[發明專利]用于基于有機溶劑的雙性光致抗蝕劑的含磺酸酯的聚合物

有效

• 申請號: 201480052827.5
• 申請日: 2014-07-23
• 公開（公告）號: CN105723281B
• 公開（公告）日: 2019-10-01
• 發明（設計）人: R.阿約蒂;S.A.斯旺森;G.M.沃爾拉夫
• 申請（專利權）人: 國際商業機器公司;捷時雅株式會社
• 主分類號: G03F7/038
• 分類號: G03F7/038;G03F7/039;G03F7/32
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所 11105
• 代理人: 肖靖泉

1.一種方法，其包括：

制備包括有機溶劑能顯影的光致抗蝕劑聚合物的雙性化學增幅光致抗蝕劑組合物，其中所述光致抗蝕劑聚合物包括：

(i)由聚(4-羥基苯乙烯-共-甲基丙烯酸2-乙基-2-金剛烷基酯-共-2-羥基蒎基-3-(4-苯乙烯磺酸酯)表示的基于聚(羥基苯乙烯)的聚合物，并且酸不穩定的磺酸酯部分以5-10重量％的范圍存在于所述基于聚(羥基苯乙烯)的光致抗蝕劑聚合物中；

(ii)由聚(5-丙烯酰氧基-2,6-降莰烷內酯-共-甲基丙烯酸2-乙基-2-環戊基酯-共-2-羥基蒎基-3-(4-苯乙烯磺酸酯)或聚(甲基丙烯酸2-[1',1',1'-三氟-2'-(三氟甲基)-2'-羥基)丙基-3-降冰片基酯-共-甲基丙烯酸2-乙基-2-環戊基酯-共-5-丙烯酰氧基-2,6-降莰烷內酯-共-2-羥基蒎基-3-(4-苯乙烯磺酸酯)表示的基于內酯的聚合物，并且酸不穩定的磺酸酯部分以5-31重量％的范圍存在于所述基于內酯的光致抗蝕劑聚合物中；或者

(iii)由聚(甲基丙烯酸2-[1',1',1'-三氟-2'-(三氟甲基)-2'-羥基)丙基-3-降冰片基酯-共-甲基丙烯酸2-乙基-2-環戊基酯-共-2-羥基蒎基-3-(4-苯乙烯磺酸酯)表示的不含內酯的光致抗蝕劑聚合物，并且酸不穩定的磺酸酯部分以5-31重量％的范圍存在于所述不含內酯的光致抗蝕劑聚合物中。

2.權利要求1的方法，其中使用有機溶劑將化學增幅光致抗蝕劑顯影以在光致抗蝕劑膜中產生正性或負性圖像。

3.權利要求1的方法，其中將所述光致抗蝕劑聚合物與不含酸不穩定的磺酸酯部分的另外的聚合物共混，其中經共混的聚合物組合提升光致抗蝕劑的溶解反差。

4.權利要求2的方法，其中有機溶劑包括基于多元醇的正性顯影溶劑。

5.權利要求4的方法，其中使用基于多元醇的正性顯影溶劑將化學增幅光致抗蝕劑顯影以在抗蝕劑膜中產生正性圖像。

6.權利要求4的方法，其中基于多元醇的正性顯影溶劑是乙二醇。

7.權利要求4的方法，其中將基于多元醇的正性顯影溶劑與異丙醇組合。

8.權利要求2的方法，其中有機溶劑是基于乙酸酯或基于酮的負性顯影溶劑。

9.權利要求8的方法，其中使用基于乙酸酯或基于酮的負性顯影溶劑將化學增幅抗蝕劑顯影以在抗蝕劑膜中產生負性圖像。

10.權利要求9的方法，其中所述負性顯影溶劑選自甲基戊基酮、乙酸正丁酯、乙酸正戊酯、和乙基戊基酮、及其組合。