[發明專利]偏振板的保存方法、消除或降低偏振板所具有的起伏缺陷的方法、以及偏振板的制造方法

有效

• 申請號: 201510040908.X
• 申請日: 2015-01-27
• 公開（公告）號: CN104808276B
• 公開（公告）日: 2017-07-11
• 發明（設計）人: 市原正寬;名田敬之
• 申請（專利權）人: 住友化學株式會社
• 主分類號: G02B5/30
• 分類號: G02B5/30
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司11021
• 代理人: 葛凡

1.一種偏振板的保存方法，其包括：

準備偏振板的工序，所述偏振板包含偏振片及層疊在其上的至少1個保護膜，且具有長邊為700mm以上且短邊為400mm以上的方形形狀，所述偏振板在23℃相對濕度55％的環境下保存1周時，在某一邊產生高度超過3mm的起伏缺陷、或在某一邊產生3個以上的起伏缺陷；以及

保存所述偏振板的工序，在保存后的偏振板水分率低于在23℃相對濕度55％的環境下保存1周時的偏振板水分率的環境下保存所述偏振板，

所述保存偏振板的工序包括在相對濕度為30～50％的環境下保存偏振板的工序，

保存后的偏振板水分率S1為在23℃相對濕度55％的環境下保存1周時的偏振板水分率S0的0.5倍以上且0.9倍以下。

2.一種消除偏振板所具有的起伏缺陷的方法，其包括：

準備偏振板的工序，所述偏振板包含偏振片及層疊在其上的至少1個保護膜，且具有長邊為700mm以上且短邊為400mm以上的方形形狀，所述偏振板在某一邊具有高度超過3mm的起伏缺陷、或在某一邊具有3個以上的起伏缺陷；以及

保存所述偏振板的工序，在保存后的偏振板水分率低于保存前的偏振板水分率的環境下保存所述偏振板，

所述保存偏振板的工序包括在相對濕度為30～50％的環境下保存偏振板的工序，

保存后的偏振板水分率T1為保存前的偏振板水分率T0的0.5倍以上且0.9倍以下。

3.一種降低偏振板所具有的起伏缺陷的方法，其包括：

準備偏振板的工序，所述偏振板包含偏振片及層疊在其上的至少1個保護膜，且具有長邊為700mm以上且短邊為400mm以上的方形形狀，所述偏振板在某一邊具有高度超過3mm的起伏缺陷、或在某一邊具有3個以上的起伏缺陷；以及

保存所述偏振板的工序，在保存后的偏振板水分率低于保存前的偏振板水分率的環境下保存所述偏振板，

所述保存偏振板的工序包括在相對濕度為30～50％的環境下保存偏振板的工序，

保存后的偏振板水分率T1為保存前的偏振板水分率T0的0.5倍以上且0.9倍以下。

4.一種偏振板的制造方法，其包括：

準備偏振板的工序，所述偏振板包含偏振片及層疊在其上的至少1個保護膜，且具有長邊為700mm以上且短邊為400mm以上的方形形狀，所述偏振板在23℃相對濕度55％的環境下保存1周時，在某一邊產生高度超過3mm的起伏缺陷、或在某一邊產生3個以上的起伏缺陷；以及

保存所述偏振板的工序，在保存后的偏振板水分率低于在23℃相對濕度55％的環境下保存1周時的偏振板水分率的環境下保存所述偏振板，

所述保存偏振板的工序包括在相對濕度為30～50％的環境下保存偏振板的工序，

保存后的偏振板水分率S1為在23℃相對濕度55％的環境下保存1周時的偏振板水分率S0的0.5倍以上且0.9倍以下。

5.一種偏振板的制造方法，其包括：

準備偏振板的工序，所述偏振板包含偏振片及層疊在其上的至少1個保護膜，且具有長邊為700mm以上且短邊為400mm以上的方形形狀，所述偏振板在某一邊具有高度超過3mm的起伏缺陷、或在某一邊具有3個以上的起伏缺陷；以及

保存所述偏振板的工序，在保存后的偏振板水分率低于保存前的偏振板水分率的環境下保存所述偏振板，

所述保存偏振板的工序包括在相對濕度為30～50％的環境下保存偏振板的工序，

保存后的偏振板水分率T1為保存前的偏振板水分率T0的0.5倍以上且0.9倍以下。

6.如權利要求1所述的偏振板的保存方法，其中，

在所述保存工序中偏振板保存于密封容器內。

7.如權利要求2所述的消除偏振板所具有的起伏缺陷的方法，其中，

在所述保存工序中偏振板保存于密封容器內。

8.如權利要求3所述的降低偏振板所具有的起伏缺陷的方法，其中，

在所述保存工序中偏振板保存于密封容器內。

9.如權利要求4或5所述的偏振板的制造方法，其中，

在所述保存工序中偏振板保存于密封容器內。

10.如權利要求1所述的偏振板的保存方法，其中，

在所述保存工序中偏振板保存于加入了除濕劑的密封容器內。