[發明專利]一種凈化曝光裝置

有效

• 申請號: 201510045211.1
• 申請日: 2015-01-28
• 公開（公告）號: CN105988296B
• 公開（公告）日: 2017-12-29
• 發明（設計）人: 王強;吳庭溪;鄧潔;朱海峰
• 申請（專利權）人: 南通大學
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 南京同澤專利事務所(特殊普通合伙)32245
• 代理人: 蔡晶晶

1.一種凈化曝光裝置，包括凈化工作臺，以及置于該凈化工作臺內的曝光機、光刻膠顯影液槽、漂洗液槽，所述的凈化工作臺包括工作腔體、進氣系統、排氣系統，所述進氣系統包括位于工作腔體頂部的進氣腔，進氣腔與工作腔體連接處布置有散流板；所述排氣系統包括位于工作腔體下方的排氣腔，排氣腔的后側設置有用于和抽氣設備連接的排氣口；所述工作腔體的前端部設置有隔斷低壓腔，所述隔斷低壓腔具有供操作人員伸手進入工作腔體內部的操作通道，所述隔斷低壓腔的底部與排氣腔連通; 所述操作通道的上部設置有擋塊，擋塊靠近工作腔體一側設置有朝向工作腔體內側的第一引流面，擋塊靠近操作人員一側設置有朝向操作人員的第二引流面，所述第一、第二引流面在擋塊的最低處相接,呈現倒V型，工作腔體內的氣體和外界大氣分別在第一、第二引流面的引流作用下形成向下流動的趨勢。

2.根據權利要求1所述的凈化曝光裝置，其特征在于：所述凈化工作臺的工作腔體下方具有底座，所述光刻膠顯影液槽、漂洗液槽嵌在該底座內。

3.根據權利要求2所述的凈化曝光裝置，其特征在于：所述底座上設置有用于承載硅片的曝光臺，所述曝光機位于曝光臺的上方。

4.根據權利要求2所述的凈化曝光裝置，其特征在于：所述底座設置有用于遮擋曝光機光線的擋板，工作腔體內還設置有將曝光機與光刻膠顯影液槽隔開的電動門。

5.根據權利要求1所述的凈化曝光裝置，其特征在于：所述隔斷低壓腔內的氣壓范圍為0.9-0.7個大氣壓。