[發明專利]三維半色調化有效
| 申請號: | 201480083053.2 | 申請日: | 2014-10-29 |
| 公開(公告)號: | CN107077063B | 公開(公告)日: | 2018-11-06 |
| 發明(設計)人: | 彼得·莫羅維奇;賈恩·莫羅維奇;杰伊·S·貢德克 | 申請(專利權)人: | 惠普發展公司;有限責任合伙企業 |
| 主分類號: | G03F3/08 | 分類號: | G03F3/08;G06K15/00 |
| 代理公司: | 北京德琦知識產權代理有限公司 11018 | 代理人: | 梁洪源;康泉 |
| 地址: | 美國德*** | 國省代碼: | 美國;US |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 三維 色調 | ||
1.一種三維半色調化方法,包括:
提供包括值的半色調矩陣;
將所述半色調矩陣細分為多個子矩陣,每個子矩陣包括所述半色調矩陣的在相應子范圍中的值;
針對物體的三維表示的當前切片,選擇所述半色調矩陣的所述多個子矩陣中的子矩陣;以及
使用所選擇的子矩陣半色調化所述當前切片。
2.根據權利要求1所述的方法,進一步包括:針對所述物體的三維模型的后續切片,選擇所述半色調矩陣的所述多個子矩陣中的后續子矩陣,并且使用所述后續子矩陣半色調化所述后續切片。
3.根據權利要求1所述的方法,進一步包括:根據所述子范圍按序排列所述多個子矩陣。
4.根據權利要求1所述的方法,其中針對所述當前切片選擇所述子矩陣包括:基于所述當前切片的編號,以所述子矩陣的總數為模,選擇所述子矩陣。
5.根據權利要求2所述的方法,其中針對所述后續切片選擇所述后續子矩陣包括:基于所述后續切片的編號,以所述子矩陣的總數為模,選擇所述后續子矩陣。
6.根據權利要求1所述的方法,進一步包括:將所述半色調矩陣的所述值的范圍劃分為多個相等而不相交的子范圍。
7.根據權利要求1所述的方法,進一步包括:確定當前處理參數并基于所述當前處理參數來優化所述半色調矩陣。
8.根據權利要求1的方法,進一步包括:根據對應切片的所述半色調化,在所述物體的層上沉積材料。
9.根據權利要求1所述的方法,其中所述物體的表示包括所述物體的在每個切片上的元素的多個值,并且所述半色調化包括使用相應子矩陣的對應值來閾值化所述表示的值,其中所述多個值與針對所述物體的相應元素所定義的多個區域覆蓋矢量對應。
10.根據權利要求1所述的方法,其中所述物體的表示的每個元素與要打印在層上的子元素的區域對應。
11.根據權利要求1所述的方法,其中所述子范圍是根據重疊值的重疊子范圍。
12.一種用于從物體的數字表示產生所述物體的增材制造方法,所述方法包括:
確定所述物體的數字表示的每個切片上的每個像素的區域覆蓋矢量;
將包括閾值的二維半色調矩陣細分為多個按序排列的子矩陣,每個子矩陣包括所述半色調矩陣的在相應子范圍中的閾值;
針對按序制造序列的每層:
確定所述物體的數字表示的與所述層對應的切片;
基于所述切片的編號,以所述多個按序排列的子矩陣的總數為模,選擇所述多個按序排列的子矩陣中的子矩陣,
使用所選擇的子矩陣的各個閾值半色調化所述切片的所述區域覆蓋矢量,以及
根據所述切片的所述區域覆蓋矢量的所述半色調化的結果,在所述層上沉積材料或流體。
13.根據權利要求12所述的方法,其中所述沉積材料包括沉積構造材料或打印流體。
14.根據權利要求12所述的方法,其中所述二維半色調矩陣是空閑和聚類矩陣。
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