[發(fā)明專利]振動元件及其制造方法、電子裝置、電子設(shè)備、移動體在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201510057110.6 | 申請日: | 2015-02-03 |
| 公開(公告)號: | CN104836545A | 公開(公告)日: | 2015-08-12 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 市川史生 | 申請(專利權(quán))人: | 精工愛普生株式會社 |
| 主分類號: | H03H9/21 | 分類號: | H03H9/21;H03H9/02;H03H3/02 |
| 代理公司: | 北京金信知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11225 | 代理人: | 黃威;蘇萌萌 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 振動 元件 及其 制造 方法 電子 裝置 電子設(shè)備 移動 | ||
1.一種振動元件的制造方法,其特征在于,所述振動元件具備:
振動臂;
槽部,其被設(shè)置在所述振動臂上;
第一厚壁部和第二厚壁部,在俯視觀察所述振動臂的情況下,所述第一厚壁部在與所述振動臂的延伸方向交叉的方向上被設(shè)置在所述槽部的一側(cè),第二厚壁部被設(shè)置在與所述一側(cè)相反的一側(cè),
所述振動元件的制造方法包括:
保護(hù)層形成工序,其在基板上設(shè)置第一保護(hù)層和第二保護(hù)層,所述第一保護(hù)層用于形成所述第一厚壁部,所述第二保護(hù)層用于形成所述第二厚壁部;
在具備干蝕刻用的能量線射出部的裝置上配置所述基板的工序;
利用從所述能量線射出部射出的能量線,對如下的所述基板進(jìn)行蝕刻的工序,所述基板為,在俯視觀察所述基板時相對于所述能量線射出部的中心與所述基板交叉的交點而在一側(cè)配置有所述第一保護(hù)層以及所述第二保護(hù)層的基板,
其中,當(dāng)所述交點與所述第一保護(hù)層之間的距離短于所述交點與所述第二保護(hù)層之間的距離時,與所述振動臂的延伸方向交叉的所述第一保護(hù)層的寬度窄于與所述振動臂的延伸方向交叉的所述第二保護(hù)層的寬度。
2.如權(quán)利要求1所述的振動元件的制造方法,其特征在于,包括:
在俯視觀察所述基板時的所述第一保護(hù)層與所述第二保護(hù)層之間設(shè)置第三保護(hù)層,并利用所述能量線而形成所述振動臂的外形的至少一部分的工序。
3.如權(quán)利要求1所述的振動元件的制造方法,其特征在于,包括:
在所述保護(hù)層形成工序之前,設(shè)置用于形成所述振動臂的外形的第三保護(hù)層,并利用所述能量線而形成所述振動臂的外形的至少一部分的工序。
4.如權(quán)利要求1所述的振動元件的制造方法,其特征在于,
所述基板為水晶基板。
5.如權(quán)利要求2所述的振動元件的制造方法,其特征在于,
所述基板為水晶基板。
6.如權(quán)利要求3所述的振動元件的制造方法,其特征在于,
所述基板為水晶基板。
7.如權(quán)利要求4所述的振動元件的制造方法,其特征在于,
所述振動臂的延伸方向與所述水晶基板的Y軸方向一致。
8.如權(quán)利要求5所述的振動元件的制造方法,其特征在于,
所述振動臂的延伸方向與所述水晶基板的Y軸方向一致。
9.如權(quán)利要求6所述的振動元件的制造方法,其特征在于,
所述振動臂的延伸方向與所述水晶基板的Y軸方向一致。
10.一種振動元件,其特征在于,具備:
振動臂;
槽部,其被設(shè)置在所述振動臂上,
第一厚壁部和第二厚壁部,在俯視觀察所述振動臂的情況下,所述第一厚壁部在與所述振動臂的延伸方向交叉的方向上設(shè)置在所述槽部的一側(cè),所述第二壁厚部設(shè)置在與所述一側(cè)相反的一側(cè),
所述第一厚壁部的寬度窄于所述第二厚壁部的寬度,
在與所述振動臂的延伸方向交叉的截面中觀察時,在所述第一厚壁部的外側(cè)面設(shè)有傾斜部。
11.一種電子裝置,其特征在于,具備:
權(quán)利要求10所述的振動元件;
電路元件。
12.一種電子設(shè)備,其特征在于,
具備權(quán)利要求10所述的振動元件。
13.一種移動體,其特征在于,
具備權(quán)利要求10所述的振動元件。
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