[發(fā)明專利]具有焦距變化的光學(xué)設(shè)備有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201480068912.0 | 申請日: | 2014-12-18 |
| 公開(公告)號: | CN106062586B | 公開(公告)日: | 2017-10-24 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | S·博里斯 | 申請(專利權(quán))人: | 韋伯斯特資本有限責(zé)任公司 |
| 主分類號: | G02B3/14 | 分類號: | G02B3/14;G02B26/00 |
| 代理公司: | 中國國際貿(mào)易促進(jìn)委員會專利商標(biāo)事務(wù)所11038 | 代理人: | 袁玥 |
| 地址: | 美國*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 具有 焦距 變化 光學(xué) 設(shè)備 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及具有焦距變化的光學(xué)設(shè)備,以及此類光學(xué)設(shè)備的焦距變化的方法。
背景技術(shù)
為了在包括具有固定焦距的若干個透鏡的緊湊光學(xué)系統(tǒng)中集成光學(xué)縮放功能,可能讓人感興趣的是尤其是在使光學(xué)系統(tǒng)的厚度最小化方面,為至少一個光學(xué)設(shè)備集成可變焦距,以產(chǎn)生焦距的主要變化。
一些光學(xué)設(shè)備確保放大率的變化,并且其他光學(xué)設(shè)備必須要鏈接到固定光學(xué)系統(tǒng)或具有可變焦距的其他設(shè)備,以確??s放功能。
對于具有微型相機(jī)的應(yīng)用程序而言,尤其是對于為移動電話設(shè)計的相機(jī)而言,目的是設(shè)計一種具有可變焦距的緊湊且廉價的光學(xué)設(shè)備。
工作于發(fā)散模式或聚光模式中的設(shè)備是尤其有利的,因?yàn)槠涞靡嬗诮咕嗟母鼘挿秶淖兓?/p>
響應(yīng)于這種需求,例如基于電潤濕技術(shù)[1]或基于液晶[2]已開發(fā)出了基于液體的具有可變焦距的不同類型的設(shè)備。
其他解決方案基于對受到流體壓力作用的可變形膜的使用,每個膜形成屈光度。
兩個膜通常用于提升設(shè)備的光焦度。
在這些設(shè)備中,膜在由流體位移導(dǎo)致的流體壓力作用下發(fā)生變形。
在一些應(yīng)用程序中,獨(dú)立于另一個膜來致動兩個膜中的每個膜,每個膜與包封流體的腔體相關(guān)聯(lián),該腔體通過襯底與另一個膜分隔開,并具有其自身的致動設(shè)備[3,4]。
在該膜中的一個膜上施加的流體壓力可與另一個膜不同。
在圖1A和圖1B中呈現(xiàn)了透鏡的不同配置,其中在每個膜的周邊處布置旨在用于改變焦距的致動器。
圖1A示出了雙凸聚光透鏡,其可為對稱的或不對稱的。
該設(shè)備包括支撐件3和在兩個膜之間延伸的剛性板31,兩個可變形膜1,2在相應(yīng)周邊錨定區(qū)域1c,2c中被連接到支撐件3。每個膜1,2與支撐件3和板31限定相應(yīng)恒定體積的流體41,42。由于有剛性板31插置于流體41和42的體積之間,因此兩個膜的變形彼此獨(dú)立。
每個膜1,2具有被布置在每個膜的中心部分1b,2b和錨定區(qū)域1c,2c之間的相應(yīng)中間區(qū)域1a,2a上的致動設(shè)備5,5’。
兩個膜1,2的致動器5,5’朝膜和流體41,42(在箭頭方向上)偏轉(zhuǎn),以形成圖1A中所示的雙凸配置。
圖1B對應(yīng)于雙凹發(fā)散透鏡,其可為對稱地或不對稱的。
該設(shè)備的結(jié)構(gòu)類似于圖1A的設(shè)備,每個膜的致動設(shè)備5,5’能夠在與圖1A的方向相反的方向(在箭頭方向)上偏轉(zhuǎn),以形成此類配置。
在兩個屈光度功能彼此獨(dú)立的程度上,還可能獲得聚光透鏡(凸平面或聚光凹凸透鏡)或發(fā)散透鏡(凹平面或發(fā)散凹凸透鏡)的很多其他配置。
圖2A至圖2C示出了表現(xiàn)出類似于圖1A結(jié)構(gòu)的光學(xué)設(shè)備的另一個示例,其中膜2確保聚光功能(利用致動設(shè)備5’在朝流體的一個方向上的偏轉(zhuǎn)),并且膜1確保發(fā)散功能(利用致動設(shè)備5在相反方向上的的偏轉(zhuǎn)),每個膜與獨(dú)立體積的流體41,42相關(guān)聯(lián)。由圖1A-圖1B和圖2A-圖2C中的相同的附圖標(biāo)記指定的元件是類似的。
圖2A示出了靜止時的采用初始無限大焦距的示例的光學(xué)設(shè)備。
圖2B示出了該光學(xué)設(shè)備被致動以便成為聚光的:出于這一目的,不激活致動設(shè)備5并且僅激活致動設(shè)備5’,以便朝流體42偏轉(zhuǎn),從而獲得凸平面聚光透鏡。
圖2C示出了該光學(xué)設(shè)備被致動以便成為發(fā)散的:出于這個目的,不激活致動設(shè)備5’并且僅激活致動設(shè)備5,以便朝流體41偏轉(zhuǎn),從而獲得凹平面發(fā)散透鏡。
在其他應(yīng)用程序中,兩個膜由被包封在所述膜之間的恒定體積的流體耦接[5-10],兩個膜受到相同的流體壓力。
圖3A和圖3B示出了此類光學(xué)設(shè)備。相對于圖1A至圖2C所示的設(shè)備,圖3A和圖3B中的設(shè)備不包含分隔與每個膜相關(guān)聯(lián)的流體體積的板。因此該設(shè)備包含以力學(xué)方式耦接膜1和2的單個恒定體積的流體4。
在這些設(shè)備中,兩個膜的致動設(shè)備5,5’共同用于修改被施加到膜中的每個膜的流體壓力。
在致動設(shè)備5,5’朝流體4偏轉(zhuǎn)時,壓力增大并且兩個膜1,2變成凸面(聚光設(shè)備,參見圖3A)。
當(dāng)致動設(shè)備5,5’在與流體4相反的方向上偏轉(zhuǎn)時,兩個膜1,2變成凹面(發(fā)散設(shè)備,參見圖3B)。
為了從靜止位置產(chǎn)生可具有正焦距和負(fù)焦距的變化的光學(xué)系統(tǒng),致動設(shè)備必須要在兩個方向上起作用。
然而,此類致動實(shí)現(xiàn)起來很復(fù)雜。
實(shí)際上,致動器需要的電壓通常高于30V(在[3]中提到了電壓+/-40V)。
在現(xiàn)有設(shè)備中,將壓電材料的厚層粘結(jié)到每個膜上,這涉及到復(fù)雜的制造方法并給設(shè)備的幾何結(jié)構(gòu)和膜施加一定數(shù)量的限制。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于韋伯斯特資本有限責(zé)任公司,未經(jīng)韋伯斯特資本有限責(zé)任公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201480068912.0/2.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 上一篇:一種閥體鍛件模具
- 下一篇:一種T形三通接頭鍛件模具





