[其他]用于在基板上沉積材料的沉積裝置

有效

• 申請號: 201490001442.1
• 申請日: 2014-05-20
• 公開（公告）號: CN206624912U
• 公開（公告）日: 2017-11-10
• 發明（設計）人: T·W·齊爾鮑爾;A·赫爾米希;R·欣特舒斯特;U·慕爾菲德;B·斯托克;H·G·沃爾夫;M·班德爾
• 申請（專利權）人: 應用材料公司
• 主分類號: C23C14/56
• 分類號: C23C14/56;C23C16/44;C23C16/54
• 代理公司: 上海專利商標事務所有限公司31100
• 代理人: 侯穎媖

1.一種用于在基板上沉積材料的沉積裝置，包括：

第一處理腔室和第二處理腔室；

位于所述第一處理腔室內的至少一個第一沉積源和位于所述第二處理腔室內的至少一個第二沉積源；以及

至少一個第一遮蔽設備；

其中所述至少一個第一遮蔽設備配置為至少在第一位置和第二位置之間為可移動的，其中所述至少一個第一遮蔽設備配置為當所述至少一個第一遮蔽設備在所述第一位置時遮蔽所述至少一個第一沉積源，且其中所述至少一個第一遮蔽設備配置為在所述第一處理腔室和所述第二處理腔室之間為可移動的。

2.如權利要求1所述的沉積裝置，其中所述至少一個第一遮蔽設備配置為當所述至少一個第一遮蔽設備在所述第二位置時遮蔽所述至少一個第二沉積源。

3.如權利要求1所述的沉積裝置，其中所述至少一個第一遮蔽設備配置為第一氣體分離遮蔽件。

4.如權利要求2所述的沉積裝置，其中所述至少一個第一遮蔽設備配置為第一氣體分離遮蔽件。

5.一種用于在基板上沉積材料的沉積裝置，包括：

第一處理腔室和第二處理腔室；

位于所述第一處理腔室內的至少一個第一沉積源和位于所述第二處理腔室內的至少一個第二沉積源；

至少一個第一遮蔽設備，其中所述至少一個第一遮蔽設備配置為至少在第一位置和第二位置之間為可移動的，其中所述至少一個第一遮蔽設備配置為當所述至少一個第一遮蔽設備在所述第一位置時遮蔽所述至少一個第一沉積源；以及

至少一個第二遮蔽設備，配置為至少在第三位置和第四位置之間為可移動的，其中所述至少一個第二遮蔽設備配置為當所述至少一個第二遮蔽設備在所述第三位置時遮蔽所述至少一個第二沉積源。

6.如權利要求5所述的沉積裝置，其中所述至少一個第一遮蔽設備設置在所述第一處理腔室中，和/或其中所述至少一個第二遮蔽設備設置在所述第二處理腔室中。

7.如權利要求5所述的沉積裝置，其中所述至少一個第一遮蔽設備包括第一卷簾，和/或其中所述至少一個第二遮蔽設備包括第二卷簾。

8.如權利要求6所述的沉積裝置，其中所述至少一個第一遮蔽設備包括第一卷簾，和/或其中所述至少一個第二遮蔽設備包括第二卷簾。

9.如權利要求5所述的沉積裝置，其中所述至少一個第一遮蔽設備配置為第一氣體分離遮蔽件，和/或其中所述至少一個第二遮蔽設備配置為第二氣體分離遮蔽件。

10.如權利要求1至9中的一項所述的沉積裝置，還包括基板支撐件，所述基板支撐件至少延伸通過所述第一處理腔室和所述第二處理腔室，其中在所述第一位置中，所述至少一個第一遮蔽設備至少部分地定位在所述至少一個第一沉積源與所述基板支撐件之間。

11.如權利要求1至9中的一項所述的沉積裝置，還包括一個或多個進一步的處理腔室，其中至少一個進一步的沉積源設置在所述一個或多個進一步的處理腔室的至少一者中。

12.如權利要求10所述的沉積裝置，還包括一個或多個進一步的處理腔室，其中至少一個進一步的沉積源設置在所述一個或多個進一步的處理腔室的至少一者中。

13.如權利要求1至9中的一項所述的沉積裝置，還包括一個或多個進一步的遮蔽設備。

14.如權利要求10所述的沉積裝置，還包括一個或多個進一步的遮蔽設備。

15.如權利要求11所述的沉積裝置，還包括一個或多個進一步的遮蔽設備。

16.如權利要求1至9中的一項所述的沉積裝置，所述沉積裝置配置為用于沉積至少一個第一層堆疊和第二層堆疊。

17.如權利要求16所述的沉積裝置，其中所述第二層堆疊不同于所述第一層堆疊。