[發(fā)明專利]硬質(zhì)涂膜、透明導(dǎo)電性膜以及電容觸控面板

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201510031986.3
• 申請日: 2015-01-22
• 公開（公告）號: CN104945965B
• 公開（公告）日: 2019-11-22
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 佐藤慶一;渡邊卓三
• 申請（專利權(quán)）人: 琳得科株式會社
• 主分類號: C09D4/02
• 分類號: C09D4/02;C09D7/62;G06F3/044
• 代理公司: 72001 中國專利代理(香港)有限公司
• 代理人: 龐立志;楊思捷<國際申請>=<國際公布>

1.硬質(zhì)涂膜，其在基材膜的至少單面具備硬質(zhì)涂層，該硬質(zhì)涂膜的特征在于，

所述硬質(zhì)涂膜的根據(jù)JIS K 7105測定的霧度值為1.0%以下，

所述硬質(zhì)涂層由至少包含（A）能量射線固化性樹脂、（B）疏水化硅溶膠、以及（C）有機硅系流平劑的硬質(zhì)涂層形成材料的固化物構(gòu)成，

所述（B）疏水化硅溶膠集中于將所述硬質(zhì)涂層形成材料固化后的所述硬質(zhì)涂層的與所述基材膜相反的表面?zhèn)龋?/p>

所述（B）疏水化硅溶膠的配合量相對于所述（A）能量射線固化性樹脂100重量份以固體成分換算計為0.3~55重量份的范圍內(nèi)的值，

使根據(jù)JIS R 3257測定的水與將所述（B）疏水化硅溶膠制成涂膜時的涂膜的接觸角為100°以上的值，

所述（C）有機硅系流平劑選自有機硅改性丙烯酸樹脂、聚醚改性聚二甲基硅氧烷、聚醚酯改性含羥基聚二甲基硅氧烷、聚酯改性含羥基聚二甲基硅氧烷中的至少1種，

所述（C）有機硅系流平劑的配合量相對于所述（A）能量射線固化性樹脂100重量份以固體成分換算計為0.045~5重量份的范圍內(nèi)的值，

在從所述硬質(zhì)涂膜的最表面至5nm的位置為止的區(qū)域中，相對于利用深度方向的XPS分析測定的碳原子、氧原子、硅原子的總量100atom%，硅原子濃度為0.2~1.95atom%范圍內(nèi)的值。

2.權(quán)利要求1所述的硬質(zhì)涂膜，其特征在于，所述（B）疏水化硅溶膠的平均粒徑為10~100nm的范圍內(nèi)的值。

3.權(quán)利要求1所述的硬質(zhì)涂膜，其特征在于，所述硬質(zhì)涂層的表面的根據(jù)JIS B 0601-1994測定的算術(shù)平均粗糙度Ra為1.5~5nm的范圍內(nèi)的值。

4.透明導(dǎo)電性膜，其特征在于，其在權(quán)利要求1所述的硬質(zhì)涂膜的至少單面具備透明導(dǎo)電層。

5.電容觸控面板，其包含：具備防玻璃飛散膜的蓋板玻璃、第一透明導(dǎo)電性膜、第二透明導(dǎo)電性膜、以及液晶顯示體，該電容觸控面板的特征在于，

所述第一透明導(dǎo)電性膜和所述第二透明導(dǎo)電性膜或者任一者在具有硬質(zhì)涂層的硬質(zhì)涂膜的所述硬質(zhì)涂層上具備透明導(dǎo)電層，

該硬質(zhì)涂膜在基材膜的至少單面具備所述硬質(zhì)涂層，

所述硬質(zhì)涂膜的根據(jù)JIS K 7105測定的霧度值為1.0%以下，

所述硬質(zhì)涂層由至少包含（A）能量射線固化性樹脂、（B）疏水化硅溶膠、以及（C）有機硅系流平劑的硬質(zhì)涂層形成材料的固化物構(gòu)成，

所述（B）疏水化硅溶膠集中于將所述硬質(zhì)涂層形成材料固化后的所述硬質(zhì)涂層的與所述基材膜相反的表面?zhèn)龋?/p>

所述（B）疏水化硅溶膠的配合量相對于所述（A）能量射線固化性樹脂100重量份以固體成分換算計為0.3~55重量份的范圍內(nèi)的值，

使根據(jù)JIS R 3257測定的水與將所述（B）疏水化硅溶膠制成涂膜時的涂膜的接觸角為100°以上的值，

所述（C）有機硅系流平劑選自有機硅改性丙烯酸樹脂、聚醚改性聚二甲基硅氧烷、聚醚酯改性含羥基聚二甲基硅氧烷、聚酯改性含羥基聚二甲基硅氧烷中的至少1種，

所述（C）有機硅系流平劑的配合量相對于所述（A）能量射線固化性樹脂100重量份以固體成分換算計為0.045~5重量份的范圍內(nèi)的值，

在從所述硬質(zhì)涂膜的最表面起至5nm的位置為止的區(qū)域中，相對于利用深度方向的XPS分析測定的碳原子、氧原子、硅原子的總量100atom%，硅原子濃度為0.2~1.95atom%范圍內(nèi)的值。

6.硬質(zhì)涂膜的制造方法，所述硬質(zhì)涂膜在基材膜的至少單面具備硬質(zhì)涂層，該制造方法的特征在于，包括下述工序（1）~（3），

（1）準備硬質(zhì)涂層形成材料的工序，所述硬質(zhì)涂層形成材料至少包含（A）能量射線固化性樹脂、（B）疏水化硅溶膠、以及（C）有機硅系流平劑；

（2）將所述硬質(zhì)涂層形成材料涂布于所述基材膜的至少單面的工序；

（3）使所述硬質(zhì)涂層形成材料固化，根據(jù)JIS K 7105測定的霧度值為1.0%以下，從而形成具備硬質(zhì)涂層的硬質(zhì)涂膜的工序，所述硬質(zhì)涂層中，所述（B）疏水化硅溶膠集中于使所述硬質(zhì)涂層形成材料固化后的所述硬質(zhì)涂層的與所述基材膜相反的表面?zhèn)龋?/p>

所述（B）疏水化硅溶膠的配合量相對于所述（A）能量射線固化性樹脂100重量份以固體成分換算計為0.3~55重量份的范圍內(nèi)的值，

使根據(jù)JIS R 3257測定的水與將所述（B）疏水化硅溶膠制成涂膜時的涂膜的接觸角為100°以上的值，

所述（C）有機硅系流平劑選自有機硅改性丙烯酸樹脂、聚醚改性聚二甲基硅氧烷、聚醚酯改性含羥基聚二甲基硅氧烷、聚酯改性含羥基聚二甲基硅氧烷中的至少1種，

所述（C）有機硅系流平劑的配合量相對于所述（A）能量射線固化性樹脂100重量份以固體成分換算計為0.045~5重量份的范圍內(nèi)的值，

在從所述硬質(zhì)涂膜的最表面至5nm的位置為止的區(qū)域中，相對于利用深度方向的XPS分析測定的碳原子、氧原子、硅原子的總量100atom%，硅原子濃度為0.2~1.95atom%范圍內(nèi)的值。