[發明專利]從底層電鍍銅/鎳材料中回收稀貴/惰性金屬的生產線有效
| 申請號: | 201510036651.0 | 申請日: | 2015-01-23 |
| 公開(公告)號: | CN104674011A | 公開(公告)日: | 2015-06-03 |
| 發明(設計)人: | 韓文生;劉陽;趙新;王鵬程;周斌;萬超;曹諾;鄧梅玲;杜彬 | 申請(專利權)人: | 中國電器科學研究院有限公司 |
| 主分類號: | C22B7/00 | 分類號: | C22B7/00;C22B11/00;C22B15/00;C22B23/00 |
| 代理公司: | 廣州知友專利商標代理有限公司 44104 | 代理人: | 宣國華;馬赟齋 |
| 地址: | 510300 *** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 底層 鍍銅 材料 回收 惰性 金屬 生產線 | ||
1.一種從底層電鍍銅/鎳材料中回收稀貴/惰性金屬的生產線,其特征在于,包括稀貴/惰性金屬剝離系統,該剝離系統包括剝離反應裝置、過濾裝置、濾液處理裝置和反應試劑供給裝置,所述剝離反應裝置、過濾裝置和濾液處理裝置依次連接,所述反應試劑供給裝置則與剝離反應裝置和濾液處理裝置分別連接,向剝離反應裝置和濾液處理裝置提供反應試劑,其中,所述剝離反應裝置包括至少一個剝離反應槽,作為剝離反應工位,所述剝離反應槽的出液口與過濾裝置連接,剝離反應槽中的金屬箔和反應溶液的混合物進入過濾裝置進行固液分離,獲得金屬箔,而濾液進入濾液處理裝置中做進一步處理。
2.根據權利要求1所述的從底層電鍍銅/鎳材料中回收稀貴/惰性金屬的生產線,其特征在于,在所述的每個剝離反應槽配備一個用于盛裝電鍍銅/鎳材料的物料滾筒,所述物料滾筒的筒壁上設有多個通孔,剝離反應槽內的反應溶液經筒壁上的通孔進入滾筒內,與滾筒內的電鍍銅/鎳材料進行反應,該物料滾筒的兩端設有轉軸,剝離反應槽內相對設置兩個軸承,所述物料滾筒兩端的轉軸分別可拆卸地安裝在剝離反應槽的兩個軸承上,轉軸與驅動電機的動力輸出端連接,由驅動電機驅動物料滾筒轉動,滾筒轉動不僅能夠使反應溶液與物料充分接觸,而且在轉動中物料間相互碰撞使稀貴/惰性金屬更容易與銅/鎳材料分離。
3.根據權利要求1或2所述的從底層電鍍銅/鎳材料中回收稀貴/惰性金屬的生產線,其特征在于,所述的濾液處理裝置包括濾液反應裝置和固液分離裝置,所述過濾裝置的出液口與濾液反應裝置連接,所述濾液反應裝置的出料口與固液分離裝置的進料口連接,而固液分離裝置底部的出料口設有濾渣收集箱,來自過濾裝置的濾液進入濾液反應裝置進行中和沉淀,所得的固液混合物進入固液分離裝置中進行分離,液體從固液分離裝置的排液口排出,而固體物則從固液分離裝置的底部排料口排出。
4.根據權利要求3所述的從底層電鍍銅/鎳材料中回收稀貴/惰性金屬的生產線,其特征在于,所述濾液反應裝置至少由一個配有攪拌槳的濾液反處理槽構成,濾液反處理槽的上部設有進液口,底部則設有出料口;當濾液反處理槽為兩個以上時,各濾液反處理槽的進液口分別與過濾裝置出液口連接,而出料口則分別與固液分離裝置連接。
5.根據權利要求4所述的從底層電鍍銅/鎳材料中回收稀貴/惰性金屬的生產線,其特征在于,所述的反應試劑供給裝置包括剝離反應試劑供給裝置和濾液反應試劑供給裝置,均包括數個盛裝有反應試劑的儲料桶,所述剝離反應試劑供給裝置經管道和泵與剝離反應槽的進液口連接,向剝離反應裝置中添加試劑進行稀貴/惰性金屬剝離,所述濾液反應試劑供給裝置經管道和泵與濾液反處理槽的進液口連接,向濾液反處理槽的濾液中添加試劑進行中和沉淀處理。
6.根據權利要求3所述的從底層電鍍銅/鎳材料中回收稀貴/惰性金屬的生產線,其特征在于,所述剝離系統還包括供料裝置,該供料裝置包括龍門行吊、用于安放物料滾筒的料斗以及位于料斗底部的用于盛裝經過處理的物件的料箱,所述料箱的進料口位于料斗出口的正下方,所述龍門行吊設于料斗以及剝離反應裝置各剝離工位的正上方,在料斗和剝離反應裝置各剝離工位之間往來,將物料滾筒送至料斗位置進行上料和下料,將物料滾筒送至剝離工位完成貴/惰性金屬的剝離反應。
7.根據權利要求1所述的從底層電鍍銅/鎳材料中回收稀貴/惰性金屬的生產線,其特征在于,在過濾裝置和濾液處理裝置之間增設濾液暫存桶,在進行作業時,以便在上一批濾液處理結束前暫存濾液;同樣地,在所述濾液處理裝置的出液端設置儲水罐,用于存儲中和處理后的水。
8.根據權利要求1-7任一項所述的從底層電鍍銅/鎳材料中回收稀貴/惰性金屬的生產線,其特征在于,增設純化系統,對回收所得的金屬箔依次進行溶解、沉淀、洗滌和熔煉處理,獲得進一步純化的金屬錠。
9.根據權利要求8所述的從底層電鍍銅/鎳材料中回收稀貴/惰性金屬的生產線,其特征在于,所述純化系統包括反應試劑供給裝置、金屬純化裝置和熔煉爐,所述金屬純化裝置包括依次連接的溶解反應裝置、沉淀反應裝置和洗滌裝置,所述反應試劑供給裝置分別與溶解反應裝置、沉淀反應裝置和洗滌裝置連接,在處理中提供相應的反應試劑。
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