[發明專利]用于EUV投射光刻的照明光學裝置以及照明系統

有效

• 申請號: 201480060611.3
• 申請日: 2014-08-25
• 公開（公告）號: CN105706003B
• 公開（公告）日: 2019-06-28
• 發明（設計）人: M.帕特拉
• 申請（專利權）人: 卡爾蔡司SMT有限責任公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G02B5/09
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所 11105
• 代理人: 侯宇

本發明涉及一種用于EUV投射光刻的照明光學裝置，所述照明光學裝置用于照亮照明場，下游側的成像光學裝置(6)的物場(3)布置在所述照明場中。在物場(3)中又能夠布置能沿物體移動方向(y)移動的物體(5)。照明光學裝置的鏡面分面反射鏡(14)具有多個并排布置的分面(13)，用于反射地疊加地導引朝向物場(3)的一束EUV照明光(9)中的部分光束(9i)。所述鏡面分面反射鏡(14)布置為，使得各個分面(13)在鏡面分面反射鏡(14)上的位置和照明光部分光束(9i)在鏡面分面反射鏡(14)的相應各個分面(13)上的射擊區域預設出用于物場(3)的場點的照明方向。照明光部分光束(9i)在各個分面(13)上的射擊區域的邊緣輪廓預設出物場(3)的場形狀。每個分面(13)具有連續的靜態反射面(15)。由此實現這樣的照明光學裝置，通過所述照明光學裝置能夠以相比現有技術減少的制造耗費實現鏡面反射器。

德國專利申請10 2013 218 131.0的內容通過參考引用包含在本發明中。

本發明涉及一種用于EUV(極紫外光)投射光刻的照明光學裝置。本發明還涉及一種尤其具有這種照明光學裝置的用于EUV投射光刻的照明系統。本發明還涉及一種具有這種照明光學裝置的光學系統、用于使用在這種照明光學裝置、這種光學系統或者這種照明系統中的光瞳分面反射鏡、一種具有這種照明系統的投射曝光設備、一種用于微米結構化或納米結構化的元件的制造方法以及一種通過這種方法制造的微米結構化或納米結構化的元件。

用于EUV投射光刻的照明系統由US 5,361,292、DE 103 17 667 A1、US2010/0231882 A1和US 6 507 440 B1已知。分面反射鏡這樣布置，使得其部分光束重疊地進入物場中的各個分面在分面反射鏡上的位置、亦即分面在分面反射鏡上的地點位置預設了照明方向，其中，分面反射鏡的被加載或射擊的邊緣輪廓同時預設了物場的場形狀，例如由DE103 17 667 A1和US 2010/0231882 A1已知所謂的鏡面反射器。這種分面反射鏡在以下也稱為鏡面分面反射鏡并且這種分面反射鏡的單獨分面稱為鏡面分面。在按照DE 103 17667 A1和US 2010/0231882 A1的鏡面反射器中，每個單獨的分面又由多個微鏡組成。

本發明所要解決的技術問題在于，這樣對本文開頭所述類型的照明光學裝置進行擴展設計，使得能夠以相對現有技術減少的制造耗費實現鏡面反射器。

所述技術問題按照本發明通過具有權利要求1所述特征的照明光學裝置解決。

在由現有技術已知的用于鏡面反射器的解決方案中，彼此重疊地成像在物場中的單個分面本身由微鏡陣列的多個或大量單鏡構成。在按照本發明的照明光學裝置中，避免了將鏡面分面劃分為微鏡。因此，單個的鏡面分面具有較大的連續的靜態反射面，這避免了制造耗費。鏡面分面反射鏡既不布置在EUV光源的圖像平面內也不布置在待成像在物場中的平面內。鏡面分面反射鏡的鏡面分面尤其整體式地設計。原則上甚至可以將整個鏡面分面反射鏡設計為整體，因為不需要將具有連續的靜態反射面的鏡面分面設計為可傾斜的。在分面上可以實現EUV照明光的入射角的較小的角帶寬。也就是說，單獨的分面可以用較小的入射角帶寬射擊，其中，射擊不同分面的絕對入射角完全可以是明顯不同的。單獨分面上的入射角的角帶寬可以例如小于5°，可以小于3°并且也可以更小。因此，鏡面分面反射鏡也可以用于非常小的照明光EUV波長，例如用于10nm范圍內的波長和例如7nm范圍內的更小波長，其具有較高的反射度。設計為鏡面反射器的鏡面分面反射鏡是處于物場之前的照明光光路中的最后的光學部件。也就是說，在鏡面分面反射鏡與物場之間的照明光光路中不存在其它照明光學部件。EUV照明光的反射損耗可以由此減小。鏡面分面可以并排地布置在鏡面分面反射鏡上的一個平面內。鏡面分面可以布置在鏡面分面反射鏡的共同的分面載體上。在鏡面分面反射鏡之前可以在照明光的光路中布置另一個轉換分面鏡。在轉換分面鏡之前可以在照明光的光路中布置光束成型裝置。這種光束成型裝置可以作為掃描儀設計用于使照明光束進行扇形反射。備選地，光束成型裝置可以設計為扇形放射照明光的靜止的鏡子。