[發明專利]金屬部件及其制造方法

在審

• 申請號: 201480053243.X
• 申請日: 2014-09-23
• 公開（公告）號: CN105764683A
• 公開（公告）日: 2016-07-13
• 發明（設計）人: 尹柱植
• 申請（專利權）人: 威斯科高新技術有限公司
• 主分類號: B32B15/08
• 分類號: B32B15/08;C23C22/00;C23C26/00;C23C28/00
• 代理公司: 北京同立鈞成知識產權代理有限公司 11205
• 代理人: 楊貝貝;臧建明

技術領域

本發明涉及適用于手機、筆記本及各種電子設備等的外殼(Case)、殼體(Housing)等(以下稱為“本體”)的金屬部件，尤其涉及一種對鎂、鎂合金、鋁、鋁合金、鈦、鈦合金、銅、銅合金、銀、銀合金等(以下稱為“金屬”)表面容易氧化的金屬材料進行表面處理形成不動態層(不動態層)在內的保護層、指紋防止層等使得具有金屬質感的同時，提高耐蝕性、耐指紋性，以及能夠屏蔽電磁波等的金屬部件。

背景技術

目前，由于鎂、鎂合金材料輕量且具有良好的電磁波屏蔽性及散熱性等，因此不僅用于各種電子產品或電子設備乃至計算機、筆記本電腦、攝像機、手機，還廣泛用于汽車、飛行器等多種領域。

但為了實用化具有氧化性高、耐蝕性低等問題的鎂或鎂合金等材料，必須專門進行表面處理才能夠確保各種內裝部件及外裝部件等的耐久性。

另外，韓國公開專利第2002-0077150號(2002年10月11日)公開的‘鎂合金用化學處理液、表面處理方法及鎂合金基材’(將其稱為‘文獻1’)已廣為人知。

參見上述文獻1，公開了一種特征在于含磷酸根離子及高錳酸根離子且pH為1.5至7，用于使鎂合金具有涂裝密著性、耐蝕性及防銹性的鎂合金用化學處理液及表面處理方法。

但根據這種現有方法，需要使化學處理液為強酸性處理條件即pH2.0至4.0范圍，例如，化學處理液的pH超過7的情況下高錳酸根離子的氧化力下降，因此覆膜析出量極度減少，覆膜再現可靠性下降，因此無法得到充分的耐蝕性及涂膜密著性。

發明內容

技術問題

為解決上述現有技術問題，本發明的目的在于提供一種通過表面處理在表面容易氧化的金屬構成的基材層形成不動態層(不動態層)及保護層，從而能夠提高耐蝕性等的金屬部件。

并且，本發明金屬部件的另一目的在于通過在基材層的表面形成多種形狀的結構物圖案使得具有金屬(Metal)質感。

并且，本發明金屬部件的又一目的在于通過在基材層上形成指紋防止層，防止沾染指紋或人體油脂等痕跡。

并且，本發明金屬部件的又一目的在于通過導電材料形成，從而通過屏蔽各種電子設備等發生的電磁波保護人體。

技術方案

根據用于解決本發明技術問題的金屬部件，其特征在于包括形成于基材層的一側表面的結構物圖案(pattern)。

并且，其特征在于包括形成于所述結構物圖案的不動態層(不動態層)及形成于所述不動態層上的涂膜形式的保護層。

并且，其特征在于包括形成于與所述保護層相對的所述基材層的另一側表面的不動態層。

根據用于解決本發明技術問題的另一金屬部件，其特征在于包括形成于基材層的一側表面的結構物圖案(pattern)。

并且，其特征在于包括形成于所述結構物圖案的不動態層(不動態層)及形成于所述不動態層上的保護層。

并且，其特征在于包括形成于所述保護層上的指紋防止層。

并且，其特征在于包括形成于與所述指紋防止層相對的所述基材層的另一側表面的不動態層。

另外，根據用于解決本發明技術問題的又一金屬部件，其特征在于包括形成于基材層的一側表面的結構物圖案(pattern)。

并且，其特征在于包括形成于所述結構物圖案的不動態層。

并且，其特征在于包括形成于與所述不動態層相對的所述基材層的另一側表面的不動態層。

并且，其特征在于包括形成于所述不動態層上的保護層。

另外，根據用于解決本發明技術問題的又一金屬部件，其特征在于包括形成于基材層的一側表面的結構物圖案(pattern)。

并且，其特征在于包括形成于所述結構物圖案的不動態層。

并且，其特征在于包括形成于與所述不動態層相對的所述基材層的另一側表面的不動態層。

并且，其特征在于包括形成于所述不動態層上的保護層及形成于形成有保護層的所述結構物圖案上的指紋防止層。

另外，根據用于解決本發明技術問題的金屬部件的制造方法，其特征在于包括在基材層的表面形成結構物圖案(pattern)的步驟。

并且，包括將所述基材層沉積到加熱至不動態處理熱溫度的不動態溶液的狀態下與所述不動態溶液反應形成不動態層的步驟。

并且，包括在所述不動態層上形成用于保護結構物圖案的保護層的步驟。

另外，根據用于解決本發明技術問題的金屬部件的另一制造方法，其特征在于包括在基材層的表面形成結構物圖案(pattern)的步驟。