[發明專利]具有取代苯基硫屬原子代低級烷基和導入酯結構的苯基作為取代基的新型1,2-二氫喹啉衍生物有效
| 申請號: | 201510012203.7 | 申請日: | 2007-11-14 |
| 公開(公告)號: | CN104672130A | 公開(公告)日: | 2015-06-03 |
| 發明(設計)人: | 松田學;長塚真聰;森俊之;小林幸子;加藤雅智;高井美和 | 申請(專利權)人: | 參天制藥株式會社 |
| 主分類號: | C07D215/06 | 分類號: | C07D215/06;C07D401/12;C07D409/12;C07D405/12;C07D417/12;C07D413/12;A61K31/47;A61K31/4709;A61K31/506;A61K31/5377;A61K31/496;A61K31/541 |
| 代理公司: | 北京市金杜律師事務所 11256 | 代理人: | 楊宏軍;王大方 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 具有 取代 苯基 硫屬原 子代 低級 烷基 導入 結構 作為 新型 喹啉 衍生物 | ||
1.下述通式(1)表示的化合物或其鹽,
R1表示氫原子或低級烷基;
R2表示氫原子或低級烷基;
R3及R4相同或不同,表示氫原子或低級烷基;
R5表示氫原子或低級烷基;
R6表示鹵原子、低級烷基、羥基、低級烷氧基、硝基或氰基;
X表示-C(O)-、-C(O)NR8-、-S(O)-或-S(O)2-;
R7及/或R8相同或不同,表示氫原子、可以具有取代基的低級烷基、可以具有取代基的低級鏈烯基、可以具有取代基的低級炔基、可以具有取代基的低級環烷基、可以具有取代基的芳基、可以具有取代基的雜環基、可以具有取代基的低級烷氧基、可以具有取代基的低級鏈烯基氧基、可以具有取代基的低級炔基氧基、可以具有取代基的低級環烷基氧基、可以具有取代基的芳基氧基或可以具有取代基的雜環氧基;
Y表示低級亞烷基;
Z表示硫屬原子;
p表示0、1、2或3,p為2或3時,R6可以相同或不同。
2.如權利要求1所述的化合物或其鹽,通式(1)中,
R1表示氫原子或低級烷基;
R2表示氫原子或低級烷基;
R3及R4相同或不同,表示氫原子或低級烷基;
R5表示氫原子或低級烷基;
R6表示鹵原子、低級烷基、羥基、低級烷氧基、硝基或氰基;
X表示-CO-、-C(O)NR8-、-S(O)-或-S(O)2-;
R7及/或R8相同或不同,表示氫原子、低級烷基、低級鏈烯基、低級炔基、低級環烷基、芳基、雜環基、低級烷氧基、低級鏈烯基氧基、低級炔基氧基、低級環烷基氧基、芳基氧基或雜環氧基;
R7及/或R8為低級烷基、低級鏈烯基、低級炔基、低級烷氧基、低級鏈烯基氧基或低級炔基氧基時,該低級烷基、該低級鏈烯基、該低級炔基、該低級烷氧基、該低級鏈烯基氧基或該低級炔基氧基可以具有選自下述基團中的1個或多個基團作為取代基,所述基團為鹵原子、低級環烷基、芳基、雜環基、羥基、低級烷氧基、低級鏈烯基氧基、低級炔基氧基、低級環烷基氧基、芳基氧基、雜環氧基及-NRaRb;
R7及/或R8為低級環烷基、芳基、雜環基、低級環烷基氧基、芳基氧基或雜環氧基時,該低級環烷基、該芳基、該雜環基、該低級環烷基氧基、該芳基氧基或該雜環氧基可以具有選自下述基團中的1個或多個基團作為取代基,所述基團為鹵原子、低級烷基、鹵代低級烷基、芳基、低級鏈烯基、低級炔基、低級環烷基、芳基、雜環基、羥基、低級烷氧基、鹵代低級烷氧基、低級鏈烯基氧基、低級炔基氧基、低級環烷基氧基、芳基氧基、雜環氧基、巰基、低級烷基硫基、低級鏈烯基硫基、低級炔基硫基、低級環烷基硫基、芳基硫基、雜環硫基、低級烷基羰基、芳基羰基、低級烷氧基羰基、芳基氧基羰基、低級烷基羰基氧基、芳基羰基氧基、-NRaRb、硝基及氰基;
Ra及Rb相同或不同,表示氫原子、低級烷基、低級鏈烯基、低級炔基、低級環烷基、芳基、雜環基、低級烷氧基羰基或芳基氧基羰基;
Y表示低級亞烷基;
Z表示硫屬原子;
p表示0、1、2或3,p為2或3時,R6可以相同或不同。
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