[發明專利]偏振片的制造方法

在審

• 申請號: 201480052976.1
• 申請日: 2014-09-26
• 公開（公告）號: CN105579873A
• 公開（公告）日: 2016-05-11
• 發明（設計）人: 香川英章;沖和宏
• 申請（專利權）人: 富士膠片株式會社
• 主分類號: G02B5/30
• 分類號: G02B5/30;G02F1/1335;G02F1/13363;G02F1/1337;H01L51/50;H05B33/02
• 代理公司: 永新專利商標代理有限公司 72002
• 代理人: 陳建全

1.一種偏振片的制造方法，其包括以下工序(1)～(3)：

(1)準備包含臨時支撐體與含有光學各向異性層1及光學各向異性層2 的轉印體的轉印材料；

(2)剝離所述臨時支撐體，而使所述臨時支撐體與所述轉印體分離；以 及

(3)使所述轉印體粘接于包含起偏器的膜上，

其中，光學各向異性層1及光學各向異性層2均為由涂布于所述臨時支 撐體上的含有液晶化合物的聚合性組合物形成的層，

并且光學各向異性層1及光學各向異性層2均具有面內的延遲，光學各 向異性層1及光學各向異性層2的慢軸方向彼此相差3°～90°。

2.根據權利要求1所述的制造方法，其中，光學各向異性層2為由直接 涂布于光學各向異性層1上的含有液晶化合物的聚合性組合物形成的層。

3.根據權利要求1或2所述的制造方法，其中，光學各向異性層1為由 直接涂布于所述臨時支撐體上的含有液晶化合物的聚合性組合物形成的層。

4.根據權利要求1或2所述的制造方法，其中，光學各向異性層1為由 直接涂布于所述臨時支撐體上的取向層上的含有液晶化合物的聚合性組合物 形成的層。

5.根據權利要求1～4中任一項所述的制造方法，其依次包括工序(1)、 (2)、(3)。

6.根據權利要求5所述的制造方法，其中，使所述轉印體以通過所述剝 離所獲得的面粘接于包含起偏器的所述膜上。

7.根據權利要求1～4中任一項所述的制造方法，其依次包括工序(1)、 (3)、(2)，并且在工序(3)中，使所述轉印材料以相對于所述臨時支撐 體為所述轉印體側的面粘接于包含起偏器的所述膜上。

8.根據權利要求1～7中任一項所述的制造方法，其中，使包含起偏器 的所述膜中的所述起偏器直接粘接于所述轉印體上。

9.根據權利要求1～8中任一項所述的制造方法，其中，所述起偏器包 含改性或未改性聚乙烯醇。

10.根據權利要求1～9中任一項所述的制造方法，其中，所述轉印體與 包含起偏器的所述膜的所述粘接是使用包含改性或未改性聚乙烯醇的粘接劑 來進行。

11.根據權利要求1～10中任一項所述的制造方法，其中，在所述工序 (1)與工序(2)及(3)之間，包括將所述轉印材料裁剪至0.025m²以下的 工序。

12.根據權利要求1～11中任一項所述的制造方法，其中，所述臨時支 撐體包含聚酯。

13.根據權利要求12所述的制造方法，其中，所述臨時支撐體包含聚對 苯二甲酸乙二酯。

14.根據權利要求1～13中任一項所述的制造方法，其還包括通過包含 以下工序(11)～(14)的方法來獲得所述轉印材料：

(11)將含有液晶化合物的聚合性組合物涂布于所述臨時支撐體上；

(12)對工序(11)中所獲得的涂布層進行光照射或加熱來獲得光學各 向異性層1；

(13)將含有液晶化合物的聚合性組合物涂布于工序(12)中所獲得的 光學各向異性層1上；以及

(14)對工序(13)中所獲得的涂布層進行光照射或加熱來獲得光學各向 異性層2。