[發(fā)明專利]用于金的快速分析的改進(jìn)方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201480069225.0 | 申請(qǐng)日: | 2014-12-16 |
| 公開(公告)號(hào): | CN106062543B | 公開(公告)日: | 2017-12-26 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | J·蒂克納;格雷格·羅奇 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 澳洲快索有限公司 |
| 主分類號(hào): | G01N23/223 | 分類號(hào): | G01N23/223;G21G1/12;G01T1/24;G01T1/34 |
| 代理公司: | 北京安信方達(dá)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司11262 | 代理人: | 胡秋玲,鄭霞 |
| 地址: | 澳大利亞*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 用于 快速 分析 改進(jìn) 方法 | ||
1.一種確定樣本中的目標(biāo)元素的濃度的方法,所述方法包括:
(i)相對(duì)于包含參考元素的參考材料定位包含目標(biāo)元素的樣本,其中所述目標(biāo)元素與所述參考元素不同;
(ii)同時(shí)利用軔致輻射X-射線輻射所述樣本和所述參考材料,以由此在所述目標(biāo)元素中產(chǎn)生活化核并且在所述參考元素中產(chǎn)生活化核;
(iii)檢測來自經(jīng)輻射樣本的鈍化γ-射線和來自經(jīng)輻射參考材料的鈍化γ-射線;
(iv)確定來自所述經(jīng)輻射樣本的所檢測的鈍化γ-射線的第一數(shù)量和來自所述經(jīng)輻射參考材料的所檢測的鈍化γ-射線的第二數(shù)量;以及
(v)通過首先由來自所述經(jīng)輻射參考材料的所檢測的鈍化γ-射線的所述第二數(shù)量對(duì)來自所述經(jīng)輻射樣本的所檢測的鈍化γ-射線的所述第一數(shù)量進(jìn)行歸一化來確定所述樣本中的所述目標(biāo)元素的所述濃度;
(vi)其中在電子束能量的范圍上參考元素對(duì)目標(biāo)元素的活化截面比率的變化小于預(yù)定的測量準(zhǔn)確度。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其還包括選擇所述參考材料以使得在電子束能量的范圍上所述參考元素對(duì)目標(biāo)元素的活化截面比率的所述變化小于3%。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法,其還包括選擇所述參考材料以使得在電子束能量的范圍上所述參考元素對(duì)目標(biāo)元素的活化截面比率的所述變化小于1%。
4.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的方法,其中來自所述經(jīng)輻射參考材料的所述鈍化γ-射線具有比來自所述經(jīng)輻射樣本的所述鈍化γ-射線更低的能量。
5.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的方法,其還包括選擇所述參考材料以使得所述參考元素的半衰期類似于或小于所述目標(biāo)元素的半衰期。
6.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的方法,其中所述參考元素具有活化截面以使得被需要來給出可檢測信號(hào)的所述參考元素的質(zhì)量大于將被期望在所述樣本中自然出現(xiàn)的所述目標(biāo)元素的質(zhì)量的100倍。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法,其中所述參考元素具有活化截面以使得被需要來給出可檢測信號(hào)的所述參考元素的所述質(zhì)量大于將被期望在所述樣本中自然出現(xiàn)的所述目標(biāo)元素的所述質(zhì)量的1000倍。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中所述目標(biāo)元素是金,并且所述參考元素是溴(Br)。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中所述目標(biāo)元素是金,并且所述參考元素是硒(Se)或鉺(Er)。
10.根據(jù)權(quán)利要求8或9所述的方法,其中所述軔致輻射X-射線具有7.5MeV與8.6MeV之間的端點(diǎn)能量。
11.根據(jù)權(quán)利要求8或9所述的方法,其中所述軔致輻射X-射線具有7.8MeV與8.2MeV之間的端點(diǎn)能量。
12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其還包括構(gòu)造所述參考材料的形狀以使得其大致具有圓盤的形式,所述圓盤具有與所述樣本的直徑基本上相同或略微小于所述樣本的直徑的直徑。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的方法,其中所述圓盤具有0.1mm與3.0mm之間的厚度以及50mm-100mm之間的直徑。
14.根據(jù)權(quán)利要求12或13所述的方法,其還包括構(gòu)造所述樣本的形狀,以使得其具有大致的圓柱形。
15.根據(jù)權(quán)利要求12或13所述的方法,其還包括定位所述參考材料,以使得其軸線與所述樣本的軸線大致對(duì)準(zhǔn)。
16.根據(jù)權(quán)利要求12或13所述的方法,其中權(quán)利要求1的步驟(iv)包括相對(duì)于第一高分辨率檢測器和第二高分辨率檢測器來定位所述參考材料和所述樣本,其中所述第一高分辨率檢測器直接鄰近所述參考材料的外面并且所述第二高分辨率檢測器直接鄰近所述樣本的相對(duì)外面。
17.根據(jù)權(quán)利要求12或13所述的方法,其中權(quán)利要求1的步驟(iv)包括相對(duì)于高分辨率檢測器來定位所述參考材料和所述樣本,其中所述高分辨率檢測器直接鄰近所述參考材料的外面。
18.根據(jù)權(quán)利要求16所述的方法,其中所述第一高分辨率檢測器和所述第二高分辨率檢測器中的每一個(gè)是大致圓柱形的,具有等于或大于所述樣本的所述直徑的直徑。
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