[發明專利]蒸鍍裝置、蒸鍍方法和有機電致發光元件的制造方法

有效

• 申請號: 201480074226.4
• 申請日: 2014-11-28
• 公開（公告）號: CN105940140B
• 公開（公告）日: 2018-04-20
• 發明（設計）人: 越智貴志;井上智;小林勇毅;松永和樹;川戶伸一;菊池克浩;市原正浩;松本榮一
• 申請（專利權）人: 夏普株式會社
• 主分類號: C23C14/24
• 分類號: C23C14/24;H01L51/50;H05B33/10
• 代理公司: 北京尚誠知識產權代理有限公司11322
• 代理人: 龍淳

1.一種在基板上形成膜的蒸鍍裝置，其特征在于：

所述蒸鍍裝置包括第一膜厚監視部和包含蒸鍍源的蒸鍍單元，并且，一邊基于所述第一膜厚監視部的測定結果，控制從所述蒸鍍源放出氣化后的材料的部分與所述基板的被蒸鍍的表面之間的距離，一邊進行蒸鍍，

所述蒸鍍源包含加熱裝置，

所述蒸鍍裝置包括第二膜厚監視部，并且，

一邊基于所述第一膜厚監視部的測定結果控制所述距離和所述加熱裝置的輸出，并且基于所述第二膜厚監視部的測定結果控制所述距離的控制中的比例系數，一邊進行蒸鍍。

2.如權利要求1所述的蒸鍍裝置，其特征在于：

通過PID控制來控制所述輸出。

3.如權利要求1所述的蒸鍍裝置，其特征在于：

包括輸送機構，其在與所述基板的法線方向正交的方向上使所述基板和所述蒸鍍源的至少一方相對于另一方相對移動。

4.如權利要求3所述的蒸鍍裝置，其特征在于：

所述蒸鍍單元包含所述蒸鍍源和掩模，

所述輸送機構使所述基板和所述蒸鍍單元的至少一方相對于另一方相對移動。

5.如權利要求3所述的蒸鍍裝置，其特征在于：

所述蒸鍍裝置包括掩模，

所述輸送機構使所述蒸鍍源和貼合了所述掩模的所述基板的至少一方相對于另一方相對移動。

6.如權利要求1所述的蒸鍍裝置，其特征在于：

所述蒸鍍裝置包括：掩模；和具有使貼合了所述掩模的所述基板旋轉的旋轉機構的基板保持件。

7.如權利要求1～6中任一項所述的蒸鍍裝置，其特征在于：

包括蒸鍍源移動機構，其使所述蒸鍍源移動而使放出所述氣化后的材料的所述部分的高度變化。

8.如權利要求1～6中任一項所述的蒸鍍裝置，其特征在于：

通過比例控制或PID控制來控制所述距離。

9.如權利要求1～6中任一項所述的蒸鍍裝置，其特征在于：

所述蒸鍍源包括設置有開口部的坩堝，

放出所述氣化后的材料的所述部分是所述開口部。

10.一種包含在基板上形成膜的蒸鍍工序的蒸鍍方法，其特征在于：

所述蒸鍍工序使用權利要求1～9中任一項所述的蒸鍍裝置進行。

11.一種有機電致發光元件的制造方法，其特征在于：

包含使用權利要求1～9中任一項所述的蒸鍍裝置來形成膜的蒸鍍工序。