[發明專利]透明導電性層疊體和觸摸面板

在審

• 申請號: 201480062021.4
• 申請日: 2014-10-28
• 公開（公告）號: CN105723473A
• 公開（公告）日: 2016-06-29
• 發明（設計）人: 吉岡和久;森野正行;富田偏央
• 申請（專利權）人: 旭硝子株式會社
• 主分類號: H01B5/14
• 分類號: H01B5/14;B32B9/00;G06F3/041
• 代理公司: 北京集佳知識產權代理有限公司 11227
• 代理人: 苗堃;金世煜

技術領域

本發明涉及透明導電性層疊體和具有該透明導電性層疊體的觸摸面板。

背景技術

在透明的基材上層疊有透明導電膜的透明導電性層疊體具有導電性和光學透明性，因此被用作透明電極膜、電磁波屏蔽膜、面狀發熱膜、防反射膜等，近年來作為觸摸面板用電極而受到關注。觸摸面板存在電阻膜式、電容耦合式、光學式等多種方式。透明導電膜例如用于通過上下電極接觸而確定觸摸位置的電阻膜式、感知電容的變化的電容耦合方式。用于電阻膜式的透明導電膜在工作原理上是透明導電膜彼此進行機械接觸，因此需要高耐久性。

為了對用作透明導電膜的透明導電性層疊體賦予這樣的高耐久性，一直以來，在基材與氧化銦錫等透明導電膜之間設置氧化硅層來增強透明導電膜與基材的密合性。這里，使用SiO₂層作為氧化硅層時，雖然實現某種程度的密合性的提高，但是密合性、耐堿性等耐試劑性不充分，不能說滿足了所需求的耐久性。另外，使用SiO_x(x小于2)層時，雖然得到高的密合性，但導致透明導電膜的表面電阻變化，在這方面存在問題。

因此，為了兼得密合性和透明導電膜的電特性的維持，例如，在專利文獻1中記載了從基材側依次設置相對折射率為1.6～1.9的范圍的SiO_x(x為1.5以上且小于2)層和SiO₂層，并在其上設置透明導電膜的透明導電性層疊體的技術。然而，對于專利文獻1中記載的透明導電性層疊體，雖然能夠兼得密合性和透明導電膜的電特性的維持，但有時導致透射光的色調變化，并且層的厚度厚，因此希望改善生產率和透光性。

現有技術文獻

專利文獻

專利文獻1:日本專利第4508074號公報

發明內容

本發明的目的在于提供一種透明導電性層疊體，是在基材上層疊有透明導電膜而成的透明導電性層疊體，其在確保基材與透明導電膜的密合性的同時保持透明導電膜的電特性，并且透光特性良好，耐試劑性優異。此外，本發明的目的在于提供一種具備上述透明導電性層疊體的可靠性高的觸摸面板。

本發明的透明導電性層疊體具有透明基材、設置在上述透明基材的一個主面上的厚度為3～60nm的SiO_x1層(其中，x1為1.8以上且小于2.0)、設置在上述SiO_x1層上的厚度為0.2～5nm的SiO_x2層(其中，x2為1.9～2.0且大于x1)、和設置在上述SiO_x2層上的以氧化銦錫為主體的導電層。

另外，本發明的觸摸面板具備上述本發明的透明導電性層疊體。

根據本發明，能夠提供一種透明導電性層疊體，是在基材上層疊有透明導電膜的透明導電性層疊體，其在確保基材與透明導電膜的密合性的同時保持透明導電膜的電特性，并且透光特性良好，耐試劑性優異。此外，根據本發明，能夠提供一種具備上述透明導電性層疊體的可靠性高的觸摸面板。

附圖說明

圖1是表示本發明的透明導電性層疊體的實施方式的一個例子的截面圖。

圖2是表示本發明的透明導電性層疊體的實施方式的另一個例子的截面圖。

具體實施方式

以下，一邊參照附圖一邊對本發明的實施方式進行說明。應予說明，本發明不受下述說明限定解釋。

[透明導電性層疊體]

圖1和圖2是分別表示本發明的透明導電性層疊體的實施方式的一個例子和另一個例子的截面圖。

圖1和圖2中，透明導電性層疊體10具有透明基材1、設置在透明基材1的一個主面上的厚度為3～60nm的SiO_x1層2(其中，x1為1.8以上且小于2.0)、設置在SiO_x1層2上的厚度為0.2～5nm的SiO_x2層3(其中，x2為1.9～2.0且大于x1)、和設置在SiO_x2層3上的以氧化銦錫為主體的導電層4。

圖2所示的透明導電性層疊體10是透明基材1在兩主面上具有樹脂層5a、5b，在一側樹脂層5a上依次設有SiO_x1層2、SiO_x2層3和導電層4的構成。應予說明，本發明的透明導電性層疊體中，圖2所示的樹脂層5a、5b這樣的樹脂層是任意設置的層。