[發(fā)明專利]一種高度校正系統(tǒng)及方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201510033181.2
• 申請(qǐng)日: 2015-01-22
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN104677826B
• 公開(kāi)（公告）日: 2017-11-24
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 彭彥昆;趙娟
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 中國(guó)農(nóng)業(yè)大學(xué)
• 主分類號(hào): G01N21/01
• 分類號(hào): G01N21/01;G01N21/25
• 代理公司: 北京路浩知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司11002
• 代理人: 李相雨

1.一種高度校正系統(tǒng)，其特征在于，包括：

平移臺(tái)，用于放置樣品和/或校正物；

面掃描傳感器，用于獲取所述樣品表面的高度矩陣；

鏡頭，用于接收預(yù)設(shè)高度下所述校正物的光信號(hào)和所述樣品的光信號(hào)；

光譜儀，用于通過(guò)狹縫收集所述鏡頭接收的所述校正物的光信號(hào)和所述樣品的光信號(hào)；

CCD，用于將所述光譜儀通過(guò)狹縫收集的所述校正物的光信號(hào)和所述樣品的光信號(hào)分別轉(zhuǎn)化為電信號(hào)，形成所述校正物的光譜檢測(cè)信息和所述樣品表面的光譜檢測(cè)信息；

處理器，用于根據(jù)預(yù)設(shè)高度下所述校正物的光譜檢測(cè)信息以及所述樣品表面的高度矩陣，將預(yù)設(shè)高度下所述樣品表面的光譜檢測(cè)信息校正為所述樣品表面的光譜校正信息。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高度校正系統(tǒng)，其特征在于：

所述校正物為白板。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的高度校正系統(tǒng)，其特征在于：

所述白板為反射率>99％的標(biāo)準(zhǔn)反射白板。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高度校正系統(tǒng)，其特征在于：

所述面掃描傳感器與所述鏡頭高度相同且位于所述樣品的同側(cè)，所述面掃描傳感器用于通過(guò)所述平移臺(tái)移動(dòng)所述樣品以對(duì)所述樣品表面進(jìn)行線掃描，從而獲取所述樣品表面每個(gè)點(diǎn)到所述鏡頭的高度，形成高度矩陣。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高度校正系統(tǒng)，其特征在于：

所述預(yù)設(shè)高度為所述樣品的最佳檢測(cè)高度。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高度校正系統(tǒng)，其特征在于：

所述光信號(hào)為光反射信號(hào)。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高度校正系統(tǒng)，其特征在于，所述系統(tǒng)還包括：

載物臺(tái)，置于所述平移臺(tái)上，用于放置所述樣品和/或校正物并調(diào)節(jié)其高度。

8.根據(jù)權(quán)利要求1-7中任一項(xiàng)所述的高度校正系統(tǒng)，其特征在于，所述處理器還用于：

根據(jù)所述預(yù)設(shè)高度H下校正物的光譜檢測(cè)信息Y₀和所述樣品表面的高度矩陣M，利用校正公式I＝f(s,w)將所述預(yù)設(shè)高度H下所述樣品表面每一點(diǎn)的光譜檢測(cè)信息均校正到所述預(yù)設(shè)高度H下，以獲取所述樣品表面的光譜校正信息，其中，s為根據(jù)所述樣品表面的高度矩陣M獲取的樣品表面的點(diǎn)到所述鏡頭的距離，w為波段范圍，f為所述樣品表面的點(diǎn)到所述鏡頭的距離與光譜強(qiáng)度之間的關(guān)系，I為所述樣品表面的點(diǎn)在波段范圍w下的光譜強(qiáng)度。

9.一種高度校正方法，其特征在于，包括：

獲取樣品表面的高度矩陣；

獲取預(yù)設(shè)高度下校正物的光譜檢測(cè)信息；

獲取預(yù)設(shè)高度下樣品表面的光譜檢測(cè)信息，根據(jù)預(yù)設(shè)高度下所述校正物的光譜檢測(cè)信息以及所述樣品表面的高度矩陣，將預(yù)設(shè)高度下所述樣品表面的光譜檢測(cè)信息校正為所述樣品表面的光譜校正信息。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的高度校正方法，其特征在于，所述根據(jù)預(yù)設(shè)高度下所述校正物的光譜檢測(cè)信息以及所述樣品表面的高度矩陣，將預(yù)設(shè)高度下所述樣品表面的光譜檢測(cè)信息校正為所述樣品表面的光譜校正信息包括：

根據(jù)所述預(yù)設(shè)高度H下校正物的光譜檢測(cè)信息Y₀和所述樣品表面的高度矩陣M，利用校正公式I＝f(s,w)將所述預(yù)設(shè)高度H下所述樣品表面每一點(diǎn)的光譜檢測(cè)信息均校正到所述預(yù)設(shè)高度H下，以獲取所述樣品表面的光譜校正信息，其中，s為根據(jù)所述樣品表面的高度矩陣M獲取的樣品表面的點(diǎn)到所述鏡頭的距離，w為波段范圍，f為所述樣品表面的點(diǎn)到鏡頭的距離與光譜強(qiáng)度之間的關(guān)系，I為所述樣品表面的點(diǎn)在波段范圍w下的光譜強(qiáng)度。