[發明專利]階梯柵極射頻離子推進裝置

有效

• 申請號: 201510037134.5
• 申請日: 2015-01-23
• 公開（公告）號: CN104595140B
• 公開（公告）日: 2017-04-12
• 發明（設計）人: 夏廣慶;郝劍昆;王鵬;鄒存祚;徐宗琦
• 申請（專利權）人: 大連理工大學
• 主分類號: F03H1/00
• 分類號: F03H1/00
• 代理公司: 大連東方專利代理有限責任公司21212
• 代理人: 涂文詩,李洪福

1.一種階梯柵極射頻離子推進裝置，其特征在于，包括：

射頻天線、電離室、屏柵、加速柵、中和器；

所述射頻天線環繞在電離室外部，用于激發等離子體，所述電離室提供所述等離子體發生區域，并限制所述等離子體在所述區域內，所述電離室的一端用于輸入工質氣體，所述屏柵、所述加速柵和所述中和器位于所述電離室的另一端，所述屏柵用于引出正離子，所述加速柵用于加速所述正離子，并且所述加速柵截面為階梯型結構，所述中和器用于發射中和所述正離子的電子。

2.根據權利要求1所述的裝置，其特征在于，所述加速柵的每一級階梯的寬度和長度相同。

3.根據權利要求1或2所述的裝置，其特征在于，所述電離室的材料為氮化硼。

4.根據權利要求1或2所述的裝置，其特征在于，所述柵極的材料為鉬。