[發明專利]薄膜的制造方法、透明導電膜

在審

• 申請號: 201480052051.7
• 申請日: 2014-10-22
• 公開（公告）號: CN105555424A
• 公開（公告）日: 2016-05-04
• 發明（設計）人: 西康孝;中積誠
• 申請（專利權）人: 株式會社尼康
• 主分類號: B05D7/24
• 分類號: B05D7/24;B05D1/12;B05D3/06;C01G9/02;C01G19/00;H01B5/14;H01B13/00
• 代理公司: 北京三友知識產權代理有限公司 11127
• 代理人: 龐東成;褚瑤楊

1.一種薄膜的制造方法，其中，其具有：

使含有微粒的分散液霧化的霧化工序；

將經霧化的所述分散液供給至基板的供給工序；

使供給至所述基板上的所述分散液干燥的干燥工序。

2.如權利要求1所述的薄膜的制造方法，其中，所述經霧化的分散液中所含有 的微粒的粒徑為100nm以下。

3.如權利要求1或2所述的薄膜的制造方法，其中，所述基板含有樹脂，具有 可撓性。

4.如權利要求1至3中任一項所述的薄膜的制造方法，其中，所述干燥工序在 低于所述基板的軟化點的溫度下進行。

5.如權利要求4所述的薄膜的制造方法，其中，所述干燥工序在10℃以上40℃ 以下的溫度下進行。

6.如權利要求1至5中任一項所述的薄膜的制造方法，其中，

其具備在所述基板上形成由親水部與斥水部構成的圖案的親斥水圖案形成工序，

對利用所述親斥水圖案形成工序形成有所述親斥水圖案的基板進行所述供給工 序。

7.如權利要求1至6中任一項所述的薄膜的制造方法，其中，

在所述干燥工序之后，具備對于所述基板照射紫外線的紫外線照射工序，

對于經所述紫外線照射工序照射紫外線的所述基板，再次進行所述供給工序。

8.如權利要求7所述的薄膜的制造方法，其中，

在所述供給工序中，所述紫外線照射工序前供給的所述霧中所含的所述微粒與所 述紫外線照射工序后供給的所述霧中所含的所述微粒不同。

9.如權利要求7或8所述的薄膜的制造方法，其中，

在所述紫外線照射工序照射的紫外線至少包含200nm以下的波長。

10.如權利要求1至9中任一項所述的薄膜的制造方法，其中，

在所述供給工序中，所述基板相對于水平面傾斜。

11.如權利要求1至10中任一項所述的薄膜的制造方法，其中，

在所述供給工序中，所述基板相對于與所述供給方向正交的面傾斜。

12.如權利要求1至11中任一項所述的薄膜的制造方法，其中，所述微粒為含 有銦、鋅、錫和鈦的任一種的金屬氧化物微粒。

13.一種透明導電膜，其是利用權利要求12所述的薄膜的制造方法進行制造的。