[發(fā)明專利]一種基于投影和數(shù)字圖像處理的側(cè)膨脹值測(cè)量系統(tǒng)及方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201510037281.2 | 申請(qǐng)日: | 2015-01-23 |
| 公開(公告)號(hào): | CN104567711B | 公開(公告)日: | 2017-06-06 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 桂樂(lè)樂(lè);壽比南;徐彤 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 中國(guó)特種設(shè)備檢測(cè)研究院 |
| 主分類號(hào): | G01B11/16 | 分類號(hào): | G01B11/16;G01N3/06 |
| 代理公司: | 北京三友知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司11127 | 代理人: | 湯在彥 |
| 地址: | 100013 *** | 國(guó)省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 基于 投影 數(shù)字圖像 處理 膨脹 測(cè)量 系統(tǒng) 方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及金屬材料側(cè)膨脹值測(cè)定領(lǐng)域,具體地,涉及一種基于投影和數(shù)字圖像處理的側(cè)膨脹值測(cè)量系統(tǒng)及方法。
背景技術(shù)
在評(píng)定焊接工藝時(shí),側(cè)向膨脹值是衡量不銹鋼材料沖擊韌性的重要指標(biāo)之一。GB/T 12778-2008、ASTM E23-2007、GB/T 229-2007等給出了側(cè)向膨脹值的三種常用測(cè)定方法:游標(biāo)卡尺測(cè)定法、側(cè)膨脹儀測(cè)定法和投影儀測(cè)定法。
當(dāng)運(yùn)用這三種方法進(jìn)行測(cè)量時(shí),由于不可避免地受到?jīng)_擊試件空間變形或人為因素的影響,經(jīng)常導(dǎo)致不同的人測(cè)量的結(jié)果差別很大。
其中,游標(biāo)卡尺測(cè)定法是實(shí)驗(yàn)室人員最常用的方法,但沖擊斷口是三維變形,被測(cè)的兩點(diǎn)通常不在同一平面或同一直線上。這種情況下,用游標(biāo)卡尺測(cè)量時(shí)誤差不可避免。此外,對(duì)于那些變形較大(特別是非標(biāo)準(zhǔn)試樣)的沖擊試樣,缺口背面通常呈不規(guī)則弧線,而非理想的直線,因此背面不可能完全重合;即便沖擊后兩個(gè)試樣連在一起,側(cè)面也不一定位于同一平面上。
而當(dāng)運(yùn)用側(cè)膨脹儀測(cè)定法時(shí),同樣會(huì)遇到斷口下側(cè)面不平而無(wú)法緊貼V型基準(zhǔn)塊或側(cè)膨脹部位最高點(diǎn)判斷不準(zhǔn)等問(wèn)題,從而影響測(cè)量準(zhǔn)確度。
利用投影原理測(cè)量側(cè)膨脹值能有效規(guī)避上述兩種方法遇到的問(wèn)題,因此該法也是仲裁時(shí)推薦的方法,但由于測(cè)量過(guò)程中需要人工對(duì)準(zhǔn)試樣的原始側(cè)面和投影儀屏幕上的基準(zhǔn)線,以及人工判斷膨脹部位最高點(diǎn),因此依然不能排除人為因素的干擾,且效率不高。此外,投影儀在市場(chǎng)上已經(jīng)很難買到,也限制了它的應(yīng)用。
綜上,在側(cè)向膨脹值測(cè)定領(lǐng)域,現(xiàn)有的三種常用方法均是通過(guò)人工方式進(jìn)行的,容易受人為因素影響,測(cè)量結(jié)果不準(zhǔn)確,且測(cè)量效率較低。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明實(shí)施例的主要目的在于提供一種基于投影和數(shù)字圖像處理的側(cè)膨脹值測(cè)量系統(tǒng)及方法,以解決現(xiàn)有的側(cè)向膨脹值測(cè)定技術(shù)容易受人為因素影響、測(cè)量結(jié)果不準(zhǔn)確的問(wèn)題。
