[發(fā)明專利]感光化射線性或感放射線性樹脂組合物、及圖案形成方法

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201480056864.3
• 申請(qǐng)日: 2014-11-21
• 公開（公告）號(hào): CN105637417A
• 公開（公告）日: 2016-06-01
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 王惠瑜;加藤啟太;白川三千纮;后藤研由;上村聡
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 富士膠片株式會(huì)社
• 主分類號(hào): G03F7/004
• 分類號(hào): G03F7/004;G03F7/038;G03F7/039
• 代理公司: 北京同立鈞成知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11205
• 代理人: 李艷;臧建明

1.一種感光化射線性或感放射線性樹脂組合物，其含有：

樹脂(A)；

通過(guò)光化射線或放射線的照射而產(chǎn)生酸的化合物(B)；以及

具有至少一個(gè)氧原子的化合物(C)；

所述化合物(C)中不包含所述樹脂(A)及所述化合物(B)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的感光化射線性或感放射線性樹脂組合物，其中所述化合物(C) 的分子量為150以上、3000以下。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的感光化射線性或感放射線性樹脂組合物，其中所述化合物 (C)為包含2個(gè)以上的選自由醚鍵、羥基、酯鍵及酮鍵所組成的組群中的基團(tuán)或鍵的化合物。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的感光化射線性或感放射線性樹脂組合物，其中所述化合物(C) 為包含3個(gè)以上的選自由醚鍵、羥基、酯鍵及酮鍵所組成的組群中的基團(tuán)或鍵的化合物。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的感光化射線性或感放射線性樹脂組合物，其中所述化合物(C) 為包含4個(gè)以上的選自由醚鍵、羥基、酯鍵及酮鍵所組成的組群中的基團(tuán)或鍵的化合物。

6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的感光化射線性或感放射線性樹脂組合物，其中所述化合物(C) 為包含2個(gè)以上的醚鍵的化合物。

7.根據(jù)權(quán)利要求1至6中任一項(xiàng)所述的感光化射線性或感放射線性樹脂組合物，其中所 述化合物(C)的沸點(diǎn)為200℃以上。

8.根據(jù)權(quán)利要求1至7中任一項(xiàng)所述的感光化射線性或感放射線性樹脂組合物，其中相 對(duì)于所述樹脂(A)100質(zhì)量份，所述化合物(C)的含量為30質(zhì)量份以下。

9.根據(jù)權(quán)利要求1至8中任一項(xiàng)所述的感光化射線性或感放射線性樹脂組合物，其中還 含有酸擴(kuò)散控制劑(D)。

10.根據(jù)權(quán)利要求1至9中任一項(xiàng)所述的感光化射線性或感放射線性樹脂組合物，其中 所述化合物(C)具有下述通式(1)所表示的部分結(jié)構(gòu)，

[化1]

通式(1)中，R₁₁表示可具有取代基的亞烷基；n表示1以上的整數(shù)；*表示結(jié)合鍵。

11.一種圖案形成方法，其包括：

(1)使用根據(jù)權(quán)利要求1至10中任一項(xiàng)所述的感光化射線性或感放射線性樹脂組合物， 在基板上形成抗蝕劑膜的步驟；

(2)對(duì)所述抗蝕劑膜進(jìn)行曝光的步驟；以及

(3)使用包含有機(jī)溶劑的顯影液，對(duì)經(jīng)曝光的所述抗蝕劑膜進(jìn)行顯影而形成抗蝕劑圖 案的步驟。