[發明專利]半導體晶片的高速熒光光譜檢測裝置

在審

• 申請號: 201510034852.7
• 申請日: 2015-01-24
• 公開（公告）號: CN104568893A
• 公開（公告）日: 2015-04-29
• 發明（設計）人: 徐杰;郭金源
• 申請（專利權）人: 北京中拓機械集團有限責任公司
• 主分類號: G01N21/64
• 分類號: G01N21/64
• 代理公司: 上海申蒙商標專利代理有限公司 31214
• 代理人: 周豐

1.半導體晶片的高速熒光光譜檢測裝置，其特征在于，主要包括機架（1）、半導體晶片運動機構（2）、激光發生裝置（3）、光路收集系統（4）、光譜儀（5）、面陣CCD相機（6）、控制計算機（7），其中，半導體晶片運動機構（2）、激光發生裝置（3）、光路收集系統（4）和光譜儀（5）均固定在機架（1）上端，半導體晶片運動機構（2）固定在機架（1）下端，光譜儀（5）包括：入光狹縫（11）、第一柱狀弧面反射鏡（12）、光柵（13）、第二柱狀弧面反射鏡（14）、出光口（15），其中光路收集系統（4）安裝在光譜儀（5）的入射狹縫前端，面陣CCD相機（6）安裝在光譜儀（5）的出光口處，使得激光發生裝置（3）發出的激光線投射在半導體晶片運動機構（2）上的半導體晶片上形成線形光斑，線形光斑經光路收集系統（4）和光譜儀（5）入光狹縫，投射在光譜儀（5）第一柱狀弧面反射鏡（12）上，經第一柱狀弧面反射鏡（12）反射到光譜儀（5）的光柵（13）上，經光柵（13）衍射后，將線形光斑按柱狀梯形形狀沿光的傳播方向展開，其中每一個梯形截面代表一段光斑點在空間上按不同連續波長的分布，被展開后的柱狀梯形光投射到光譜儀（5）內的第二柱狀弧面反射鏡（14）上，經第二柱狀弧面反射鏡（14）反射后，投射到安裝在光譜儀（5）出光口（15）處的面陣CCD相機（6）上。

2.根據權利要求1所述半導體晶片的高速熒光光譜檢測裝置，其特征在于，所述的半導體晶片運動機構（2）、激光發生裝置（3）、光路收集系統（4）、光譜儀（5）、面陣CCD相機（6），在使用時在暗室（8）內。

3.根據權利要求1所述半導體晶片的高速熒光光譜檢測裝置，其特征在于，所述的半導體晶片運動機構（2）可載半導體晶片在平面內沿兩個相互垂直方向的運動機構，其中一個運動方向與激光發生裝置所投射在半導體晶片上的線形光斑長度方向相垂直，在線形光斑不能一次掃描覆蓋所檢測半導體晶片需檢測區域時，另一方向運動機構用于切換不同掃描區域。

4.根據權利要求1所述半導體晶片的高速熒光光譜檢測裝置，其特征在于，所述的光譜儀（5）入光狹縫與面陣CCD相機（6）的列方向相平行。

5.根據權利要求1所述半導體晶片的高速熒光光譜檢測裝置，其特征在于，所述的光路收集系統（4）包括一套用于成像的鏡頭組（21）和用于濾除激光的濾光片（22），使得能夠對光路收集系統（4）焦距的調節，不影響線形光斑在第一柱狀弧面反射鏡（12）上的成像大小。