[發明專利]硬質涂膜、透明導電性膜以及電容觸控面板

有效

• 申請號: 201510031986.3
• 申請日: 2015-01-22
• 公開（公告）號: CN104945965B
• 公開（公告）日: 2019-11-22
• 發明（設計）人: 佐藤慶一;渡邊卓三
• 申請（專利權）人: 琳得科株式會社
• 主分類號: C09D4/02
• 分類號: C09D4/02;C09D7/62;G06F3/044
• 代理公司: 72001 中國專利代理(香港)有限公司
• 代理人: 龐立志;楊思捷<國際申請>=<國際公布>

1.硬質涂膜，其在基材膜的至少單面具備硬質涂層，該硬質涂膜的特征在于，

所述硬質涂膜的根據JIS K 7105測定的霧度值為1.0%以下，

所述硬質涂層由至少包含（A）能量射線固化性樹脂、（B）疏水化硅溶膠、以及（C）有機硅系流平劑的硬質涂層形成材料的固化物構成，

所述（B）疏水化硅溶膠集中于將所述硬質涂層形成材料固化后的所述硬質涂層的與所述基材膜相反的表面側，

所述（B）疏水化硅溶膠的配合量相對于所述（A）能量射線固化性樹脂100重量份以固體成分換算計為0.3~55重量份的范圍內的值，

使根據JIS R 3257測定的水與將所述（B）疏水化硅溶膠制成涂膜時的涂膜的接觸角為100°以上的值，

所述（C）有機硅系流平劑選自有機硅改性丙烯酸樹脂、聚醚改性聚二甲基硅氧烷、聚醚酯改性含羥基聚二甲基硅氧烷、聚酯改性含羥基聚二甲基硅氧烷中的至少1種，

所述（C）有機硅系流平劑的配合量相對于所述（A）能量射線固化性樹脂100重量份以固體成分換算計為0.045~5重量份的范圍內的值，

在從所述硬質涂膜的最表面至5nm的位置為止的區域中，相對于利用深度方向的XPS分析測定的碳原子、氧原子、硅原子的總量100atom%，硅原子濃度為0.2~1.95atom%范圍內的值。

2.權利要求1所述的硬質涂膜，其特征在于，所述（B）疏水化硅溶膠的平均粒徑為10~100nm的范圍內的值。

3.權利要求1所述的硬質涂膜，其特征在于，所述硬質涂層的表面的根據JIS B 0601-1994測定的算術平均粗糙度Ra為1.5~5nm的范圍內的值。

4.透明導電性膜，其特征在于，其在權利要求1所述的硬質涂膜的至少單面具備透明導電層。

5.電容觸控面板，其包含：具備防玻璃飛散膜的蓋板玻璃、第一透明導電性膜、第二透明導電性膜、以及液晶顯示體，該電容觸控面板的特征在于，

所述第一透明導電性膜和所述第二透明導電性膜或者任一者在具有硬質涂層的硬質涂膜的所述硬質涂層上具備透明導電層，

該硬質涂膜在基材膜的至少單面具備所述硬質涂層，

所述硬質涂膜的根據JIS K 7105測定的霧度值為1.0%以下，

所述硬質涂層由至少包含（A）能量射線固化性樹脂、（B）疏水化硅溶膠、以及（C）有機硅系流平劑的硬質涂層形成材料的固化物構成，

所述（B）疏水化硅溶膠集中于將所述硬質涂層形成材料固化后的所述硬質涂層的與所述基材膜相反的表面側，

所述（B）疏水化硅溶膠的配合量相對于所述（A）能量射線固化性樹脂100重量份以固體成分換算計為0.3~55重量份的范圍內的值，

使根據JIS R 3257測定的水與將所述（B）疏水化硅溶膠制成涂膜時的涂膜的接觸角為100°以上的值，

所述（C）有機硅系流平劑選自有機硅改性丙烯酸樹脂、聚醚改性聚二甲基硅氧烷、聚醚酯改性含羥基聚二甲基硅氧烷、聚酯改性含羥基聚二甲基硅氧烷中的至少1種，

所述（C）有機硅系流平劑的配合量相對于所述（A）能量射線固化性樹脂100重量份以固體成分換算計為0.045~5重量份的范圍內的值，

在從所述硬質涂膜的最表面起至5nm的位置為止的區域中，相對于利用深度方向的XPS分析測定的碳原子、氧原子、硅原子的總量100atom%，硅原子濃度為0.2~1.95atom%范圍內的值。

6.硬質涂膜的制造方法，所述硬質涂膜在基材膜的至少單面具備硬質涂層，該制造方法的特征在于，包括下述工序（1）~（3），

（1）準備硬質涂層形成材料的工序，所述硬質涂層形成材料至少包含（A）能量射線固化性樹脂、（B）疏水化硅溶膠、以及（C）有機硅系流平劑；

（2）將所述硬質涂層形成材料涂布于所述基材膜的至少單面的工序；

（3）使所述硬質涂層形成材料固化，根據JIS K 7105測定的霧度值為1.0%以下，從而形成具備硬質涂層的硬質涂膜的工序，所述硬質涂層中，所述（B）疏水化硅溶膠集中于使所述硬質涂層形成材料固化后的所述硬質涂層的與所述基材膜相反的表面側，

所述（B）疏水化硅溶膠的配合量相對于所述（A）能量射線固化性樹脂100重量份以固體成分換算計為0.3~55重量份的范圍內的值，

使根據JIS R 3257測定的水與將所述（B）疏水化硅溶膠制成涂膜時的涂膜的接觸角為100°以上的值，

所述（C）有機硅系流平劑選自有機硅改性丙烯酸樹脂、聚醚改性聚二甲基硅氧烷、聚醚酯改性含羥基聚二甲基硅氧烷、聚酯改性含羥基聚二甲基硅氧烷中的至少1種，

所述（C）有機硅系流平劑的配合量相對于所述（A）能量射線固化性樹脂100重量份以固體成分換算計為0.045~5重量份的范圍內的值，

在從所述硬質涂膜的最表面至5nm的位置為止的區域中，相對于利用深度方向的XPS分析測定的碳原子、氧原子、硅原子的總量100atom%，硅原子濃度為0.2~1.95atom%范圍內的值。