[發(fā)明專利]根據(jù)光刻膠厚度使用處理器改變寫入射束的輸送劑量的圖案產(chǎn)生器及相關(guān)方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201480057956.3
• 申請日: 2014-06-19
• 公開（公告）號: CN105659164B
• 公開（公告）日: 2019-04-30
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 克里斯多弗·丹尼斯·本徹
• 申請（專利權(quán)）人: 應(yīng)用材料公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 北京律誠同業(yè)知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11006
• 代理人: 徐金國;趙靜

1.一種多射束圖案產(chǎn)生器，包含：

臺架，所述臺架被配置為在多個寫入周期的各寫入周期期間將第一基板支撐在多個寫入周期區(qū)位置中；

寫入射束致動器，所述寫入射束致動器被配置為將多個寫入射束的每個寫入射束獨(dú)立地引導(dǎo)至多個寫入像素位置，所述多個寫入像素位置設(shè)置在設(shè)置于所述第一基板上的光刻膠的外表面上；及

計算機(jī)處理器，所述計算機(jī)處理器被配置為：

確定在所述寫入像素位置的每個寫入像素位置處的所述光刻膠的厚度，其中每個厚度是在使所述光刻膠曝光于所述多個寫入射束之前在所述第一基板與所述光刻膠的所述外表面之間測量的，

在使第一度量基板在相應(yīng)寫入像素位置的每個寫入像素位置處曝光于來自所述多個寫入射束的均勻?qū)懭雱┝亢螅_定所述第一度量基板上的所述相應(yīng)寫入像素位置處的曝光后工藝偏差，

在第二度量基板上的相應(yīng)寫入像素位置處施加多個修正劑量，其中所述多個修正劑量是基于為所述第一度量基板確定的所述曝光后工藝偏差而確定的，

確定施加至所述第二度量基板的所述多個修正劑量對于處理其他基板是可接受的，所述其他基板包括所述第一基板，及

根據(jù)在所述第一基板上的各所述寫入像素位置之間的所述光刻膠的厚度的變化以及根據(jù)被施加至所述第二度量基板的所述多個修正劑量來調(diào)整從所述多個寫入射束到所述第一基板上的各所述寫入像素位置的輸送寫入劑量，其中所述計算機(jī)處理器被配置為在確定施加至所述第二度量基板的所述多個修正劑量對于處理包括所述第一基板的其他基板是可接受的之后調(diào)整所述輸送寫入劑量。

2.如權(quán)利要求1所述的多射束圖案產(chǎn)生器，其中所述寫入射束致動器包含空間光調(diào)變器(SLM)，所述空間光調(diào)變器包含多個鏡子。

3.如權(quán)利要求2所述的多射束圖案產(chǎn)生器，進(jìn)一步包含光源，其中所述SLM的這些鏡子被配置為在所述多個寫入周期的各寫入周期期間，彼此獨(dú)立地數(shù)字受控而從不作用位置到作用位置達(dá)各駐留時間，以將從所述光源發(fā)射的光反射到所述光刻膠上。

4.如權(quán)利要求1所述的多射束圖案產(chǎn)生器，進(jìn)一步包含儲存裝置，其中所述計算機(jī)處理器被配置為依據(jù)從所述儲存裝置接取的所述光刻膠的厚度的數(shù)據(jù)而調(diào)整所述輸送寫入劑量。

5.如權(quán)利要求1所述的多射束圖案產(chǎn)生器，其中所述計算機(jī)處理器被配置為通過指示用于所述寫入射束致動器的輻射源發(fā)射輻射脈沖來調(diào)整所述輸送寫入劑量，所述輻射脈沖的脈沖寬度根據(jù)在各所述寫入像素位置處的所述光刻膠的厚度而被調(diào)整。

6.如權(quán)利要求1所述的多射束圖案產(chǎn)生器，其中所述計算機(jī)處理器被配置為通過指示用于所述寫入射束致動器的輻射源發(fā)射輻射脈沖來調(diào)整所述輸送寫入劑量，所述輻射脈沖的脈沖頻率根據(jù)在各所述寫入像素位置處的所述光刻膠的厚度而被調(diào)整。

7.如權(quán)利要求1所述的多射束圖案產(chǎn)生器，其中所述計算機(jī)處理器被配置為通過根據(jù)在各所述寫入像素位置處的所述光刻膠的厚度指示所述寫入射束致動器關(guān)閉所述寫入射束的一部分而根據(jù)所述第一基板的一部分處的所述光刻膠的厚度來調(diào)整所述輸送寫入劑量。

8.如權(quán)利要求1所述的多射束圖案產(chǎn)生器，其中所述計算機(jī)處理器被配置為根據(jù)劑量修正圖調(diào)整所述輸送寫入劑量。

9.如權(quán)利要求1所述的多射束圖案產(chǎn)生器，其中所述計算機(jī)處理器被配置為通過指示用于所述寫入射束致動器的輻射源發(fā)射輻射脈沖來調(diào)整所述輸送寫入劑量，所述輻射脈沖的強(qiáng)度根據(jù)在各所述寫入像素位置處的所述光刻膠的厚度而被調(diào)整。