[發明專利]包括第一微結構化層和涂層的微結構化漫射體、光學疊堆以及方法

有效

• 申請號: 201480054939.4
• 申請日: 2014-09-24
• 公開（公告）號: CN105612438B
• 公開（公告）日: 2018-12-14
• 發明（設計）人: 納撒尼爾·K·奈史密斯;威廉·F·埃德蒙茲;杰森·S·佩泰耶;勃蘭特·K·卡特;杰佛瑞·L·所羅門;薩拉·S·梅里特;特里·D·彭
• 申請（專利權）人: 3M創新有限公司
• 主分類號: G02B5/02
• 分類號: G02B5/02
• 代理公司: 北京天昊聯合知識產權代理有限公司 11112
• 代理人: 王靜;丁業平

1.一種微結構化漫射體，包括：

透光膜，所述透光膜包括具有多個峰和谷的第一微結構化表面；

設置在所述第一微結構化表面上的涂層，其中所述涂層部分地填充所述谷而形成第二微結構化表面，所述第二微結構化表面與所述第一微結構化表面顯著不同，其中所述第二微結構化表面與所述第一微結構化表面顯著不同是指所述第一微結構化表面和所述第二微結構化表面的光學特性或物理特性的差值具有至少為10％的絕對值，其中所述物理特性為微結構的補足累積傾斜度大小分布、表面粗糙度、或平均峰高，所述光學特性為霧度或清晰度；

其中所述第一微結構化表面具有至少50％的霧度。

2.根據權利要求1所述的微結構化漫射體，其中所述第一微結構化表面和所述第二微結構化表面之間的光學或物理特性的差值具有至少15％的絕對值。

3.根據權利要求1所述的微結構化漫射體，其中所述第一微結構化表面和所述第二微結構化表面之間的光學或物理特性的差值具有至少20％的絕對值。

4.根據權利要求1所述的微結構化漫射體，其中所述第一微結構化表面和所述第二微結構化表面各自具有補足累積傾斜度大小分布，并且所述第一微結構化表面和所述第二微結構化表面之間在大于2.1度的傾斜度大小下的差值為至少10％。

5.根據權利要求4所述的微結構化漫射體，其中所述第一微結構化表面和所述第二微結構化表面之間在大于2.1度的傾斜度大小下的差值為至少20％。

6.根據權利要求1所述的微結構化漫射體，其中所述第一微結構化表面和所述第二微結構化表面各自具有補足累積傾斜度大小分布，并且所述第一微結構化表面和所述第二微結構化表面之間在大于4.1度的傾斜度大小下的差值為至少10％。

7.根據權利要求6所述的微結構化漫射體，其中所述第一微結構化表面和所述第二微結構化表面之間在大于4.1度的傾斜度大小下的差值為至少20％。

8.根據權利要求1所述的微結構化漫射體，其中所述第一微結構化表面和所述第二微結構化表面各自具有霧度，并且所述第一微結構化表面和所述第二微結構化表面之間的霧度的差值為至少10％。

9.根據權利要求8所述的微結構化漫射體，其中所述第一微結構化表面和所述第二微結構化表面之間的霧度的差值為至少20％。

10.根據權利要求1所述的微結構化漫射體，其中所述第一微結構化表面層和所述第二微結構化表面層各自具有清晰度，并且所述第一微結構化表面和所述第二微結構化表面之間的清晰度的差值為至少-10％。

11.根據權利要求10所述的微結構化漫射體，其中所述第一微結構化表面和所述第二微結構化表面之間的清晰度的差值為至少-20％。

12.根據權利要求1所述的微結構化漫射體，其中不大于50％的所述峰包括嵌入的啞光粒子。

13.根據權利要求1所述的微結構化漫射體，其中所述峰不含啞光粒子。

14.根據權利要求1所述的微結構化漫射體，其中所述第一微結構化表面通過澆鑄和固化與工具表面接觸的可聚合樹脂組合物而制造。

15.根據權利要求1所述的微結構化漫射體，其中所述第一微結構化表面具有在大于2.1度的傾斜度大小下至少90％的補足累積傾斜度大小分布，并且所述第二微結構化表面具有在大于2.1度的傾斜度大小下小于或等于80％的補足累積傾斜度大小分布。