[發(fā)明專利]構成為兩列的RO/NF分離膜系統(tǒng)的化學清洗方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201480053720.2 | 申請日： | 2014-10-06 |
| 公開（公告）號： | CN105592915B | 公開（公告）日： | 2017-12-19 |
| 發(fā)明（設計）人： | 樸镕珉;李周衍;權五成 | 申請（專利權）人： | 豪威環(huán)境科技株式會社 |
| 主分類號： | B01D65/06 | 分類號： | B01D65/06;B01D65/02;B01D61/58;B01D61/02 |
| 代理公司： | 中科專利商標代理有限責任公司11021 | 代理人： | 蔣亭 |
| 地址： | 韓國首*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 構成 ro nf 分離 系統(tǒng) 化學 清洗 方法 | ||
1.一種構成為兩列的RO/NF分離膜系統(tǒng)的化學清洗方法，
利用化學清洗劑對構成為兩列的RO/NF分離膜系統(tǒng)進行化學清洗，其中所述RO/NF分離膜系統(tǒng)包括第一列反滲透膜模塊或第一列納濾膜模塊、以及第二列反滲透膜模塊或第二列納濾膜模塊，所述第一列反滲透膜模塊或第一列納濾膜模塊用于對借助高壓泵流入的原水進行處理，將其分離成第一產(chǎn)出水和第一濃縮水，所述第二列反滲透膜模塊或第二列納濾膜模塊用于對上述第一濃縮水進行處理，將其分離成第二產(chǎn)出水和第二濃縮水，
所述化學清洗方法包括：測定向上述第一列反滲透膜模塊或第一列納濾膜模塊流入的原水的壓力與向上述第二列反滲透膜模塊或第二列納濾膜模塊流入的第一濃縮水的壓力之間的差值△P1，以及測定向上述第二列反滲透膜模塊或第二列納濾膜模塊流入的第一濃縮水的壓力與從上述第二列反滲透膜模塊或第二列納濾膜模塊排出的第二濃縮水的壓力之間的差值△P2的步驟；對上述△P1和△P2進行比較，確定化學清洗劑的步驟；在上述△P1大于上述△P2的情況下，將堿性化學清洗劑確定為化學清洗劑，在上述△P2大于上述△P1的情況下，將酸性化學清洗劑確定為化學清洗劑；
以及使用所確定的上述化學清洗劑，對反滲透膜模塊和納濾膜模塊進行化學清洗的步驟，
其中，當RO/NF分離膜系統(tǒng)包括第一列反滲透膜模塊時，其包括第二列納濾膜模塊；而當RO/NF分離膜系統(tǒng)包括第一列納濾膜模塊時，其包括第二列反滲透膜模塊。
2.根據(jù)權利要求1所述的構成為兩列的RO/NF分離膜系統(tǒng)的化學清洗方法，其特征在于，上述堿性化學清洗劑選自由氫氧化鈉、氫氧化鉀、氫氧化銨及碳酸鈉組成的組中的一種。
3.根據(jù)權利要求1所述的構成為兩列的RO/NF分離膜系統(tǒng)的化學清洗方法，其特征在于，上述酸性化學清洗劑選自由硝酸、磷酸、鹽酸、硫酸、檸檬酸及乙二酸組成的組中的一種。
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