[發明專利]氧化硅包覆的氧化鋅及其制造方法和含有氧化硅包覆的氧化鋅的組合物以及化妝料

有效

• 申請號: 201480062314.2
• 申請日: 2014-11-13
• 公開（公告）號: CN105722789B
• 公開（公告）日: 2019-01-01
• 發明（設計）人: 板垣哲朗;須磨俊輔;藤橋岳
• 申請（專利權）人: 住友大阪水泥股份有限公司
• 主分類號: C01G9/02
• 分類號: C01G9/02;A61K8/27;A61Q17/04
• 代理公司: 中原信達知識產權代理有限責任公司 11219
• 代理人: 盛曼;金龍河

1.一種氧化硅包覆的氧化鋅，其為將氧化鋅粒子的表面用氧化硅覆膜進行包覆而得到的氧化硅包覆的氧化鋅，其特征在于，所述氧化硅覆膜含有選自由硅酸鎂、硅酸鈣和硅酸鋇組成的組中的至少一種。

2.如權利要求1所述的氧化硅包覆的氧化鋅，其特征在于，所述氧化硅覆膜中含有的選自由Mg、Ca和Ba組成的組中的至少一種的合計的質量百分率為0.01質量％以上且1質量％以下。

3.如權利要求1所述的氧化硅包覆的氧化鋅，其特征在于，氧化硅包覆的氧化鋅的平均粒徑為2nm以上且500nm以下。

4.如權利要求2所述的氧化硅包覆的氧化鋅，其特征在于，氧化硅包覆的氧化鋅的平均粒徑為2nm以上且500nm以下。

5.如權利要求1～4中任一項所述的氧化硅包覆的氧化鋅，其特征在于，所述氧化硅覆膜中含有的所述選自由Mg、Ca和Ba組成的組中的至少一種的合計的質量百分率大于所述氧化硅覆膜中含有的堿金屬的質量百分率。

6.如權利要求5所述的氧化硅包覆的氧化鋅，其特征在于，所述堿金屬的質量百分率的和為0.8質量％以下。

7.如權利要求1～4中任一項所述的氧化硅包覆的氧化鋅，其特征在于，

在將通過使用固體²⁹Si的MAS-核磁共振NMR分光法測定的所述氧化硅覆膜中的硅在Q³環境下的存在比設為Q³、將在Q⁴環境下的存在比設為Q⁴時，Q³+Q⁴≥0.6且Q⁴/(Q³+Q⁴)≥0.5，

利用所述氧化鋅粒子的光催化活性產生的亮藍的分解率為3％以下。

8.如權利要求5所述的氧化硅包覆的氧化鋅，其特征在于，

在將通過使用固體²⁹Si的MAS-核磁共振NMR分光法測定的所述氧化硅覆膜中的硅在Q³環境下的存在比設為Q³、將在Q⁴環境下的存在比設為Q⁴時，Q³+Q⁴≥0.6且Q⁴/(Q³+Q⁴)≥0.5，

利用所述氧化鋅粒子的光催化活性產生的亮藍的分解率為3％以下。

9.如權利要求6所述的氧化硅包覆的氧化鋅，其特征在于，

在將通過使用固體²⁹Si的MAS-核磁共振NMR分光法測定的所述氧化硅覆膜中的硅在Q³環境下的存在比設為Q³、將在Q⁴環境下的存在比設為Q⁴時，Q³+Q⁴≥0.6且Q⁴/(Q³+Q⁴)≥0.5，

利用所述氧化鋅粒子的光催化活性產生的亮藍的分解率為3％以下。

10.一種氧化硅包覆的氧化鋅的制造方法，其特征在于，具有如下工序：

將在氧化鋅粒子的表面包覆含有堿金屬的氧化硅而得到的氧化鋅與選自Mg鹽、Ca鹽和Ba鹽的組中的至少一種在含有水的溶液中進行混合，將所述包覆有氧化硅的氧化鋅中的堿金屬用選自由Mg、Ca和Ba組成的組中的至少一種的離子進行置換。