為了實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明實(shí)施例提供一種基于投影和數(shù)字圖像處理的側(cè)膨脹值測(cè)量系統(tǒng),所述系統(tǒng)包括:載物臺(tái)、平行光源、工業(yè)相機(jī)和計(jì)算機(jī);其中,所述工業(yè)相機(jī)具有雙遠(yuǎn)心鏡頭;
所述雙遠(yuǎn)心鏡頭與所述平行光源正對(duì)設(shè)置,以構(gòu)成平行光路;
所述載物臺(tái)設(shè)于所述平行光源和所述雙遠(yuǎn)心鏡頭之間,用于承載相互匹配的上半截試樣和下半截試樣;所述相互匹配的上半截試樣和下半截試樣由整個(gè)試樣經(jīng)夏比擺錘沖擊試驗(yàn)形成;
所述上半截試樣和所述下半截試樣的斷口均朝上、缺口面均朝向所述平行光源、缺口背面均垂直于所述平行光路,且所述上半截試樣和所述下半截試樣在所述雙遠(yuǎn)心鏡頭中的投影不重疊;
所述工業(yè)相機(jī)用于對(duì)所述上半截試樣和所述下半截試樣拍照;
所述計(jì)算機(jī)用于根據(jù)所述工業(yè)相機(jī)拍照得到的圖像,計(jì)算所述整個(gè)試樣的側(cè)膨脹值;
所述整個(gè)試樣的兩個(gè)側(cè)面分別為第一側(cè)面和第二側(cè)面,所述上半截試樣的兩個(gè)側(cè)面分別為第一上半截側(cè)面和第二上半截側(cè)面,所述下半截試樣的兩個(gè)側(cè)面分別為第一下半截側(cè)面和第二下半截側(cè)面,所述第一上半截側(cè)面和第一下半截側(cè)面對(duì)應(yīng)于所述第一側(cè)面,所述第二上半截側(cè)面和所述第二下半截側(cè)面對(duì)應(yīng)于所述第二側(cè)面;在所述工業(yè)相機(jī)拍照得到的圖像中,所述第一上半截側(cè)面、第二上半截側(cè)面、第二下半截側(cè)面、第一下半截側(cè)面按照從左至右的順序排列;
所述計(jì)算機(jī)包括:
第一圖像處理器,用于對(duì)所述工業(yè)相機(jī)拍照得到的圖像進(jìn)行二值化處理,得到二值圖像;
第二圖像處理器,用于將所述二值圖像劃分為膨脹點(diǎn)計(jì)算區(qū)和基準(zhǔn)線擬合區(qū);所述膨脹點(diǎn)計(jì)算區(qū)包括所述上半截試樣的膨脹段對(duì)應(yīng)的圖像區(qū)域以及所述下半截試樣的膨脹段對(duì)應(yīng)的圖像區(qū)域,所述基準(zhǔn)線擬合區(qū)包括所述上半截試樣的形狀保持段對(duì)應(yīng)的圖像區(qū)域以及所述下半截試樣的形狀保持段對(duì)應(yīng)的圖像區(qū)域;其中,所述膨脹段為所述上/下半截試樣中到其斷口的垂直距離小于第一設(shè)定距離的部分,所述上/下半截試樣中到其底部的垂直距離小于第二設(shè)定距離的部分為底部形變段,所述形狀保持段為所述上/下半截試樣中介于所述膨脹段和所述底部形變段之間的部分;
第三圖像處理器,用于對(duì)所述膨脹點(diǎn)計(jì)算區(qū)進(jìn)行掃描,確定處于所述膨脹點(diǎn)計(jì)算區(qū)內(nèi)、且位于所述上半截試樣的輪廓線上的像素點(diǎn),確定處于所述膨脹點(diǎn)計(jì)算區(qū)內(nèi)、且位于所述下半截試樣的輪廓線上的像素點(diǎn);對(duì)所述基準(zhǔn)線擬合區(qū)進(jìn)行掃描,確定處于所述基準(zhǔn)線擬合區(qū)內(nèi)、且位于所述上半截試樣的輪廓線上的像素點(diǎn),確定處于所述基準(zhǔn)線擬合區(qū)內(nèi)、且位于所述下半截試樣的輪廓線上的像素點(diǎn);
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于中國(guó)特種設(shè)備檢測(cè)研究院,未經(jīng)中國(guó)特種設(shè)備檢測(cè)研究院許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
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