[發(fā)明專利]一種基于損耗材料薄膜的增透系統(tǒng)有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201510013322.4 | 申請(qǐng)日: | 2015-01-09 |
| 公開(公告)號(hào): | CN104570165B | 公開(公告)日: | 2017-07-14 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 杜凱凱;李強(qiáng);仇旻 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 浙江大學(xué) |
| 主分類號(hào): | G02B1/113 | 分類號(hào): | G02B1/113 |
| 代理公司: | 杭州求是專利事務(wù)所有限公司33200 | 代理人: | 杜軍 |
| 地址: | 310027 浙*** | 國(guó)省代碼: | 浙江;33 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 基于 損耗 材料 薄膜 系統(tǒng) | ||
1.一種基于損耗材料薄膜的增透系統(tǒng),其特征在于沿光線傳播方向依次包括損耗材料薄膜、金屬薄膜、透明襯底;
所述的損耗材料薄膜與金屬薄膜厚度具體選擇可根據(jù)增透系統(tǒng)的透射率,并通過以下計(jì)算進(jìn)行求解:
損耗材料薄膜與金屬薄膜厚度遵循薄膜系統(tǒng)的特征矩陣方程,對(duì)于兩層膜系統(tǒng),膜系特征矩陣見公式(1):
其中M1、M2分別為金屬薄膜與損耗材料薄膜的特征矩陣;
和分別為金屬薄膜與損耗材料薄膜的復(fù)折射率,h1和h2分別為金屬薄膜與損耗材料薄膜的厚度,λ為入射波長(zhǎng),ε0為真空介電常數(shù),μ0為真空磁導(dǎo)率;
根據(jù)公式(2)得到薄膜系統(tǒng)的透射系數(shù)為
其中n0和nG分別為空氣和透明襯底的折射率;
則透射率為T=t·t*;
所述的損耗材料薄膜由對(duì)光束有吸收損耗的材料構(gòu)成。
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