[發明專利]氣體處理設備

有效

• 申請號: 201480060701.2
• 申請日: 2014-09-30
• 公開（公告）號: CN105682774B
• 公開（公告）日: 2017-10-24
• 發明（設計）人: A.J.思利;A.M.波佩;T.F.科恩
• 申請（專利權）人: 愛德華茲有限公司
• 主分類號: B01D53/14
• 分類號: B01D53/14;B01D53/40;B01D53/68;B01D53/78;B01D46/00
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司72001
• 代理人: 代易寧,胡斌

1.一種氣體處理設備，包含：

能夠操作來接收源自制造過程工具的流出氣流、以使流出氣流在其內被洗滌從而提供洗滌后的氣流的氣體洗滌腔室（20）；和

能夠操作來接收所述洗滌后的氣流以使所述洗滌后的氣流在其內被處理從而提供處理后的氣流的靜電沉降腔室（60），所述靜電沉降腔室限定第一腔室（60），且所述氣體洗滌腔室限定第二腔室（20），所述第一腔室被構造為同心地圍繞所述第二腔室，使得所述第二腔室嵌套在所述第一腔室內，其中所述第一腔室和所述第二腔室享有共用壁（80），所述共用壁的內表面限定所述第二腔室的外壁，且所述共用壁的外表面限定所述第一腔室的內壁，所述第二腔室（20）包含由所述共用壁（80）的所述內表面限定的細長腔室，且所述第一腔室（60）包含由所述共用壁（80）的所述外表面和包圍壁（90）的內表面限定的細長環狀腔室，其中，所述靜電沉降腔室包含位于所述共用壁（80）的所述外表面和所述包圍壁（90）的所述內表面之間的細長環狀的電極結構（100），以及用于噴射液體以提供沿著所述共用壁的所述外表面和所述包圍壁的所述內表面兩者圓周地流動的液幕的出口，其中，所述氣體洗滌腔室包含至少局部地限定所述氣體洗滌腔室且包含篩板（40）的集液箱，所述集液箱能夠操作來將固定流量的被接收液體通過所述篩板（40）提供到所述氣體洗滌腔室，并且提供沿著所述共用壁（80）的所述外表面流下的液幕；其中，所述氣體洗滌腔室包含用于接收所述流出氣流的流出氣流入口，以及將所述洗滌后的氣流輸送到所述靜電沉降腔室的入口的管道（70），所述靜電沉降腔室的入口定位成遠離用于所述細長環狀的電極結構的懸掛結構，所述靜電沉降腔室包含用于提供處理后氣流的處理后氣流出口，所述流出氣流入口和所述處理后氣流出口被定位成促使氣體沿著所述氣體洗滌腔室和所述靜電沉降腔室兩者的軸向長度流動。

2.如權利要求1所述的設備，其中所述細長環狀的電極結構被定位為在所述共用壁的所述外表面和所述包圍壁的所述內表面之間的固定距離。

3.如權利要求1或2所述的設備，其中所述細長環狀的電極結構包含朝著所述共用壁的所述外表面和所述包圍壁的所述內表面延伸的放電點。

4.如權利要求3所述的設備，其中朝著所述共用壁的所述外表面延伸的所述放電點的數量和朝著所述包圍壁的所述內表面延伸的所述放電點的數量的比值與所述共用壁的所述外表面的面積和所述包圍壁的所述內表面的面積的比值成比例。