[發(fā)明專利]嵌入有無(wú)源組件的加勁襯在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201480052414.7 | 申請(qǐng)日: | 2014-09-26 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN105580132A | 公開(kāi)(公告)日: | 2016-05-11 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | D·W·金;K-P·黃;Y·K·宋;C·H·尹 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 高通股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L23/16 | 分類號(hào): | H01L23/16;H01L23/00 |
| 代理公司: | 上海專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 31100 | 代理人: | 周敏 |
| 地址: | 美國(guó)加利*** | 國(guó)省代碼: | 美國(guó);US |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 嵌入 無(wú)源 組件 加勁 | ||
1.一種形成用于半導(dǎo)體封裝的加勁襯的方法,所述方法包括:
在加勁襯中形成凹槽;
在所述凹槽內(nèi)嵌入無(wú)源組件;以及
將具有所述嵌入的無(wú)源組件的所述加勁襯附連至基板的第一表面。
2.如權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,進(jìn)一步包括,在所述凹槽的第 二表面上形成鈍化層。
3.如權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,所述無(wú)源組件是高密度電容器。
4.如權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,所述加勁襯使用各向異性導(dǎo)電 膜(ACF)或各向異性導(dǎo)電糊劑(ACP)附連至所述基板的所述第一表面。
5.如權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,所述加勁襯由鋁或銅制成,并 且所述凹槽通過(guò)沖壓工藝形成。
6.如權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,所述加勁襯由陶瓷制成,并且 所述凹槽通過(guò)燒結(jié)工藝形成。
7.如權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,所述加勁襯的在所述凹槽之外 的主體部分、和所述凹槽由連續(xù)材料形成。
8.如權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,進(jìn)一步包括,在所述基板的所 述第一表面上形成半導(dǎo)體管芯,其中所述加勁襯被成形為所述基板的所述第一表面 上的半導(dǎo)體管芯周圍的外環(huán)。
9.如權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,進(jìn)一步包括,在所述無(wú)源組件 中形成導(dǎo)線以及將所述導(dǎo)線連接至從所述基板導(dǎo)出的電力線和接地連接。
10.如權(quán)利要求9所述的方法,其特征在于,進(jìn)一步包括,在將具有所述嵌 入的無(wú)源組件的所述加勁襯附連至所述基板的所述第一表面之前,確定所述無(wú)源組 件在所述凹槽內(nèi)的放置以及設(shè)計(jì)配電網(wǎng)(PDN)。
11.如權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,所述加勁襯被配置成保護(hù)所述 封裝不翹曲。
12.如權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,所述加勁襯的水平區(qū)域被包含 在所述基板的所述第一表面的水平邊界內(nèi)。
13.一種半導(dǎo)體封裝,包括:
基板;
加勁襯,其附連至所述基板的第一表面,其中所述加勁襯包括凹槽;以及
無(wú)源組件,其被嵌入在所述凹槽內(nèi)。
14.如權(quán)利要求13所述的半導(dǎo)體封裝,其特征在于,進(jìn)一步包括,在所述 凹槽的第二表面上的鈍化層。
15.如權(quán)利要求13所述的半導(dǎo)體封裝,其特征在于,所述無(wú)源組件是高密 度電容器。
16.如權(quán)利要求13所述的半導(dǎo)體封裝,其特征在于,所述加勁襯使用各向 異性導(dǎo)電膜(ACF)或各向異性導(dǎo)電糊劑(ACP)附連至所述基板的所述第一表面。
17.如權(quán)利要求13所述的半導(dǎo)體封裝,其特征在于,所述加勁襯由鋁或銅 制成,并且所述凹槽通過(guò)沖壓工藝形成。
18.如權(quán)利要求13所述的半導(dǎo)體封裝,其特征在于,所述加勁襯由陶瓷制 成,并且所述凹槽通過(guò)燒結(jié)工藝形成。
19.如權(quán)利要求13所述的半導(dǎo)體封裝,其特征在于,所述加勁襯的在所述 凹槽之外的主體部分、和所述凹槽由連續(xù)材料形成。
20.如權(quán)利要求13所述的半導(dǎo)體封裝,其特征在于,進(jìn)一步包括在所述基 板的所述第一表面上形成的半導(dǎo)體管芯,其中所述加勁襯被成形為所述基板的所述 第一表面上的所述半導(dǎo)體管芯周圍的外環(huán)。
21.如權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體封裝,其特征在于,進(jìn)一步包括耦合至所述 無(wú)源組件的導(dǎo)線,其中所述導(dǎo)線連接至從所述基板導(dǎo)出的電力線和接地連接。
22.如權(quán)利要求13所述的半導(dǎo)體封裝,其特征在于,所述加勁襯被配置成 保護(hù)所述封裝不翹曲。
23.如權(quán)利要求13所述的半導(dǎo)體封裝,其特征在于,所述加勁襯的水平區(qū) 域被包含在所述基板的所述第一表面的水平邊界內(nèi)。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于高通股份有限公司,未經(jīng)高通股份有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買(mǎi)此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201480052414.7/1.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來(lái)源鉆瓜專利網(wǎng)。





