[發(fā)明專利]檢查系統(tǒng)有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201480052630.1 | 申請日: | 2014-06-17 |
| 公開(公告)號: | CN105723208B | 公開(公告)日: | 2019-01-08 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 內(nèi)田練;石川真治;齋藤仁;尾上毅;案野宏隆;佐藤剛 | 申請(專利權(quán))人: | 夏普株式會社 |
| 主分類號: | G01N21/95 | 分類號: | G01N21/95 |
| 代理公司: | 北京尚誠知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11322 | 代理人: | 龍淳;池兵 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 檢查 系統(tǒng) 方法 可讀 記錄 介質(zhì) | ||
1.一種檢查多個發(fā)光元件的光學(xué)特性和電特性的檢查系統(tǒng),其特征在于:
具有控制部,該控制部基于合成以下數(shù)據(jù)而得到的信息來控制制作關(guān)于每個等級的發(fā)光元件組的信息:對每規(guī)定數(shù)量的發(fā)光元件進行抽樣檢查而得到的多個發(fā)光元件的光學(xué)特性值;基于該抽樣檢查得到的多個光學(xué)特性值,通過插補運算求出的未檢查的多個發(fā)光元件的光學(xué)特性值;和對基板整個面的多個發(fā)光元件全部檢查該電特性而得到的合格與否信息以及各個電特性值,
所述控制部包括:
抽樣檢查部,其收集對每規(guī)定數(shù)量的發(fā)光元件進行抽樣檢查而得到的多個發(fā)光元件的光學(xué)特性值;
檢查插補部,其使用規(guī)定的插補法,基于該抽樣檢查得到的多個發(fā)光元件的光學(xué)特性值,求出未進行該抽樣檢查的未檢查的多個發(fā)光元件的光學(xué)特性值;
合格與否判斷部,其分別進行對基板整個面的多個發(fā)光元件全部檢查而得到的多個所述電特性的合格與否判斷,獲得該多個電特性的合格與否信息;和
等級劃分部,其基于將該抽樣檢查部收集的多個發(fā)光元件的光學(xué)特性值、該檢查插補部求出的未檢查的多個發(fā)光元件的光學(xué)特性值、該多個電特性的合格與否信息和各個電特性值合成而得到的圖像信息,制作所述關(guān)于每個等級的發(fā)光元件組的信息,
在所述發(fā)光元件的電特性的全部檢查中進行多個發(fā)光元件的同時測量,
所述等級劃分部根據(jù)所述抽樣檢查部收集的光學(xué)特性值和所述檢查插補部求出的光學(xué)特性值,獲得除去與電特性的不合格數(shù)據(jù)對應(yīng)的光學(xué)特性值后的光學(xué)特性值,對具有該光學(xué)特性值的發(fā)光元件進行等級劃分,
在所述基板設(shè)定包含規(guī)定數(shù)量的發(fā)光元件的單位抽樣區(qū)域和與所述單位抽樣區(qū)域相鄰且包含規(guī)定數(shù)量的發(fā)光元件的相鄰區(qū)域,
基于所述抽樣檢查部收集的所述單位抽樣區(qū)域內(nèi)的發(fā)光元件的光學(xué)特性值相對于所述抽樣檢查部收集的所述相鄰區(qū)域內(nèi)的發(fā)光元件的光學(xué)特性值的比率,判斷所述抽樣檢查部收集的所述單位抽樣區(qū)域內(nèi)的發(fā)光元件的光學(xué)特性值是否需要校正,
在所述抽樣檢查部收集的所述單位抽樣區(qū)域內(nèi)的發(fā)光元件的光學(xué)特性值相對于所述抽樣檢查部收集的所述相鄰區(qū)域內(nèi)的發(fā)光元件的光學(xué)特性值的比率小于規(guī)定基準(zhǔn)值的情況下,所述檢查插補部使用所述抽樣檢查部收集的所述相鄰區(qū)域內(nèi)的發(fā)光元件的光學(xué)特性值,對所述單位抽樣區(qū)域內(nèi)的發(fā)光元件的光學(xué)特性值進行校正,基于校正后的所述光學(xué)特性值,求出所述抽樣檢查部未檢查的所述單位抽樣區(qū)域內(nèi)的發(fā)光元件的光學(xué)特性值。
