[發明專利]一種復合晶粒高耐磨氧化鋯陶瓷原料粉體及其制備工藝

有效

• 申請號: 201510052359.8
• 申請日: 2015-02-02
• 公開（公告）號: CN104591731B
• 公開（公告）日: 2017-01-25
• 發明（設計）人: 鄭煒;徐衛東
• 申請（專利權）人: 廈門智中精密研磨科技有限公司
• 主分類號: C04B35/48
• 分類號: C04B35/48;C04B35/626
• 代理公司: 深圳市合道英聯專利事務所(普通合伙)44309
• 代理人: 鄧貴琴,廉紅果

1.一種復合晶粒高耐磨氧化鋯陶瓷原料粉體，其特征是：包括主料及釔穩定的氧化鋯熟料，釔穩定的氧化鋯熟料與主料的重量比為1：5～20；其中：主料為氧氯化鋯和硝酸釔的組合物，氧氯化鋯與硝酸釔的摩爾比為97:3。

2.根據權利要求1所述的一種復合晶粒高耐磨氧化鋯陶瓷原料粉體，其特征是：釔穩定的氧化鋯熟料的制備方法為：含釔3mol％的釔穩定氧化鋯經1450～1750℃煅燒3-5小時，然后經破碎，過篩所得。

3.根據權利要求2所述的一種復合晶粒高耐磨氧化鋯陶瓷原料粉體，其特征是：釔穩定的氧化鋯熟料的粒徑為20～80um。

4.根據權利要求3所述的一種復合晶粒高耐磨氧化鋯陶瓷原料粉體，其特征是：釔穩定的氧化鋯熟料由以下粒徑的熟料按重量百分比組成：粒徑20～30um的熟料20％、粒徑30～40um的熟料60％、粒徑40～60um的熟料10％及粒徑60-80um的熟料10％。

5.如權利要求1至4任一項所述的一種復合晶粒高耐磨氧化鋯陶瓷原料粉體的制備工藝，其特征是：按以下步驟進行：

(1)將氧氯化鋯、硝酸釔、聚乙二醇攪拌溶于去離子水，制備成溶液A，其中聚乙二醇與主料的重量比為1：100～800，去離子水與氧氯化鋯、硝酸釔、聚乙二醇的組合物的重量比為1：0.45～0.85；

將碳酸氫氨與去離子水配制成質量百分濃度為15-20％的溶液，得到溶液B；

將平平加與去離子水配制成質量百分濃度為10％的溶液，得到溶液C；溶液C與溶液A的體積比為1：5～20；

(2)先將釔穩定的氧化鋯熟料，與去離子水加到帶攪拌器的反應釜中，攪拌，然后同時滴加溶液A和溶液B，進行共沉淀反應；

調節溶液B的滴加速度，控制pH＝8.5～10，反應結束后，繼續攪拌并滴加溶液C；

(3)溶液C滴加完后，攪拌，然后采用去離子水水洗處理，烘干、煅燒，最后粉碎即可。

6.如權利要求5所述的一種復合晶粒高耐磨氧化鋯陶瓷原料粉體的制備工藝，其特征在于：所述烘干的溫度為120～180℃，時間為3～5小時。

7.如權利要求5所述的一種復合晶粒高耐磨氧化鋯陶瓷原料粉體的制備工藝，其特征在于：所述煅燒的溫度為850～1050℃，時間為3～5小時。

8.如權利要求5所述的一種復合晶粒高耐磨氧化鋯陶瓷原料粉體的制備工藝，其特征在于：所述水洗處理為水洗至當量濃度為0.1N的硝酸銀溶液檢測無氯離子。