[發明專利]一種用于GPP工藝中混合玻璃粉用負性光刻膠組合物

在審

• 申請號: 201510015035.7
• 申請日: 2015-01-09
• 公開（公告）號: CN104614939A
• 公開（公告）日: 2015-05-13
• 發明（設計）人: 卞玉桂
• 申請（專利權）人: 蘇州瑞紅電子化學品有限公司
• 主分類號: G03F7/004
• 分類號: G03F7/004;G03F7/008;G03F7/027;G03F7/075
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術領域

本發明涉及一種光刻膠，尤其涉及一種應用在二極管GPP工藝段中使用混合玻璃粉的高粘度光刻膠。

背景技術

近幾年電子行業有了新的發展，光刻膠本身的不斷改進為電子行業提供信息化產業的基礎，而電子行業的發展又對光刻膠提出了新的要求。光刻技術是微電子技術發展的關鍵技術，而光刻膠則是光刻膠的關鍵材料。環化橡膠為負性光刻膠的關鍵母體材料，其特殊的粘附性能可以耐住不同比例的氫氟酸和硝酸體系的蝕刻，故而可以大量應用于微電子集成電路和半導體制造工藝中。環化橡膠配置成的光刻膠由于具有高粘附性，高分辨率、高感度、低成本等特點，目前被廣泛應用于半導體二極管制造工藝中。高粘度光刻膠是IC半導體工藝制造中用于硅片和二氧化硅底材中挖溝開槽用的一種特殊的光刻膠，其工藝本身要求開溝在150um以上，其性能要耐得住氫氟酸和硝酸的腐蝕。目前隨著二極管擊穿電壓的不斷提高，傳統的手工刮涂工藝，其良率、擊穿電壓也無法滿足一些特殊行業如變壓器等領域的要求。越來越多的制造商開始轉變模式選擇臺面工藝來制造二極管，即二道工藝是采用玻璃粉和光刻膠混合，經涂布、烘干、顯影后，用高溫將其燒結，因為光刻膠本身在燒結爐中高溫燒結會碳化，不會對產品的產生影響。傳統的刮玻璃膠工藝，其缺點是切割速度非常慢，一般小于400mil/S，且晶片玻璃燒結燒結后彎曲度大，工藝上碎片率也難以控制，導致其良率比較低，一般不會高于97％。混合玻璃粉法其優點在于晶片彎度度小，切割速度可以提高三倍以上，切割刀的壽命提高五倍，同時提高耐擊穿電壓，良率在99％以上。但目前混合玻璃粉工藝還沒有普及，其大規模應用還存在技術問題。比如：光刻膠在黃光區為無色，玻璃粉為白色，經兩者混合后涂布于白色的硅片，那么在曝光機對焦的時候將無法看到對焦點；針對此情況，針對性的在此光刻膠中添加特殊顏料，其性質在液態時顯無色，其固態形狀時顯深色，這樣在黃光區涂布后顯深色的光刻膠，能準確找到對焦點。其次光刻膠本身密度在0.9，而玻璃粉密度在3.6左右，兩者相混合后，是否可以均勻混合好，是否會因為玻璃粉密度大而產生沉降等問題也是必需要解決的，為此我們嘗試添加常規的分散劑，但是由于密度差異大，加入后雖然可以暫時起到分散效果，但是不能長久的保持均一性，大約4小時候就會發生沉降現象，本發明采用的特殊添加劑丙基三甲氧基硅烷二聚物，該添加劑可以有效的增加玻璃粉和光刻膠的浸潤性，同時確保玻璃粉和光刻膠相互混合溶7天，不會產生沉降現象。

發明內容

本發明的目的在于解決上述的技術問題，提供一種可以和玻璃粉相混合，可以在曝光機下對焦，且混合后不發生沉降現象的負性光刻膠。

本發明的目的通過以下技術方案來實現：

一種用于GPP工藝中混合玻璃粉用負性光刻膠組合物，其特征在于：所述負性光刻膠組成含有：

A.環化橡膠的二甲苯溶液

B.2，6-二(4-疊氮苯亞甲基)-4-甲基環戊酮

C.異丙酸基丙烯酸脂

D.丙基三甲氧基硅烷二聚物

進一步地，以上所述的一種用于GPP工藝中混合玻璃粉用負性光刻膠組合物，其中所述成分(A)為，環化橡膠的二甲苯溶液，其環化橡膠分子量為25±0.5萬，其環化率控制在87±1％。

進一步地，以上所述的一種用于GPP工藝中混合玻璃粉用負性光刻膠組合物，其中所述成分(B)2，6-二(4-疊氮苯亞甲基)-4-甲基環戊酮

進一步地，以上所述的一種用于GPP工藝中混合玻璃粉用負性光刻膠組合物，其中所述成分(C)為異丙酸基丙烯酸脂。

進一步地，以上所述的一種用于GPP工藝中混合玻璃粉用負性光刻膠組合物，其中所述成分(D)成分為分子量3000的丙基三甲氧基硅烷二聚物。

以上所述的以上所述的一種用于GPP工藝中混合玻璃粉用負性光刻膠組合物的用途，其中所述負性光刻膠組合物用于GPP工藝中混合玻璃粉的應用，其特性是與玻璃粉混合后可以有效的相溶，可以對焦，7天內不發生沉降，能有效的提高產品的擊穿電壓和生產效率。

具體實施方式

本發明的負性光刻膠中，環化橡膠的二甲苯溶液，其較佳的質量百分百在15～30％之內，較佳的質量百分含量可以得到較好的粘度和膜厚條件，質量百分比低于15％或高于30％，都不適合充當混合玻璃粉工藝的負性光刻膠。其中，其環化橡膠分子量為25±0.5萬，其環化率控制在87±1％時，對曝光、顯影尤為有幫助。