[發明專利]陣列基板以及顯示裝置在審
| 申請號: | 201510041303.2 | 申請日: | 2015-01-27 |
| 公開(公告)號: | CN104536174A | 公開(公告)日: | 2015-04-22 |
| 發明(設計)人: | 董廷澤;黃東升;張大偉;張千;陳召;莫駿 | 申請(專利權)人: | 京東方科技集團股份有限公司;北京京東方光電科技有限公司 |
| 主分類號: | G02F1/13 | 分類號: | G02F1/13;G02F1/1337 |
| 代理公司: | 北京天昊聯合知識產權代理有限公司 11112 | 代理人: | 彭瑞欣;陳源 |
| 地址: | 100015 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 陣列 以及 顯示裝置 | ||
技術領域
本發明屬于顯示技術領域,具體涉及一種陣列基板以及顯示裝置。
背景技術
液晶顯示裝置(Liquid?Crystal?Display,簡稱LCD)是目前平板顯示裝置中應用最為廣泛的一種。液晶顯示裝置的主要構成部件是液晶面板,液晶面板主要包括彩膜基板、陣列基板以及設置于二者之間的液晶。陣列基板中設置有薄膜晶體管(Thin?Film?Transistor,簡稱TFT),通過與薄膜晶體管相連的像素電極產生電場,從而實現對液晶的驅動控制,實現圖像顯示。
在液晶面板中,為了獲得均勻的液晶分子排列以及初始方向,需要對液晶進行取向,現有技術一般通過取向膜控制液晶分子的初始取向。取向膜設置于彩膜基板和陣列基板朝向液晶層的一側,并經過摩擦工藝使取向層具有取向能力。摩擦工藝中,通常利用外表面包覆有摩擦絨布的摩擦輥輪,在取向層上沿設定的方向滾動,通過絨布對取向層施加摩擦力,從而在取向層表面形成方向一致的取向槽,以使液晶分子沿著取向槽按照一定的方向排列,實現液晶取向。
在摩擦工藝中,摩擦輥輪對取向層施加垂直方向的壓力,因此被摩擦面的平整度(或者平坦度)對取向槽的深度影響很大,如果被摩擦面的表面某處存在高度差,則摩擦絨布纖維將產生不一致的形變,進而導致被摩擦面上產生深淺不一致的取向槽。然而,在液晶面板的用于圖像顯示的顯示區和包圍于顯示區外圍的非顯示區通常具有不同的平坦度。一般情況下,彩膜基板和陣列基板對應著顯示區的區域較為平坦;而在非顯示區,尤其是陣列基板,由于陣列基板薄膜晶體管與驅動芯片的布線原因,會導致非顯示區形成包括多個不同高度的工藝段差;同時,為保證產品良率,如圖1所示,通常還在非顯示區中設置測試盤31(Test?Pad),測試盤31的結構與TFT的結構僅部分相同;同時,測試盤31還會根據需要設置相應的測試過孔32,通過測試過孔32加載驅動信號,以便在關鍵工藝后對TFT陣列進行測試。在測試盤31中設置測試過孔32時,測試過孔32與陣列基板中各工藝層會形成較大的段差。
當該陣列基板采用摩擦工藝進行摩擦取向時,摩擦絨布受基板表面較大段差的影響會產生不同的形變,因為絨布纖維形變具有一定的累加性(或叫記憶性),由段差造成的纖維形變若得不到及時緩解,一方面會使絨布的利用率和使用壽命大幅降低,導致被摩擦面產生不良的程度逐漸加劇;另一方面,這種形變會導致絨布在基板上的摩擦強度不均勻,進而造成在取向層中取向槽的深淺不一致,而取向槽深淺的不一致容易造成沿摩擦方向產生摩擦Mura(Rubbing?Mura)不良,產品良率降低。
摩擦Mura不良是摩擦工藝中一個嚴重的品質問題,不僅嚴重影響產品的畫面品質,而且ET檢出率較低,造成后端嚴重的資材浪費以及品質問題。同時,在彩膜基板和陣列基板(尤其是陣列基板)采用何種布線結構能減輕摩擦Mura不良,一直是摩擦工藝中的難題。
發明內容
本發明所要解決的技術問題是針對現有技術中存在的上述不足,提供一種陣列基板以及顯示裝置,該陣列基板使非顯示區布線的差異化消除,減小或消除因外圍走線不一致產生的摩擦Mura,進而使摩擦效果一致。
解決本發明技術問題所采用的技術方案是該陣列基板,包括顯示區以及包圍于所述顯示區外圍的非顯示區,所述非顯示區設置有用于連接外部控制信號的信號單元以及未設置所述信號單元的間隙區域,其中,所述間隙區域內設置有輔助單元,所述輔助單元與所述信號單元具有相同的高度且分別電性隔離,所述輔助單元表面與所述信號單元的局部表面具有相同的圖案。
優選的是,所述信號單元在所述非顯示區的邊緣設置有多個平行排列的條狀接線端;
所述間隙區域對應位于所述非顯示區的邊緣,所述輔助單元包括多個平行排列的條狀結構,多個所述條狀結構的排列方向與所述條狀接線端的排列方向相同,且多個所述條狀結構之間的間距與所述信號單元中多個條狀接線端之間的間距相同。
優選的是,多個所述條狀結構的長度和寬度分別與所述條狀接線端的長度和寬度對應相等。
優選的是,所述顯示區設置有控制元件,所述信號單元與所述控制元件和外部控制信號供給單元連接,所述輔助單元與所述控制元件具有相同的層結構。
優選的是,所述控制元件為薄膜晶體管陣列,所述薄膜晶體管包括柵極、柵絕緣層、有源層、同層設置的源極和漏極、鈍化層以及像素電極層,同行/列排列的所述薄膜晶體管的柵極與同一柵線連接;
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