一面,所述第一密封部件和所述第二密封部件嵌入在分別設置于所述所接合的兩個部件中的另一個部件的槽部。
3.一種等離子體處理容器,其形成收納被處理體而進行等離子體處理的處理室,其特征在于,具有:
接合多個容器構成部件而形成的容器主體;
配設在所述容器構成部件間的接合部分的第一密封部件;
安裝在所述容器主體的內面而保護所述容器主體的能夠拆裝的保護部件;
在所述容器構成部件間的接合部分,以包圍所述第一密封部件和所述保護部件的周緣部的方式在所述第一密封部件和所述保護部件的周緣部的外側配設的第二密封部件,所述第一密封部件和所述第二密封部件嵌入在分別設置于所接合的兩個部件中的一個部件的槽部,
在所述容器構成部件間的接合部分設有:通過將所述保護部件從所述處理室內部插入直至到達所述第一密封部件的位置、由此遮斷等離子體或腐蝕性氣體或者其兩者、并使所述第一密封部件和所述保護部件抵接而進行密封的第一密封部;和在所述容器構成部件間直接介入所述第二密封部件的第二密封部,所述保護部件的周緣部位于所述第一密封部件與所述第二密封部件之間,
通過所述第一密封部遮斷等離子體以及/或者腐蝕性氣體,通過所述第二密封部維持所述容器主體的氣密性。
4.如權利要求3所述的等離子體處理容器,其特征在于,
所述保護部件嵌入在形成于所述所接合的兩個部件中的另一個部件的凹部中,使所述部件間的接合面和所述保護部件的表面形成為同一面。
5.一種等離子體處理裝置,其特征在于,具有權利要求1~4中任一項所述的等離子體處理容器。
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