[發明專利]一種磁聚焦和曲面矯正的高場永磁體磁共振成像磁體系統有效
| 申請號: | 201510034691.1 | 申請日: | 2015-01-23 |
| 公開(公告)號: | CN104599806A | 公開(公告)日: | 2015-05-06 |
| 發明(設計)人: | 謝寰彤 | 申請(專利權)人: | 謝寰彤 |
| 主分類號: | H01F7/02 | 分類號: | H01F7/02;G01R33/383 |
| 代理公司: | 上海正旦專利代理有限公司 31200 | 代理人: | 陸飛;盛志范 |
| 地址: | 201806 上海市*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 聚焦 曲面 矯正 永磁體 磁共振 成像 磁體 系統 | ||
1.一種磁聚焦和曲面矯正的高場永磁體磁共振成像磁體系統,其特征在于包括磁軛(1)、主磁鋼(2)、非球面曲面磁極(3)、堵漏磁鋼(4)和側磁鋼(5);非球面曲面磁極(3)為兩塊,形狀相同,對稱地分布在磁軛(1)即磁體整體中心部位;兩個主磁鋼(2)分別位于兩個磁極(3)的正后方,堵漏磁鋼(4)為4個,偏離中心位置,分別位于兩個磁極(3)后方、主磁鋼(2)的兩側面;側磁鋼(5)也為4個,分別位于兩個磁極(3)的側面、堵漏磁鋼(4)的外側;主磁鋼(2)和堵漏磁鋼(4)由高矯頑力的永磁材料制造,側磁鋼(5)由更高矯頑力的永磁材料制造,其矯頑力比主磁鋼的矯頑力大20%以上;
所述非球面曲面磁極(3)為馬鞍面,兩個磁極對稱放置,兩個曲面最突出部分之間的距離d,稱為磁極間隙,在任何角度下間隙d的相對誤差小于0.3um,兩個曲面中心要求高度同心,誤差小于?5um,兩個曲面要求高度對稱,誤差小于0.3um。
2.根據權利要求1所述的磁聚焦和曲面矯正的高場永磁體磁共振成像磁體系統,其特征在于:設x是曲面位置點至磁體中心的距離,y是旋轉兩個曲面位置點之間的距離,則馬鞍面形狀的具體數據如下,曲面數據采用二次插值得到:
。
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