[發明專利]噴嘴調整輔助件和方法有效
| 申請號: | 201480055134.1 | 申請日: | 2014-08-04 |
| 公開(公告)號: | CN105612007B | 公開(公告)日: | 2019-09-06 |
| 發明(設計)人: | W.阿波塔;A.舍內 | 申請(專利權)人: | 凱密特爾有限責任公司 |
| 主分類號: | B05B12/00 | 分類號: | B05B12/00;B05B12/12 |
| 代理公司: | 北京市中咨律師事務所 11247 | 代理人: | 吳鵬;馬江立 |
| 地址: | 德國法*** | 國省代碼: | 德國;DE |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 噴嘴 調整 輔助 方法 | ||
1.一種用于液體噴涂噴嘴(B)的噴嘴調整輔助件(A),其用于測試、定位和/或調整用于在表面工程設施中噴涂的至少一個液體噴涂噴嘴(B),其特征在于,所述噴嘴調整輔助件(A)具有一個噴嘴適配器(F)和至少兩個被定位且對齊的光源,并且所述光源清晰地集束和/或聚焦,
借助于所述光源能夠近似沿噴嘴中線(D)和近似沿理論噴涂范圍(C)的邊緣處的至少一條邊界線(R)或近似沿至少兩條相對的邊界線(R)產生至少兩個光束(J、P),
所述光束應當基本上表明所述理論噴涂范圍(C)的位置和大小,并且能夠在物體表面上、吊架上、傳輸裝置上和/或所述設施中的壁上以光斑形式可見,
由所述光束(J、P)形成的角度近似對應于理論噴涂角度的一半或全部(N、O)并且所述光束(J、P)定位在至少基本上中心對稱的截面中,該截面通過所述理論噴涂范圍(C)的中心面獲得,所述光源包括第一類型光源和第二類型光源(M),所述第一類型光源沿噴嘴中線(D)發射中央光束(J),所述第二類型光源沿理論噴涂范圍(C)的邊緣處的一條邊界線(R)發射光束(P)。
2.根據權利要求1所述的噴嘴調整輔助件,其特征在于,其是手持裝置。
3.根據權利要求1或2所述的噴嘴調整輔助件,其特征在于,其包括基板(E)、噴嘴適配器(F)和至少兩個光源適配器,每個光源適配器各帶有一個光源。
4.根據權利要求3所述的噴嘴調整輔助件,其特征在于,也包括至少一個橋臺,所述橋臺在所述基板(E)的頂部上和/或底部上具有帶有至少一個第一類型光源的至少一個光源適配器,并且近似處于鏡面(G)的平面中或與其平行,所述鏡面的平面沿噴嘴中線(D)垂直于基板(E)。
5.根據權利要求1或2所述的噴嘴調整輔助件,其特征在于,能夠使用至少兩個光源產生至少兩個光束(J、P),并且至少兩個光斑能夠產生在與所述噴嘴相對的表面上,從而代表至少一條邊界線(R)和/或在所述理論噴涂范圍(C)的邊界處的至少一個邊界點。
6.根據權利要求1或2所述的噴嘴調整輔助件,其特征在于,兩個第二類型光源(M,M)、兩個光束(P,P)基本上在通過所述噴嘴中線(D)的平面中形成,從而引起兩個光斑在與所述噴嘴相對的表面上可見,從而代表在通過所述理論噴涂范圍(C)的平面的且基本上中心對稱的截面中的、所述理論噴涂范圍(C)的邊界點。
7.根據權利要求3所述的噴嘴調整輔助件,其特征在于,所述光源的光源適配器借助于常規結構輔助件和/或定位輔助件以特定角度調整在所述基板(E)上安裝、定位和對齊。
8.根據權利要求3所述的噴嘴調整輔助件,其特征在于,所述光源的所述光源適配器非常小以致多于兩個所述光源適配器同時附連在所述噴嘴調整輔助件(A)的所述基板(E)上。
9.根據權利要求3所述的噴嘴調整輔助件,其特征在于,第二類型光源(M)的光源適配器成對布置。
10.根據權利要求4所述的噴嘴調整輔助件,其特征在于,所述光源的光源適配器圍繞所述噴嘴中線(D)、所述鏡面(G)和/或第一類型光源的中央光束(J)以鏡面對稱附連。
11.根據權利要求4所述的噴嘴調整輔助件,其特征在于,所述光源的所述光源適配器相比于鉆孔、定位輔助件、用于角度對齊的輔助件和/或所述基板(E)中的至少一個第二凹部的同軸布置,借助于所述基板(E)中的至少一個第一同軸凹部附連,以能夠針對不同大小的角度(N、O)盡可能連續地調整所述光源,其中所述同軸器件的軸線通過中心點(Z)和/或在所述鏡面(G)中基本上垂直于所述基板(E)延伸。
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