[發明專利]鋰錳復合氧化物、二次電池、電子設備以及制造層的方法有效
| 申請號： | 201480054266.2 | 申請日： | 2014-09-25 |
| 公開（公告）號： | CN105594028B | 公開（公告）日： | 2020-05-19 |
| 發明（設計）人： | 池沼達也;吉富修平;川上貴洋;米田祐美子;門馬洋平 | 申請（專利權）人： | 株式會社半導體能源研究所 |
| 主分類號： | H01M4/505 | 分類號： | H01M4/505;H01M4/36;H01M4/525 |
| 代理公司： | 上海專利商標事務所有限公司 31100 | 代理人： | 金紅蓮 |
| 地址： | 日本神*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 復合 氧化物 二次 電池 電子設備 以及 制造 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種用于形成鋰錳復合氧化物的方法，包括如下步驟：
在以LixMnyMzOw表示的鋰錳復合氧化物的表面上形成包含氧化石墨烯的層以獲得第一粒子；以及
在所述鋰錳復合氧化物的所述表面上形成含碳層，
其中，將所述第一粒子浸漬在包括還原劑和極性溶劑的溶液中，以得到第二粒子并在形成所述包含氧化石墨烯的層的步驟中還原所述氧化石墨烯，
其中，所述第一粒子和所述第二粒子分別包括具有層狀巖鹽型結構的鋰錳復合氧化物，
其中，所述第二粒子包括第一部分和第二部分，
其中，所述第二部分具有尖晶石型結構，
其中，所述第二部分是通過浸漬所述第一粒子而產生的，
其中，元素M是鋰及錳以外的元素，且
其中，所述鋰錳復合氧化物中存在滿足0≤x/(y+z)2、y0、z0以及0.26≤(y+z)/w0.5的區域。
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