2.如權(quán)利要求1所述的檢查系統(tǒng),其特征在于:
在所述抽樣檢查部收集的所述單位抽樣區(qū)域內(nèi)的發(fā)光元件的光學(xué)特性值相對于所述抽樣檢查部收集的所述相鄰區(qū)域內(nèi)的發(fā)光元件的光學(xué)特性值的比率為規(guī)定基準(zhǔn)值以上的情況下,所述檢查插補部基于所述抽樣檢查部收集的所述單位抽樣區(qū)域內(nèi)的發(fā)光元件的光學(xué)特性值,求出所述抽樣檢查部未檢查的所述單位抽樣區(qū)域內(nèi)的發(fā)光元件的光學(xué)特性值。
3.如權(quán)利要求1所述的檢查系統(tǒng),其特征在于:
所述相鄰區(qū)域包含:
在X軸方向上與所述單位抽樣區(qū)域相鄰的X軸方向相鄰區(qū)域;和
在與所述X軸方向垂直的Y軸方向上與所述單位抽樣區(qū)域相鄰的Y軸方向相鄰區(qū)域,
在對所述抽樣檢查部收集的所述單位抽樣區(qū)域內(nèi)的發(fā)光元件的光學(xué)特性值進行校正的情況下,
使用與以下兩個差中的較小一方的差對應(yīng)的所述抽樣檢查部收集的相鄰區(qū)域內(nèi)的發(fā)光元件的光學(xué)特性值:所述抽樣檢查部收集的所述單位抽樣區(qū)域內(nèi)的發(fā)光元件的光學(xué)特性值與所述抽樣檢查部收集的所述X軸方向相鄰區(qū)域內(nèi)的發(fā)光元件的光學(xué)特性值的比率彼此之差;所述抽樣檢查部收集的所述單位抽樣區(qū)域內(nèi)的發(fā)光元件的光學(xué)特性值與所述抽樣檢查部收集的所述Y軸方向相鄰區(qū)域內(nèi)的發(fā)光元件的光學(xué)特性值的比率彼此之差。
4.如權(quán)利要求1所述的檢查系統(tǒng),其特征在于:
對測定所述光學(xué)特性的步驟和測量所述電特性的步驟進行處理流程的分離,并且在各步驟中使用與測量的內(nèi)容相應(yīng)的設(shè)備進行檢查。
5.如權(quán)利要求1所述的檢查系統(tǒng),其特征在于:
在所述抽樣檢查部收集光學(xué)特性值的情況下,在所述基板設(shè)定有:位于所述基板的中央部的包含規(guī)定數(shù)量的發(fā)光元件的第一單位抽樣區(qū)域;和位于所述基板的周邊部的包含與第一單位抽樣區(qū)域包含的發(fā)光元件的數(shù)量不同的數(shù)量的發(fā)光元件的第二單位抽樣區(qū)域。
6.如權(quán)利要求5所述的檢查系統(tǒng),其特征在于:
所述第一單位抽樣區(qū)域的等級變動比所述第二單位抽樣區(qū)域的等級變動小,
所述第一單位抽樣區(qū)域包含的發(fā)光元件的數(shù)量比所述第二單位抽樣區(qū)域包含的發(fā)光元件的數(shù)量多。
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G01N 借助于測定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來測試或分析材料
G01N21-00 利用光學(xué)手段,即利用紅外光、可見光或紫外光來測試或分析材料
G01N21-01 .便于進行光學(xué)測試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測試的材料在其中被激發(fā),因之引起材料發(fā)光或入射光的波長發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng),測試反應(yīng)的進行或結(jié)果
G01N21-84 .專用于特殊應(yīng)用的系統(tǒng)





