[發明專利]一種藥物面膜及其制備方法在審
| 申請號: | 201510026434.3 | 申請日: | 2015-01-20 |
| 公開(公告)號: | CN104523533A | 公開(公告)日: | 2015-04-22 |
| 發明(設計)人: | 吳學謙 | 申請(專利權)人: | 吳學謙 |
| 主分類號: | A61K8/97 | 分類號: | A61K8/97;A61K8/96;A61K8/19;A61Q19/00;A61Q19/02;A61Q19/08 |
| 代理公司: | 無 | 代理人: | 無 |
| 地址: | 211700 江蘇省*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 藥物 面膜 及其 制備 方法 | ||
技術領域:
本領域屬于日用化妝品領域,特別涉及運用藥石、藥草、藥土三類藥材制備面膜的方法。
背景技術:
目前市場上的化妝品種類繁多,大多以化學品合成為主,含有鉛、鎘、汞、砷等有毒重金屬,長期使用,對皮膚傷害性較大。市面上的一些藥物面膜,要么因成分少而功能單一,要么因成分多,而制作不方便,成本較高。商家往往追求面膜的快速有效性,往往在皮膚表面大做文章,導致治標不治本的現象出現。這些因素制約著面膜而至化妝品業的發展,如何打破這一瓶頸,找到標本兼顧而又無后遺癥的方法是關鍵。
本發明的藥石、藥草、藥土三類藥材四種原料正是起到標本兼顧祛毒保健的效果,其背景技術相關情況如下。
麥飯石,麥飯石對重金屬離子鉛、鎘、汞、砷,有機質、病菌等有毒有害物質有較強的吸附作用。對鉛、鎘、汞、砷的吸附率可以達到96%以上。特別適合清除因日常使用的化學品合成面膜而聚集在面部的重金屬。其富含鋅、硒、鎂礦物鹽及可以促進膠原蛋白形成的偏硅酸鹽,增強皮扶彈性,營養皮扶粘膜,調節過胖和過瘦,促進體形健美。另外還有抗疲勞的特殊功效。
水元石,水元石獨特的天然循環磁場,可以使面部水份呈弱堿性、小分子團、負電位,并富含氧分。弱堿性改善面質,小分子團有效吸收水分,負電位抑制自由基,高含氧提高面部抗病毒入侵能力。另外水元石可以促使面部油脂的溶解,對油性皮膚效果更佳。
葛根,葛根異黃酮具有清除氧自由基及抗脂質過氧化的功效,延緩皮膚衰老,及皺紋叢生,與水元石形成雙重功效。另外葛根異黃酮對人類皮膚黑色素的發生與形成具有抑制作用,防止黃褐斑、日曬斑等色素沉積。
海泡泥,主要成分海泡石粉,遇水后變得異常柔軟,如海綿般,接觸皮膚時有舒適感。不光無毒滅菌,還有保濕潤滑的效果,其強大的吸附力和巨大的比表面積使面膜與皮膚充分接觸,資源得到充分利用。涂抹完成還有拉皮祛皺作用。
發明內容:
本發明標本兼顧,由內到外對皮膚起到祛斑潤膚美白除皺功效。
其藥物面膜的制備步驟和操作指南如下:
1、原料:麥飯石20-30份、水元石10-15份、葛根粉45-55份、海泡泥10-15份按重量份比稱取好原料。
2、麥飯石和水元石干燥磨成細粉。
3、將磨成粉的麥飯石和水元石與葛根粉、海泡石黏土一起加溫水攪拌混合至泥狀,均勻的涂抹于臉部,保持10-15分鐘后,使面膜有效成分得到充分吸收發揮,再用清水清洗潔凈面部。
本發明藥物面膜其特征在于,結合了藥石、藥草、藥土三類藥材四種原料。利用麥飯石祛除由于在日常生活中所使用的化學品合成的面膜而至其他護膚品在面部殘留的鉛、鎘、汞、砷,有機質、病菌等有毒有害物質,達到表面的潔凈。水元石活化面部水分,提高膚質,溶解面部氧化油脂,平衡油脂。葛根異黃酮輔助水元石深層滋養面部,清除氧自由基及抗脂質過氧化,抑制黑色素產生,祛除色斑。再加以海泡泥的保濕潤滑效果,另其強大的吸附力與巨大的比表面積又使面膜與面部充分接觸,無死角,資源都得充分利用。
附圖說明:
圖1為本發明面膜的制備操作指南圖
具體實施方式:
實施例1
1、原料:麥飯石30份、水元石10份、葛根粉45份、海泡泥15份按重量比稱取好原料。
2、麥飯石和水元石干燥磨成細粉。
3、將磨成粉的麥飯石和水元石與葛根粉、海泡泥一起加溫水攪拌混合至泥狀,均勻的涂抹于臉部,10分鐘后,當面膜有效成分得到充分吸收發揮,再用清水清洗潔凈面部。
實施例2
1、原料:麥飯石20份、水元石15份、葛根粉55份、海泡泥10份按重量比稱取好原料。
2、麥飯石和水元石干燥磨成細粉。
3、將磨成粉的麥飯石和水元石與葛根粉、海泡泥一起加溫水攪拌混合至泥狀,均勻的涂抹于臉部,10分鐘后,當面膜有效成分得到充分吸收發揮,再用清水清洗潔凈面部。
實施例3
1、原料:麥飯石25份、水元石12份、葛根粉50份、海泡泥13份按重量比稱取好原料。
2、麥飯石和水元石干燥磨成細粉。
3、將磨成粉的麥飯石和水元石與葛根粉、海泡泥一起加溫水攪拌混合至泥狀,均勻的涂抹于臉部,15分鐘后,當面膜有效成分得到充分吸收發揮,再用清水清洗潔凈面部。
對于本領域技術人員而言,可以根據上述公開的技術方案以及構思,作出其他各種相應的改變以及變形,而所有的這些改變以及變形都應該落入本發明的權利要求的保護范圍之內。
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