[發(fā)明專利]一種非晶硅薄膜太陽(yáng)能電池及制造方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201510032711.1 | 申請(qǐng)日: | 2015-01-21 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN104600148B | 公開(kāi)(公告)日: | 2017-07-18 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 李毅;胡盛明;李全相;周建華;吳志武 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 深圳市創(chuàng)益新材料有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L31/075 | 分類號(hào): | H01L31/075;H01L31/18 |
| 代理公司: | 深圳市毅穎專利商標(biāo)事務(wù)所(普通合伙)44233 | 代理人: | 張藝影 |
| 地址: | 518057 廣東省深圳市*** | 國(guó)省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 非晶硅 薄膜 太陽(yáng)能電池 制造 方法 | ||
1.一種非晶硅薄膜太陽(yáng)能電池,包括基片、前電極圖形、 PIN光電轉(zhuǎn)化層、背電極,其特征在于PIN光電轉(zhuǎn)化層的前電極至少包括ITO、ZnO、石墨烯透明導(dǎo)電膜中的一種;PIN光電轉(zhuǎn)化層完全覆蓋在前電極圖形透明導(dǎo)電膜層上,前電極圖形包括PIN非晶硅P層的前電極,單元電池的前電極,其相鄰節(jié)之間有防漏電的隔離線,其線寬范圍為0.3mm~0.6mm;PIN非晶硅N層的背電極是金屬背電極或碳漿電極中的一種;所說(shuō)的碳漿電極是有背漆保護(hù)層的N層背電極;所說(shuō)的背漆保護(hù)層預(yù)留開(kāi)口處,引出電極銅漿電極覆蓋在背漆保護(hù)層開(kāi)口處背漆面和碳漿電極面上,且銅漿電極面積為一定值,加大銅漿電極與背漆保護(hù)層開(kāi)口處周邊接觸面,相對(duì)減小銅漿電極與碳漿電極的接觸面,以增加銅漿電極附著力,其銅漿電極的附著力達(dá)到0.6公斤以上。
2.如權(quán)利要求1所述的一種非晶硅薄膜太陽(yáng)能電池,其特征在于所說(shuō)的PIN非晶硅膜層完全覆蓋在導(dǎo)電膜層前電極圖形上,包括背漆保護(hù)層的在PIN非晶硅N層有背電極碳漿電極層,所說(shuō)的碳漿電極層由背漆保護(hù)層完全覆蓋。
3.如權(quán)利要求1-2中任何一項(xiàng)所述的一種非晶硅薄膜太陽(yáng)能電池,其特征在于所說(shuō)的前電極圖形包括方形、圓形、環(huán)形及其變形,還包括PIN非晶硅的前電極,單元電池的前電極形狀。
4.如權(quán)利要求3所述的一種非晶硅薄膜太陽(yáng)能電池,其特征在于所說(shuō)的前電極圖形為圓形或環(huán)形透明導(dǎo)電膜層,該膜層為PIN非晶硅層的前電極,單元電池的前電極均為圓形透明前電極導(dǎo)電膜層,在其圓形導(dǎo)電膜周邊有絕緣線。
5.如權(quán)利要求4所述的一種非晶硅薄膜太陽(yáng)能電池,其特征在于所說(shuō)的前電極圖形為圓形透明導(dǎo)電膜層的PIN非晶硅層的前電極的硅基薄膜太陽(yáng)能電池,其電池中央有透明視窗或該視窗在前電極區(qū)域的任意位置。
6.如權(quán)利要求1所述的一種非晶硅薄膜太陽(yáng)能電池,其特征在于還包括貫通PIN非晶硅層的各種通孔,該通孔是激光打孔形成的刻劃線,以連接相鄰單節(jié)電池間正負(fù)電極串聯(lián)通道。
7.如權(quán)利要求6所述的一種非晶硅薄膜太陽(yáng)能電池,其特征在于所說(shuō)的貫通PIN非晶硅層的激光刻劃線靠近在以上所說(shuō)前電極防漏的隔離線位置。
8.一種非晶硅薄膜太陽(yáng)能電池的制備方法,包括基片,透明導(dǎo)電膜前電極圖形,PIN非晶硅層、背電極,其特征在于制備方法包括:對(duì)PIN非晶硅的P層摻雜,采用流量配比法控制硅烷和三甲基硼烷流量配比,流量配比為:三甲基硼烷:甲烷:硅烷:氫氣=5~7:30~40:60~65:15~17,其中三甲基硼烷的濃度為三甲基硼烷:三甲基硼烷+硅烷=3%,使硼的摻雜比小于1%,以減少p 層內(nèi)部雜質(zhì)缺陷密度,減少漏電流;
消除PIN非晶硅電池表面麻點(diǎn),包括采用絲網(wǎng)印刷制備透明導(dǎo)電膜前電極圖形;采用清洗工藝,包括水清洗,超聲波清洗,濕法腐蝕ITO 膜后,配制清洗溶液,清洗ITO 透明導(dǎo)電膜表面的臟污;
防止銅漿電極膜層脫落,在背漆保護(hù)層預(yù)留開(kāi)口處制作一層銅漿電極層,在其保持銅漿電極面積為一定值,加大銅漿電極與背漆保護(hù)層開(kāi)口處周邊接觸面,相對(duì)銅漿電極與碳漿電極的接觸面積減小銅漿電極附著力增加;
防漏電的方法:使前電極圖形ITO膜前電極的隔離線寬為0.3mm~0.6mm。
9.如權(quán)利要求8所述的一種非晶硅薄膜太陽(yáng)能電池的制備方法,其特征在于所說(shuō)防漏電的方法包括:
選ITO透明導(dǎo)電膜作前電極圖形;
在ITO透明導(dǎo)電玻璃上絲網(wǎng)印刷一層耐酸油墨作掩膜層,通過(guò)濕法化學(xué)腐蝕法形成所需ITO前電極圖形,在相鄰節(jié)透明導(dǎo)電膜前電極之間的隔離線寬為在0.3mm~0.6mm范圍。
10.如權(quán)利要求8所述的一種非晶硅薄膜太陽(yáng)能電池的制備方法,其特征在于所說(shuō)消除PIN非晶硅電池表面麻點(diǎn)方法包括采用氫氧化鈉和磷酸鈉的混合溶液,重量配比為水:氫氧化鈉:磷酸鈉=135~155:1~3:3~5中浸泡2~10分鐘,溶液溫度控制在45~50℃。
11.如權(quán)利要求8所述的一種非晶硅薄膜太陽(yáng)能電池的制備方法,其特征在于所說(shuō)消除PIN非晶硅電池表面麻點(diǎn)方法,進(jìn)一步包括超聲清洗,超聲清洗液采用重量配比水:清洗物質(zhì)=1200~1400:6~8,超聲清洗40~80分鐘,溶液溫度控制在45~60攝氏度。
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H01L31-00 對(duì)紅外輻射、光、較短波長(zhǎng)的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門(mén)適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或者專門(mén)適用于通過(guò)這樣的輻射進(jìn)行電能控制的半導(dǎo)體器件;專門(mén)適用于制造或處理這些半導(dǎo)體器件或其部件的方法或
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H01L31-12 .與如在一個(gè)共用襯底內(nèi)或其上形成的,一個(gè)或多個(gè)電光源,如場(chǎng)致發(fā)光光源在結(jié)構(gòu)上相連的,并與其電光源在電氣上或光學(xué)上相耦合的
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