[發(fā)明專利]氣體凈化設(shè)備

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201510019127.2
• 申請(qǐng)日: 2015-01-14
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN104524905B
• 公開(kāi)（公告）日: 2017-03-08
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 何方
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 何方
• 主分類號(hào): B01D47/06
• 分類號(hào): B01D47/06;B01D53/18
• 代理公司: 北京東方匯眾知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙)11296
• 代理人: 張淑賢,毛軍

1.一種氣體凈化設(shè)備，其特征在于，包括殼體、底板、第一離心洗滌水分散裝置、轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)、第一進(jìn)水管和第一噴水裝置；

所述殼體的內(nèi)部形成有氣體流通通道；所述底板設(shè)置于所述殼體內(nèi)，且垂直于所述氣體流通通道內(nèi)的氣體流動(dòng)方向；所述底板上開(kāi)設(shè)有多個(gè)便于氣體通過(guò)的開(kāi)口；

所述轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)的一端位于所述殼體外部，另一端固定于所述底板上，當(dāng)所述轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí)，帶動(dòng)所述底板轉(zhuǎn)動(dòng)；

所述第一離心洗滌水分散裝置固定于所述底板上；

所述殼體的側(cè)壁上開(kāi)設(shè)有開(kāi)口，所述第一噴水裝置設(shè)置于所述第一離心洗滌水分散裝置內(nèi)，所述第一進(jìn)水管的一端穿過(guò)所述殼體的側(cè)壁上的開(kāi)口與所述第一噴水裝置連通；

所述殼體的底部開(kāi)設(shè)有第一排水口；所述殼體的側(cè)壁上開(kāi)設(shè)有第二排水口。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣體凈化設(shè)備，其特征在于，所述第一離心洗滌水分散裝置包括多個(gè)與所述底板同軸心線的環(huán)狀柵欄，所述每一個(gè)環(huán)狀柵欄均包括多個(gè)豎桿和多個(gè)橫桿，所述多個(gè)豎桿固定于所述底板的上表面上，且沿所述底板的圓周方向分布，所述每一個(gè)橫桿均固定于所述豎桿。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣體凈化設(shè)備，其特征在于，所述第一離心洗滌水分散裝置包括多個(gè)網(wǎng)或多個(gè)多孔板，所述多個(gè)網(wǎng)或多個(gè)多孔板均固定于所述底板的上表面上，且所述每一個(gè)網(wǎng)或每一個(gè)多孔板均沿所述底板的圓周方向形成一個(gè)環(huán)。

4.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的氣體凈化設(shè)備，其特征在于，所述第二排水口連接有水封結(jié)構(gòu)。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的氣體凈化設(shè)備，其特征在于，還包括轉(zhuǎn)筒，所述轉(zhuǎn)筒固定于所述底板上，所述第一離心洗滌水分散裝置位于所述轉(zhuǎn)筒內(nèi)，所述轉(zhuǎn)筒的側(cè)壁上開(kāi)設(shè)有多個(gè)開(kāi)口。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的氣體凈化設(shè)備，其特征在于，所述第一噴水裝置貫穿所述第一離心洗滌水分散裝置，且其為一端封閉的管狀，且在所述管壁上開(kāi)設(shè)有多個(gè)噴孔，所述相鄰高度的噴孔沿所述第一噴水裝置的高度方向錯(cuò)落排列，相鄰列的噴孔沿所述第一噴水裝置的周向錯(cuò)落排列。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的氣體凈化設(shè)備，其特征在于，所述噴孔的直徑為0.1-10mm。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的氣體凈化設(shè)備，其特征在于，還包括底殼、轉(zhuǎn)動(dòng)板、第二離心洗滌水分散裝置、第二噴水裝置和第二進(jìn)水管；

所述殼體設(shè)置于所述底殼內(nèi)；所述底殼的側(cè)壁上開(kāi)設(shè)有進(jìn)氣口；

所述轉(zhuǎn)動(dòng)板設(shè)置于所述底殼內(nèi)，且可以沿所述底殼的軸心線轉(zhuǎn)動(dòng)；

所述第二離心洗滌水分散裝置設(shè)置于所述轉(zhuǎn)動(dòng)板上；

所述第二噴水裝置設(shè)置于所述殼體與所述第二離心洗滌水分散裝置之間；

所述底殼的上壁或底壁上開(kāi)設(shè)有開(kāi)口，所述第二進(jìn)水管穿過(guò)所述底殼的上壁或底壁上的開(kāi)口，與所述第二噴水裝置連通。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的氣體凈化設(shè)備，其特征在于，所述第二噴水裝置為多個(gè)，所述多個(gè)第二噴水裝置圍繞所述殼體均勻分布。