[發(fā)明專利]一種浸沒式光刻機(jī)浸液流場維持防碰撞系統(tǒng)

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201510040998.2
• 申請日: 2015-01-28
• 公開（公告）號: CN105988294B
• 公開（公告）日: 2018-05-04
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 秦少伍;聶宏飛
• 申請（專利權(quán)）人: 上海微電子裝備（集團(tuán)）股份有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 上海思微知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙)31237
• 代理人: 屈蘅

1.一種浸沒式光刻機(jī)浸液流場維持防碰撞系統(tǒng)，其特征在于，包括：

液體供給裝置，用于在投影物鏡及基底臺之間提供液體；

基底，位于所述基底臺之上并浸沒于所述液體中；

緩沖伸縮裝置，所述緩沖伸縮裝置位于所述液體供給裝置和基底之間，用于實(shí)現(xiàn)所述液體的密封，可在光軸方向上移動；

所述緩沖伸縮裝置與所述液體供給裝置相連，所述緩沖伸縮裝置與所述基底之間保持在預(yù)設(shè)間隙范圍內(nèi)。

2.如權(quán)利要求1所述的浸沒式光刻機(jī)浸液流場維持防碰撞系統(tǒng)，其特征在于，所述緩沖伸縮裝置的末端包括柔性橡膠薄膜圈對所述液體進(jìn)行密封，所述柔性橡膠薄膜圈與所述基底之間的距離保持在預(yù)設(shè)間隙范圍內(nèi)。

3.如權(quán)利要求1所述的浸沒式光刻機(jī)浸液流場維持防碰撞系統(tǒng)，其特征在于，所述緩沖伸縮裝置沿與所述投影物鏡的光軸垂直的方向旋轉(zhuǎn)。

4.如權(quán)利要求1所述的浸沒式光刻機(jī)浸液流場維持防碰撞系統(tǒng)，其特征在于，所述緩沖伸縮裝置包括：氣體供給通道，用于提供一高速率氣流；以及氣液回收通道，用于氣液回收。

5.如權(quán)利要求1所述的浸沒式光刻機(jī)浸液流場維持防碰撞系統(tǒng)，其特征在于，還包括測量裝置，所述測量裝置用于測量所述緩沖伸縮裝置與所述液體供給裝置之間的相對位移。

6.如權(quán)利要求1所述的浸沒式光刻機(jī)浸液流場維持防碰撞系統(tǒng)，其特征在于，所述緩沖伸縮裝置還包括致動裝置，所述致動裝置用于實(shí)現(xiàn)所述緩沖伸縮裝置在Z、Rx、Ry方向上運(yùn)動。

7.如權(quán)利要求1所述的浸沒式光刻機(jī)浸液流場維持防碰撞系統(tǒng)，其特征在于，還包括緩沖伸縮裝置控制器以及基底臺控制器，用于控制所述緩沖伸縮裝置和所述基底臺以相同的速度和加速度運(yùn)動，避免所述緩沖伸縮裝置和所述基底臺發(fā)生碰撞。

8.如權(quán)利要求7所述的浸沒式光刻機(jī)浸液流場維持防碰撞系統(tǒng)，其特征在于，還包括補(bǔ)償裝置，用于補(bǔ)償所述緩沖伸縮裝置與基底臺之間的浸沒液體的剛度k和阻尼系數(shù)D。

9.如權(quán)利要求6所述的浸沒式光刻機(jī)浸液流場維持防碰撞系統(tǒng)，其特征在于，所述致動裝置的數(shù)量為三個，均勻分布于所述緩沖伸縮裝置的邊緣處。

10.如權(quán)利要求6所述的浸沒式光刻機(jī)浸液流場維持防碰撞系統(tǒng)，其特征在于，所述致動裝置為微型致動器，所述微型致動器為壓電致動器、微型步進(jìn)電機(jī)或音圈電機(jī)。