[發明專利]用于發光器件的疊層以及制備所述疊層的處理

在審

• 申請號: 201480054890.2
• 申請日: 2014-10-07
• 公開（公告）號: CN105684181A
• 公開（公告）日: 2016-06-15
• 發明（設計）人: 李榮盛;韓鎮宇
• 申請（專利權）人: 法國圣戈班玻璃廠
• 主分類號: H01L51/52
• 分類號: H01L51/52;H01L51/56
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司 72001
• 代理人: 胡莉莉;劉春元

1.一種用于發光器件的疊層，包括：

玻璃襯底，具有從1.45到1.65的折射率n1；

由釉質制成的凸出的隨機網絡，形成在所述玻璃襯底上，所述網絡具有范圍從1.45到1.65的折射率n2；以及

由釉質制成的平坦層，形成在所述網絡和所述玻璃襯底上，所述平坦層具有范圍從1.8到2.1的折射率n3；

其中，至少50%，優選地至少75%并且更優選地至少85%的所述凸出示出具有如下的橫截面：

范圍從1μm到10μm的高度（b），優選地，所述凸出的最大高度小于15μm，以及

范圍從2μm到40μm，優選地至多10μm的寬度；以及

其中，至少50%，優選地至少75%，并且更優選地至少85%的所述網絡的間距（c）處于從2μm到15μm的范圍中。

2.如權利要求1所述的疊層，其中，所述網絡示出如下的粗糙度輪廓：Ra，其為范圍從0.3μm到3μm，優選地0.3μm到1μm的粗糙度輪廓的算術均值偏差；Ry，其為范圍從1μm到10μm的粗糙度輪廓的最大高度；以及S，其為范圍從2μm到40μm，優選地2μm到20μm的局部峰的均值間隔。

3.如權利要求1或2所述的疊層，其中，所述凸出的平均高度（b'）對于所述凸出的平均間距（c'）的比率（r）是從0.1到0.5。

4.如權利要求1至3中的任一項所述的疊層，其中，所述網絡覆蓋所述玻璃襯底的面積的比例是60％到90%。

5.如權利要求1至4中的任一項所述的疊層，其中，所述凸出包括凸部和/或凸部簇。

6.如權利要求1至5中的任一項所述的疊層，其中，所述網絡和所述平坦層的平均總厚度（a'）范圍從6μm到20μm。

7.如權利要求1至6中的任一項所述的疊層，其中，所述平坦層的厚度（d）小于20μm。

8.如權利要求1至7中的任一項所述的疊層，其中，在所述平坦層的表面處測量的粗糙度Ra不大于1nm。

9.如權利要求1至8中的任一項所述的疊層，其中，由第一玻璃釉料形成所述網絡，并且所述第一玻璃釉料包括基于在形成所述網絡之后所述第一玻璃釉料的總重量的按重量10%至40%的SiO₂、按重量1%至7%的Al₂O₃、按重量0%至10%的P₂O₅、按重量20%至50%的B₂O₃、按重量3%至35%的ZnO以及按重量5%至20%的選擇自由Na₂O、Li₂O和K₂O構成的組的至少一個的（多個）堿金屬氧化物。

10.如權利要求1至9中的任一項所述的疊層，其中，由第二玻璃釉料形成所述平坦層，并且所述第二玻璃釉料包括基于在形成所述平坦層之后所述第二玻璃釉料的總重量的按重量55%至84%的Bi₂O₃、按重量0%至20%的BaO、按重量5%至20%的ZnO、按重量1%至7%的Al₂O₃、按重量5%至15%的SiO₂、按重量5%至20%的B₂O₃、按重量0至0.1%的CeO₂、按重量0.05％至5%的Na₂O以及按重量小于5%的選擇自由TiO₂、ZrO₂、La₂O₃、Nb₂O₃和MgO構成的組的一個或多個化合物。

11.如權利要求1至10中的任一項所述的疊層，其中，所述玻璃襯底是堿石灰玻璃襯底。

12.如權利要求1至11中的任一項所述的疊層，其中，所述疊層示出至少70%的渾濁度比率以及至少65%的總發光透射率。

13.如權利要求1至12中的任一項所述的疊層，進一步包括：在所述平坦層上的透明電極。