[發明專利]紫外光刻二維平臺

有效

• 申請號: 201510026050.1
• 申請日: 2015-01-20
• 公開（公告）號: CN104597721A
• 公開（公告）日: 2015-05-06
• 發明（設計）人: 劉世杰;何駿;易葵;柯立公;楊留江;王斌;王岳亮;郭猛
• 申請（專利權）人: 中國科學院上海光學精密機械研究所
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 上海新天專利代理有限公司 31213
• 代理人: 張澤純;張寧展

1.一種紫外光刻二維平臺，特征在于該平臺包括底板(1)、立板(3)、L形托板(4)、深溝軸承(9)、鎖母(10)、軸承蓋(12)、第一旋轉臺(14)、傳動支座(16)、傳感器(19)、限位板(21)、限位桿(23)、第二旋轉臺(26)、氣嘴連接桿(28)、平板(29)、基板(31)和限位塊(33)，上述元部件的位置關系如下：

所述的立板(3)垂直地固定在所述的底板(1)上，所述的立板(3)的上部中心有一階梯狀橫孔，兩個雙溝軸承(9)置于該階梯狀橫孔內，利用內六角圓柱頭螺釘(13)將所述的軸承蓋(12)固定在立板的階梯橫孔內，通過鎖母(10)固定所述的雙溝軸承(9)和軸承蓋(12)；

第一旋轉臺(14)的主軸(7)穿過所述雙溝軸承(9)并將第一旋轉臺(14)固定在所述立板(3)的右面，利用內六角圓柱頭螺釘(18)將傳動支座(16)固定第一旋轉臺(14)的主軸(7)的圓形轉盤上，限位桿(23)固定在所述的傳動支座(16)上；所述的第一旋轉臺(14)的左側面和底面分別固定一限位板(21)，該限位板(21)上各固定一個傳感器(19)，保證所述的第一旋轉臺(14)在固定角度范圍內變化的同時，確定所述的第一旋轉臺(14)的轉動位置；

所述的L形托板(4)是由一塊長條板彎成的豎直板和水平板構成，在豎直板的上端開有一通孔，所述的L型托板(4)的水平板上固定第二旋轉臺(26)，所述的平板(29)固定在與第二旋轉臺(26)的轉軸相連的轉盤上，所述的基板(31)通過螺釘(27)固定在所述的平板(29)的上方，所述的基板(31)上開有凹槽(37)，在該凹槽(37)內有一個圓形凹孔(36)和多個密集的陣列小通孔(35)，所述的L型托板(4)的通過豎直板的通孔固定在第一旋轉臺(14)的主軸(7)上，所述的基板(31)上密集的陣列小通孔(35)與所述的氣嘴連接桿(28)相連通。

2.根據權利要求1所述的紫外光刻二維平臺，其特征在于所述的L型托板(4)的兩側面上設有支撐筋(6)。

3.根據權利要求1所述的紫外光刻二維平臺，其特征在于所述的基板(31)上圓形凹孔(36)的直徑為30mm，深度3mm,用來放置實驗用的基片。

4.根據權利要求1所述的紫外光刻二維平臺，其特征在于所述的基板(31)上密集的陣列小通孔(35)通過所述的氣嘴連接桿(28)與抽氣的真空泵相連。