[發(fā)明專利]用于基于有機(jī)溶劑的雙性光致抗蝕劑的含磺酸酯的聚合物有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201480052827.5 | 申請(qǐng)日: | 2014-07-23 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN105723281B | 公開(kāi)(公告)日: | 2019-10-01 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | R.阿約蒂;S.A.斯旺森;G.M.沃爾拉夫 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 國(guó)際商業(yè)機(jī)器公司;捷時(shí)雅株式會(huì)社 |
| 主分類(lèi)號(hào): | G03F7/038 | 分類(lèi)號(hào): | G03F7/038;G03F7/039;G03F7/32 |
| 代理公司: | 北京市柳沈律師事務(wù)所 11105 | 代理人: | 肖靖泉 |
| 地址: | 美國(guó)紐*** | 國(guó)省代碼: | 美國(guó);US |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 用于 基于 有機(jī)溶劑 雙性光致抗蝕劑 含磺酸酯 聚合物 | ||
1.一種方法,其包括:
制備包括有機(jī)溶劑能顯影的光致抗蝕劑聚合物的雙性化學(xué)增幅光致抗蝕劑組合物,其中所述光致抗蝕劑聚合物包括:
(i)由聚(4-羥基苯乙烯-共-甲基丙烯酸2-乙基-2-金剛烷基酯-共-2-羥基蒎基-3-(4-苯乙烯磺酸酯)表示的基于聚(羥基苯乙烯)的聚合物,并且酸不穩(wěn)定的磺酸酯部分以5-10重量%的范圍存在于所述基于聚(羥基苯乙烯)的光致抗蝕劑聚合物中;
(ii)由聚(5-丙烯酰氧基-2,6-降莰烷內(nèi)酯-共-甲基丙烯酸2-乙基-2-環(huán)戊基酯-共-2-羥基蒎基-3-(4-苯乙烯磺酸酯)或聚(甲基丙烯酸2-[1',1',1'-三氟-2'-(三氟甲基)-2'-羥基)丙基-3-降冰片基酯-共-甲基丙烯酸2-乙基-2-環(huán)戊基酯-共-5-丙烯酰氧基-2,6-降莰烷內(nèi)酯-共-2-羥基蒎基-3-(4-苯乙烯磺酸酯)表示的基于內(nèi)酯的聚合物,并且酸不穩(wěn)定的磺酸酯部分以5-31重量%的范圍存在于所述基于內(nèi)酯的光致抗蝕劑聚合物中;或者
(iii)由聚(甲基丙烯酸2-[1',1',1'-三氟-2'-(三氟甲基)-2'-羥基)丙基-3-降冰片基酯-共-甲基丙烯酸2-乙基-2-環(huán)戊基酯-共-2-羥基蒎基-3-(4-苯乙烯磺酸酯)表示的不含內(nèi)酯的光致抗蝕劑聚合物,并且酸不穩(wěn)定的磺酸酯部分以5-31重量%的范圍存在于所述不含內(nèi)酯的光致抗蝕劑聚合物中。
2.權(quán)利要求1的方法,其中使用有機(jī)溶劑將化學(xué)增幅光致抗蝕劑顯影以在光致抗蝕劑膜中產(chǎn)生正性或負(fù)性圖像。
3.權(quán)利要求1的方法,其中將所述光致抗蝕劑聚合物與不含酸不穩(wěn)定的磺酸酯部分的另外的聚合物共混,其中經(jīng)共混的聚合物組合提升光致抗蝕劑的溶解反差。
4.權(quán)利要求2的方法,其中有機(jī)溶劑包括基于多元醇的正性顯影溶劑。
5.權(quán)利要求4的方法,其中使用基于多元醇的正性顯影溶劑將化學(xué)增幅光致抗蝕劑顯影以在抗蝕劑膜中產(chǎn)生正性圖像。
6.權(quán)利要求4的方法,其中基于多元醇的正性顯影溶劑是乙二醇。
7.權(quán)利要求4的方法,其中將基于多元醇的正性顯影溶劑與異丙醇組合。
8.權(quán)利要求2的方法,其中有機(jī)溶劑是基于乙酸酯或基于酮的負(fù)性顯影溶劑。
9.權(quán)利要求8的方法,其中使用基于乙酸酯或基于酮的負(fù)性顯影溶劑將化學(xué)增幅抗蝕劑顯影以在抗蝕劑膜中產(chǎn)生負(fù)性圖像。
10.權(quán)利要求9的方法,其中所述負(fù)性顯影溶劑選自甲基戊基酮、乙酸正丁酯、乙酸正戊酯、和乙基戊基酮、及其組合。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于國(guó)際商業(yè)機(jī)器公司;捷時(shí)雅株式會(huì)社,未經(jīng)國(guó)際商業(yè)機(jī)器公司;捷時(shí)雅株式會(huì)社許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買(mǎi)此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201480052827.5/1.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來(lái)源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 上一篇:柔性屏幕模組及具有該模組的電子裝置
- 下一篇:光掃描裝置及圖像形成裝置
- 同類(lèi)專利
- 專利分類(lèi)
G03F 圖紋面的照相制版工藝,例如,印刷工藝、半導(dǎo)體器件的加工工藝;其所用材料;其所用原版;其所用專用設(shè)備
G03F7-00 圖紋面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工藝;圖紋面照相制版用的材料,如:含光致抗蝕劑的材料;圖紋面照相制版的專用設(shè)備
G03F7-004 .感光材料
G03F7-12 .網(wǎng)屏印刷模或類(lèi)似印刷模的制作,例如,鏤花模版的制作
G03F7-14 .珂羅版印刷模的制作
G03F7-16 .涂層處理及其設(shè)備
G03F7-20 .曝光及其設(shè)備





