[發明專利]在光刻術中的物體定位

有效

• 申請號: 201480058785.6
• 申請日: 2014-09-25
• 公開（公告）號: CN105706001B
• 公開（公告）日: 2017-10-03
• 發明（設計）人: H·巴特勒;R·I·卡米迪;Y·卡森辛薩普
• 申請（專利權）人: ASML荷蘭有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司11021
• 代理人: 張啟程

1.一種物體定位系統，包括：

待定位的物體；

具有一個或多個傳感器的測量系統，用于測量物體相對于參照物在一個或多個自由度上的位置；

具有一個或多個致動器的致動器系統，用于定位物體；

控制系統，所述控制系統被配置用于依賴于測量系統的輸出和代表物體的期望的位置的設定點來驅動致動器系統，

其中測量系統的所述一個或多個傳感器中的每個傳感器具有相關聯的在物體上的測量區域，所述物體相對于參照物在一個或多個自由度上的位置被測量，

其中物體上的至少一個測量區域的位置取決于物體在至少一個自由度上的位置，

其中控制系統包括具有物體的動態模型的觀測器，以基于對物體的輸入和測量系統的輸出來估計物體的內動態行為，

其中動態模型包括至少一個測量區域的位置對物體在至少一個自由度上的位置的依賴性，

其中控制系統被配置用于依賴于觀測器的輸出來驅動致動器系統。

2.根據權利要求1所述的系統，其中當物體的動態模型被描述為具有用于估計內動態行為的狀態方程和用于基于所估計的內動態行為來估計測量系統的輸出的輸出方程的微分方程時，所述微分方程的輸出方程的至少一個系數取決于至少一個測量區域的位置，所述至少一個測量區域的位置依賴于物體在至少一個自由度上的位置。

3.根據權利要求1所述的系統，其中觀測器包括反饋回路，所述反饋回路用于產生用于所估計的內動態行為的修正項，所述修正項能夠被描述為加權矩陣乘以測量系統的輸出與由觀測器得到的所估計的測量系統的輸出之差，并且其中所述加權矩陣包括取決于所述至少一個測量區域的位置的至少一個系數，所述至少一個測量區域的位置依賴于物體在至少一個自由度上的位置。

4.根據權利要求3所述的系統，其中加權矩陣被選定為使得測量系統的輸出與由觀測器限定的所估計的測量系統的輸出之差的動態行為較少依賴于所述至少一個測量區域的位置，所述至少一個測量區域的位置依賴于物體在至少一個自由度上的位置。

5.根據權利要求1或3所述的系統，其中依賴于物體在至少一個自由度上的位置的所述至少一個測量區域的位置由設定點確定。

6.根據權利要求1所述的系統，其中控制系統被配置用于使用所估計的內動態行為補償測量系統的輸出以減少在輸出中存在的物體的內動態行為。

7.根據權利要求1所述的系統，其中控制系統被配置用于使用所估計的內動態行為衰減所述物體的內動態行為。

8.根據權利要求1所述的系統，其中測量系統包括比物體能夠定位所基于的自由度更多的傳感器。

9.根據權利要求1所述的系統，其中測量系統的一個或多個傳感器為干涉儀，所述干涉儀具有相對于參照物固定布置的輻射源，其中來自輻射源的輻射指向物體上的測量區域。

10.根據權利要求1所述的系統，其中測量系統的一個或多個傳感器為編碼器類型的傳感器，所述編碼器類型的傳感器具有傳感器頭和光柵，其中傳感器頭相對于參照物固定布置，并且光柵被布置在物體上。

11.根據權利要求10所述的系統，其中測量系統的光柵被布置在物體的上表面和下表面兩者上。

12.一種光刻設備，包括根據權利要求1所述的物體定位系統。

13.根據權利要求12所述的光刻設備，還包括：

照射系統，所述照射系統被配置用于調節輻射束；

支撐件，所述支撐件被構造用于支撐圖案形成裝置，所述圖案形成裝置能夠沿其橫截面為輻射賦予圖案，以形成圖案化的輻射束；

襯底臺，所述襯底臺被構造用于保持襯底；和

投影系統，所述投影系統被配置用于將圖案化的輻射束投影到目標部分上，

其中物體為支撐件和襯底臺中的一個。