[發明專利]一種井下巷道防塵凈化裝置

在審

• 申請號: 201510055106.6
• 申請日: 2015-02-03
• 公開（公告）號: CN104594940A
• 公開（公告）日: 2015-05-06
• 發明（設計）人: 馮國海;朱慎強;李漢平
• 申請（專利權）人: 淮北礦業股份有限公司
• 主分類號: E21F5/04
• 分類號: E21F5/04
• 代理公司: 無
• 代理人: 無

技術領域

本發明涉及礦井防塵技術領域，尤其是一種井下巷道防塵凈化裝置。

背景技術

在掘進巷道放炮后、噴漿或者工作面回采時，巷道內粉塵較大，職工的工作環境較差，容易得矽肺病等呼吸道疾病，因此采用井下巷道防塵凈化裝置降塵，改善工人的工作環境十分必要。

發明內容

本發明所要解決的技術問題是提供一種濕潤除塵的井下巷道防塵凈化裝置。

為了實現上述目的，本發明采取的技術方案為：一種井下巷道防塵凈化裝置，包括上部呈扇形的水幕框架和設置在井下巷道頂部的旋轉噴頭，所述水幕框架的扇形部分設置窗紗，所述井下巷道的側壁上間隔設置噴頭和風筒，所述風筒通過電纜與井下水管連接可對噴頭進行導向作用。

優選的，所述旋轉噴頭的下方設置可覆蓋旋轉噴頭噴灑面積的蓄水槽，所述蓄水槽的底部開引流槽通至井下巷道具有的水槽。

優選的，所述水幕框架上粘貼反光紙。

優選的，所述窗紗為塑料窗紗。

本發明的有益效果是：本發明中的水幕框架可根據巷道尺寸加工再帶到井下安裝，從而安裝方便。井下巷道的側壁上間隔設置的噴頭和風筒通過風筒對噴頭的導向作用可使噴頭噴射的液體在窗紗上形成水簾幕。在水幕框架附近的井下巷道設置的旋轉噴頭可以增加水幕框架上的水流量，進一步降低粉塵濃度，增加水幕的凈化效果。在水幕框架安裝好后，為了減少水對井下巷道地板的浸泡，在旋轉噴頭的下方設置可覆蓋旋轉噴頭噴灑面積的蓄水槽，所述蓄水槽的底部開引流槽通至井下巷道具有的水槽。這樣當職工在巷道內施工作業時，打開防塵凈化水幕水閥，水幕上方噴霧管路和旋轉噴頭同時噴水，水噴到窗紗上后形成水幕，當含有高濃度粉塵的風流通過水幕時得到了凈化，降低了風流中的粉塵濃度，凈化了空氣，從而改善了職工的工作環境。通過設置本井下巷道防塵凈化水幕，由于使用了塑料窗紗，所以制造成本大約為500元，卻能能凈化60％的粉塵，大大降低了粉塵濃度，改善職工的工作環境，減少矽肺病等呼吸道疾病的發生，具有顯著的經濟效益。

附圖說明

圖1為本發明一種井下巷道防塵凈化裝置的結構示意圖；

其中：1.井下巷道、?2.水幕框架、3.噴頭、4.井下水管、5.蓄水槽、6.引流槽、7.水槽、8.旋轉噴頭、9.窗紗、10.風筒。

具體實施方式

為了加深對本發明的理解，下面將結合實施例和附圖對本發明作進一步描述，該實施例僅用于解釋本發明，并不構成本發明保護范圍的限定。

下面結合附圖1詳細說明本發明的優選實施方式：一種井下巷道防塵凈化裝置，包括上部呈扇形的水幕框架2和設置在井下巷道1頂部的旋轉噴頭8，所述水幕框架2的扇形部分設置窗紗9，所述井下巷道1的側壁上間隔設置噴頭3和風筒10，所述風筒10通過電纜與井下水管4連接可對噴頭3進行導向作用。

在本發明中旋轉噴頭8的下方設置可覆蓋旋轉噴頭8噴灑面積的蓄水槽5，所述蓄水槽5的底部開引流槽6通至井下巷道具有的水槽7。在本發明中水幕框架2上粘貼反光紙。本發明中的窗紗9為塑料窗紗。

本發明中的水幕框架2可根據巷道尺寸加工再帶到井下安裝，從而安裝方便。井下巷道1的側壁上間隔設置的噴頭3和風筒10通過風筒10對噴頭3的導向作用可使噴頭3噴射的液體在窗紗9上形成水簾幕。在水幕框架2附近的井下巷道1設置的旋轉噴頭8可以增加水幕框架2上的水流量，進一步降低粉塵濃度，增加水幕的凈化效果。在水幕框架2安裝好后，為了減少水對井下巷道地板的浸泡，在旋轉噴頭8的下方設置可覆蓋旋轉噴頭8噴灑面積的蓄水槽5，所述蓄水槽5的底部開引流槽6通至井下巷道1具有的水槽7。這樣當職工在巷道內施工作業時，打開防塵凈化水幕水閥，水幕上方噴頭3和旋轉噴頭8同時噴水，水噴到窗紗9上后形成水幕，當含有高濃度粉塵的風流通過水幕時得到了凈化，降低了風流中的粉塵濃度，凈化了空氣，從而改善了職工的工作環境。通過設置本井下巷道防塵凈化水幕，由于使用了塑料窗紗，所以制造成本大約為500元，卻能能凈化60％的粉塵，大大降低了粉塵濃度，改善職工的工作環境，減少矽肺病等呼吸道疾病的發生，具有顯著的經濟效益。

以上所述的僅是本發明的優選實施方式，應當指出，對于本領域的普通技術人員來說，在不脫離本發明創造構思的前提下，還可以做出若干變形和改進，這些都屬于本發明的保護范圍。