[發(fā)明專利]聚酰亞胺前體組合物、聚酰亞胺的制造方法、聚酰亞胺、聚酰亞胺膜和基板有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201480064165.3 | 申請日: | 2014-11-26 |
| 公開(公告)號: | CN105764991B | 公開(公告)日: | 2018-10-26 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 岡卓也;小濱幸德;久野信治 | 申請(專利權(quán))人: | 宇部興產(chǎn)株式會社 |
| 主分類號: | C08L79/08 | 分類號: | C08L79/08;C08G73/10;C08J5/18;C08K5/3445 |
| 代理公司: | 北京同立鈞成知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11205 | 代理人: | 李艷;臧建明 |
| 地址: | 日本山口*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 聚酰亞胺 組合 制造 方法 | ||
1.一種聚酰亞胺前體組合物,其特征在于,
包含含有下述化學(xué)式(1)所示的重復(fù)單元或下述化學(xué)式(2)所示的重復(fù)單元且化學(xué)式(1)和(2)所示的重復(fù)單元以外的其他重復(fù)單元的含量相對于全部重復(fù)單元為30摩爾%以下的聚酰亞胺前體、以及作為咪唑系化合物的1,2-二甲基咪唑、1-甲基咪唑、2-甲基咪唑或咪唑中的任意一種,
咪唑系化合物的含量相對于聚酰亞胺前體的重復(fù)單元1摩爾為0.05摩爾以上且1摩爾以下,
式(1)中,X1為具有脂環(huán)結(jié)構(gòu)的4價(jià)的基團(tuán),Y1為具有芳香族環(huán)的2價(jià)的基團(tuán),R1、R2各自獨(dú)立地為氫、碳原子數(shù)1~6的烷基或碳原子數(shù)3~9的烷基甲硅烷基,
式(2)中,X2為具有芳香族環(huán)的4價(jià)的基團(tuán),Y2為具有脂環(huán)結(jié)構(gòu)的2價(jià)的基團(tuán),R3、R4各自獨(dú)立地為氫、碳原子數(shù)1~6的烷基或碳原子數(shù)3~9的烷基甲硅烷基。
2.如權(quán)利要求1所述的聚酰亞胺前體組合物,其特征在于,由該聚酰亞胺前體組合物得到的聚酰亞胺的厚度10μm的膜中的波長400nm的透光率為75%以上。
3.如權(quán)利要求1所述的聚酰亞胺前體組合物,其特征在于,所述聚酰亞胺前體的、化學(xué)式(1)和(2)所示的重復(fù)單元以外的其他重復(fù)單元的含量相對于全部重復(fù)單元為10摩爾%以下。
4.一種聚酰亞胺的制造方法,其特征在于,將權(quán)利要求1~3中任一項(xiàng)所述的聚酰亞胺前體組合物在最高加熱溫度超過350℃的條件下進(jìn)行加熱處理,將聚酰亞胺前體酰亞胺化。
5.如權(quán)利要求4所述的聚酰亞胺的制造方法,其特征在于,所述加熱處理的最高加熱溫度超過400℃。
6.一種聚酰亞胺的制造方法,其特征在于,具有:
將權(quán)利要求1~3中任一項(xiàng)所述的聚酰亞胺前體組合物涂布到基材上的工序、和
將基材上的聚酰亞胺前體組合物在最高加熱溫度超過350℃的條件下進(jìn)行加熱處理而將聚酰亞胺前體酰亞胺化的工序。
7.一種聚酰亞胺,其通過權(quán)利要求4所述的方法制造。
8.如權(quán)利要求7所述的聚酰亞胺,其特征在于,在厚度10μm的膜中的波長400nm的透光率為75%以上。
9.一種聚酰亞胺膜,其通過權(quán)利要求4所述的方法制造。
10.一種聚酰亞胺膜,其通過權(quán)利要求6所述的方法制造。
11.一種顯示器用、觸控面板用或太陽能電池用的基板,其特征在于,包含權(quán)利要求7所述的聚酰亞胺。
12.一種顯示器用、觸控面板用或太陽能電池用的基板,其特征在于,包含權(quán)利要求9所述的聚酰亞胺膜。
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