[發(fā)明專利]包含烯丙基二硫化物的加成?斷裂低聚物

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201480056912.9
• 申請(qǐng)日: 2014-10-06
• 公開（公告）號(hào): CN105683257B
• 公開（公告）日: 2018-02-13
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: A·R·弗諾夫;W·H·莫澤;A·S·阿比爾雅曼;G·D·喬利;L·R·克雷普斯基
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 3M創(chuàng)新有限公司
• 主分類號(hào): C08G75/00
• 分類號(hào): C08G75/00;C08F2/38;A61K6/083;C07C323/54;C09D4/00;C08F290/06;C08L51/08
• 代理公司: 北京市金杜律師事務(wù)所11256
• 代理人: 陳長(zhǎng)會(huì),呂小羽

1.一種由下式表示的加成-斷裂低聚物：

其中

R^A為烴基基團(tuán)或雜烴基基團(tuán)；

R^B各自獨(dú)立地為烴基基團(tuán)或雜烴基基團(tuán)；

R^C各自獨(dú)立地為烴基基團(tuán)或雜烴基基團(tuán)；

下標(biāo)a大于1；

FG¹和FG²各自獨(dú)立地為連接所示的R^A、R^B和R^C基團(tuán)的官能團(tuán)；其中FG¹和FG²選自酯、酰胺、脲、氨基甲酸酯、醚、胺、酸酐、硫酯、硫醚官能團(tuán)，并且

Z包含烯鍵式不飽和的可聚合基團(tuán)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的加成-斷裂劑，其中下標(biāo)a為2至20。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的加成-斷裂劑，其中下標(biāo)a為2至10。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的加成-斷裂劑，其中R^A、R^B和R^C各自獨(dú)立地為具有2至10個(gè)碳原子的亞烷基。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的加成-斷裂劑，其中Z-R^C-選自H₂C＝CH-CH₂-O-C₃H₆-、H₂C＝CH-CH₂-C₆H₁₂-、H₂C＝CH-環(huán)基-C₆H₁₀-、H₂C＝CH-苯基-、H₂C＝C(CH₃)C(O)-O-CH₂-CH(OH)-CH₂-、H₂C＝C(CH₃)C(O)-O-CH₂-CH(O-(O)C(CH₃)＝CH₂)-CH₂-、H₂C＝C(CH₃)C(O)-O-CH(CH₂OPh)-CH₂-、H₂C＝C(CH₃)C(O)-O-CH₂CH₂-N(H)-C(O)-O-CH(CH₂OPh)-CH₂-、H₂C＝C(CH₃)C(O)-O-CH₂-CH(O-(O)C-N(H)-CH₂CH₂-O-(O)C(CH₃)C＝CH₂)-CH₂-、H₂C＝C(H)C(O)-O-(CH₂)₄-O-CH₂-CH(OH)-CH₂-、H₂C＝C(CH₃)C(O)-O-CH₂-CH(O-(O)C-N(H)-CH₂CH₂-O-(O)C(CH₃)C＝CH₂)-CH₂-、CH₃-(CH₂)₇-CH(O-(O)C-N(H)-CH₂CH₂-O-(O)C(CH₃)C＝CH₂)-CH₂-、H₂C＝C(H)C(O)-O-(CH₂)₄-O-CH₂-CH(-O-(O)C(H)＝CH₂)-CH₂-和H₂C＝C(H)C(O)-O-CH₂-CH(OH)-CH₂-、H₂C＝C(H)C(O)-O-(CH₂)₄-O-CH₂-CH(-O-(O)C(H)＝CH₂)-CH₂-和CH₃-(CH₂)₇-CH(O-(O)C-N(H)-CH₂CH₂-O-(O)C(CH₃)C＝CH₂)-CH₂-。