[發明專利]用于流體的噴嘴裝置

有效

• 申請號: 201480082404.8
• 申請日: 2014-10-02
• 公開（公告）號: CN107073488B
• 公開（公告）日: 2018-12-11
• 發明（設計）人: 達維德·魯克維德;克里斯蒂安·朗格爾
• 申請（專利權）人: 阿爾弗雷德·卡赫歐洲兩合公司
• 主分類號: B05B1/04
• 分類號: B05B1/04;B08B3/02
• 代理公司: 中原信達知識產權代理有限責任公司 11219
• 代理人: 李驥;車文

本發明涉及一種噴嘴裝置(10)，其具有噴嘴入口部分(12)和噴嘴出口部分(16)，噴嘴入口部分具有針對加壓的流體的入口通道(28)，噴嘴出口部分相對于噴嘴入口部分(12)能在第一位置與第二位置之間連續往復移動，并且噴嘴出口部分具有被構造為扁平射束噴嘴的高壓噴嘴(74)和被構造為扁平射束噴嘴的至少一個低壓噴嘴(104、106)。在第一位置中，僅高壓噴嘴(74)與入口通道(28)連接，并且在第二位置中，高壓噴嘴(74)和至少一個低壓噴嘴(104、106)與入口通道(28)連接。為了使所排出的流體的壓力在運輸量恒定的情況下并且在射束圖形盡可能較少變化的情況下能夠均勻變化而提出的是，至少一個低壓噴嘴(104、106)相對高壓噴嘴(74)徑向錯開地布置，并且噴嘴出口部分(16)具有連接接頭(78)，經由連接接頭使高壓噴嘴(74)與噴嘴出口部分(16)的位置無關地與入口通道(28)處于流動連接中，并且連接接頭在噴嘴出口部分(16)的第一位置中中斷了入口通道(28)與至少一個低壓噴嘴(104、106)的流動連接，并且連接接頭在噴嘴出口部分(16)從第一位置過渡到第二位置中時釋放了寬度能調整的放大的環形間隙(13)，經由環形間隙使得入口通道(28)與至少一個低壓噴嘴(104、106)處于流動連接中。

技術領域

本發明涉及一種用于流體的噴嘴裝置，其具有噴嘴入口部分和噴嘴出口部分，噴嘴入口部分具有針對加壓的流體的入口通道，噴嘴出口部分相對于噴嘴入口部分可以在第一位置與第二位置之間連續往復移動，并且噴嘴出口部分具有被構造為扁平射束噴嘴的高壓噴嘴和至少一個被構造為扁平射束噴嘴的低壓噴嘴，其中，在第一位置中，僅高壓噴嘴與入口通道處于流動連接中，并且其中，在第二位置中，高壓噴嘴和至少一個低壓噴嘴與入口通道處于流動連接中。

背景技術

借助這種噴嘴裝置可以將加壓的流體，例如水指向表面。加壓的流體可以例如經由高壓清潔設備或類似的設備的射束管輸送至噴嘴裝置。加壓的流體由噴嘴裝置以扁平射束的形式排出。借助扁平射束可以在短時間內給大的表面加載以流體，例如以便清潔表面，然而流體的壓力在表面敏感的情況下必須降低，以便避免損壞。

由EP 0 501 164 A1公知了一種噴嘴裝置，其具有噴嘴入口部分和能相對于噴嘴入口部分移動的噴嘴出口部分。噴嘴出口部分除了高壓噴嘴之外還具有兩個相對高壓噴嘴對稱地布置的排放孔。噴嘴出口部分可以相對于噴嘴入口部分占據第一位置，在該第一位置中，經由射束管輸送給噴嘴入口部分的流體僅經由高壓噴嘴排出，從而使排出的流體具有高壓。此外，噴嘴出口部分可以占據第二位置，在該第二位置中，流體不僅可以經由高壓噴嘴而且也可以經由出口孔排出，從而使總共排出的流體具有相對較低的壓力。所排出的流體的壓力的連續的變化在該噴嘴裝置中是不可能的，這是因為噴嘴出口部分可選地僅能夠占據第一位置或第二位置。流體在此由高壓噴嘴，并由出口孔以點射束的形式排出。

由EP 1 569 755 B1公知了一種上述類型的噴嘴裝置。噴嘴出口部分具有被設計成扁平射束噴嘴的高壓噴嘴和同軸于高壓噴嘴地布置的低壓噴嘴，低壓噴嘴同樣被構造為扁平射束噴嘴。噴嘴入口部分包括入口通道，加壓的流體可以經由射束管輸送給該入口通道。在噴嘴出口部分的第一位置中，僅高壓噴嘴與入口通道處于流動連接中，從而使流體能夠在高壓下由高壓噴嘴排出。在噴嘴出口部分的第一位置中中斷了入口通道與低壓噴嘴之間的流動連接。通過將噴嘴出口部分從第一位置移動到第二位置中而釋放了從入口通道至低壓噴嘴的流路，其中，流路的流動橫截面在噴嘴出口部分移動到第二位置中時連續擴大。輸送給噴嘴入口部分的流體可以因此經由高壓噴嘴并且經由低壓噴嘴排出。這能夠實現的是，所排出的流體的壓力在運輸量恒定的情況下連續變化。然而，公知的噴嘴裝置具有非線性的調節表征，也就是說，所排出的流體的壓力在噴嘴出口部分均勻移動的情況下并不均勻地變化。這使得對期望的壓力的可再現的調整變得困難。此外，在公知的噴嘴裝置中，在噴嘴出口部分移動時，所排出的流體的射束圖形發生變化，也就是說扁平射束的幾何形狀發生變化。

發明內容

本發明的任務是以如下方式改進上述類型的噴嘴裝置，即，所排出的流體的壓力在運輸量恒定并且射束圖形盡可能變化小的情況下可以均勻變化。