[發明專利]一種油畫的三維太赫茲成像方法有效
| 申請號： | 201510026532.7 | 申請日： | 2015-01-19 |
| 公開（公告）號： | CN104614339B | 公開（公告）日： | 2017-03-01 |
| 發明（設計）人： | 王可嘉;張振偉;劉勁松;張存林;楊振剛;牛麗婷 | 申請（專利權）人： | 華中科技大學;首都師范大學;故宮博物院 |
| 主分類號： | G01N21/3586 | 分類號： | G01N21/3586 |
| 代理公司： | 華中科技大學專利中心42201 | 代理人： | 廖盈春 |
| 地址： | 430074 湖北*** | 國省代碼： | 湖北;42 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 油畫 三維 赫茲 成像 方法 | ||
1.一種油畫的三維太赫茲成像方法，其特征在于，包括如下步驟：
(1)生成周期性鋸齒狀太赫茲連續波發射信號；
(2)將發射信號分成兩路，得到第一發射信號和第二發射信號；將第一發射信號聚焦到待測油畫上；
(3)將第二發射信號和第一發射信號經待測油畫的不同畫層反射后得到的多路反射信號通過混頻器混頻，得到與多路反射信號一一對應的多路差頻信號；
(4)分別對各路差頻信號進行采樣，其中，對每一路差頻信號，采樣得到兩個離散的數據序列；對每一路差頻信號的兩個離散的數據序列分別進行離散傅里葉變換，得到與多路反射信號一一對應的第一分析信號和第二分析信號；
(5)根據與多路反射信號一一對應的第一分析信號和第二分析信號，得到各路反射信號對應的油畫畫層到混頻器的距離；
(6)改變第一發射信號聚焦到待測油畫上的位置；
(7)重復執行步驟(3)～(6)，使第一發射信號聚焦到待測油畫上的位置遍歷待測油畫上的所有成像區域，得到待測油畫成像區域中的每一個位置對應的所有油畫畫層到混頻器的距離，進而得到待測油畫成像區域中不同畫層的點的位置信息；
(8)根據待測油畫成像區域中不同畫層的點的位置信息及其對應的反射信號光強，重建油畫，得到油畫的三維圖像。
2.如權利要求1所述的油畫的三維太赫茲成像方法，其特征在于，所述步驟(4)中，任一路反射信號R對應的第一分析信號V1(k)和第二分析信號V2(k)分別為：
其中，f0為第二發射信號的中心頻率，B為掃頻帶寬，td為反射信號R相對第二發射信號的時延，N為單個離散的數據序列的采樣點數，k為正數。
3.如權利要求2所述的油畫的三維太赫茲成像方法，其特征在于，所述步驟(5)中，反射信號R對應的油畫畫層到混頻器的距離為：
其中，c為真空光速，表示取與最接近的整數。
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